在光阻释气期间用于改进注入均匀性的方法

    公开(公告)号:CN103098167A

    公开(公告)日:2013-05-08

    申请号:CN201180012345.3

    申请日:2011-03-04

    Inventor: 佐藤秀

    Abstract: 本发明提供一种用于改进经历沿着束线的压力增加的离子束的注入均匀性的方法及装置。该方法包括产生以基本上恒定的速度横越工件来移动离子束的主扫描波形。也产生具有固定高度和波形的补偿波形(例如,二次波形),且将该补偿波形与主扫描波形混合(例如,通过可变混频器)以形成束扫描波形。可通过瞬时真空压力信号来调节混合比率,与连续修改扫描波形相比较,该调节可以以高很多的速度执行且更简单。该混合提供包括非恒定斜率的束扫描波形,该非恒定斜率在离子束横越工件移动时改变离子束的速度。因此,具有非恒定斜率的所获得的束扫描波形能够解决沿着快速扫描方向的剂量中的压力非均匀性问题。

    通用射束干扰侦测系统
    13.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103026450A

    公开(公告)日:2013-04-03

    申请号:CN201180036894.4

    申请日:2011-07-27

    Inventor: 佐藤秀

    Abstract: 本发明以允许的剂量均匀度、一工作件穿过一离子射束的通过次数、移动速度、以及射束尺寸为基础来决定一干扰时间持续长度临界值。一射束下降检查标准程序会在注入期间重复地测量射束电流。每一次射束电流足够时一射束下降计数器便会被重置。在射束下降第一次出现时,计数器会递增而且该工作件的位置会被记录。每一次后续测量时,倘若射束下降继续则该计数器便会递增,或是倘若该射束足够的话该计数器便会被重置。因此,该计数器会以和测量时间区间相关联的单位来表示每一个下降的长度。该注入标准程序仅在该计数器超过该干扰时间持续长度临界值时才会停止,并且实施修补标准程序,其包括以该工作件少一次移动穿过该射束为基础来重新计算该干扰时间持续长度临界值,并且实施从该已储存位置处开始的注入标准程序。

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