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公开(公告)号：CN100347108C
公开(公告)日：2007-11-07
申请号：CN200510062740.9
申请日：2005-03-29
Applicant: HOYA株式会社
IPC: C03B11/00
CPC classification number: Y02P40/57
Abstract: 本发明提供一种模压成型装置，其通过具有相互对向的成型面(11、21)的上模(10)和下模(20)对成型坯料进行压制成型，并且具有向上述下模(20)上落下供给成型坯料的成型坯料供给机构(30)；和在成型坯料被落下供给到下模(20)上时，在成型坯料的落下路径上控制其姿势的引导机构(50)。该引导机构(50)，通过使落下过程中的成型坯料暂时静止，之后再落下，防止成型坯料的反转。据此，在向下模上落下供给成型坯料时，可以防止成型坯料上下反转。
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公开(公告)号：CN1834046A
公开(公告)日：2006-09-20
申请号：CN200610067887.1
申请日：2006-03-14
Applicant: HOYA株式会社
IPC: C03B11/08
CPC classification number: C03B11/08 , C03B11/02 , C03B2215/60 , C03B2215/72 , Y02P40/57
Abstract: 一种模压成形装置、其压头以及光学元件的制造方法。在压制成形模(1)的压制时，首先通过第一压头(11)将主体模(4)压接在下模(2)的凸缘(22)的承受面(23)(基准面)上，来进行主体模(4)和下模(2)的相互定位。在保持该定位状态的状态下，由第二压头(12)向上模(3)施加载荷来对成形坯材(W)进行压制成形。在成形坯材(W)的压制成形时，无倾斜地固定主体模(4)、下模(2)，且使其压接的第一压头(11)也被固定，从而通过由第一压头(11)引导的第二压头(12)无倾斜地按压上模(3)。由此，能够可靠地抑制上下模(3、2)的相对倾斜的发生，能够制造具有高形状精度的光学元件。
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公开(公告)号：CN1772668A
公开(公告)日：2006-05-17
申请号：CN200510107537.9
申请日：2005-09-27
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: C03B11/08 , C03B2215/61
Abstract: 一种模压成形装置及光学元件的制造方法，该模压成形装置具备在成形面(41)具有凸面的下模(40)、和对置配置在其上方的上模(10)，将配置到下模(40)上的成形素材(PF)在加热软化了的状态下进行冲压成形，在下模成形面(41)周围设置支承成形素材(PF)的下面侧周边部的下环(50)，同时将由该下环(50)支承的成形素材(PF)的周边部外侧作为开放空间，从而，使成形素材(PF)的周缘部成为自由端。因此，在向具有凸面的下模上供给成形素材之际，在成形素材的形状、预成形方法、供给方法、位置修正方法等方面具有自由度且能够将成形素材支承在下模上。
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公开(公告)号：CN1840490B
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：CN200610067999.7
申请日：2006-03-29
Applicant: HOYA株式会社
IPC: C03B11/00
Abstract: 本发明公开一种模块冲压装置，备有：多个处理部；固定支撑台(60)，其设于各个所述处理部；以及移送装置(70)，其备有对包含着收置有成形原材料的成形模的成形块(50)进行移送的托架(71a、71b)，并对成形原材料进行冲压成形，从而制造模压成形品。托架(71a、71b)使由固定支撑台(60)所支撑的成形块(50)多个同时地从固定支撑台(60)离开，并移送到下一个处理部，并将成形块(50)配置于该处理部的固定支撑台(60)。
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公开(公告)号：CN1772668B
公开(公告)日：2010-08-18
申请号：CN200510107537.9
申请日：2005-09-27
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: C03B11/08 , C03B2215/61
Abstract: 一种模压成形装置及光学元件的制造方法，该模压成形装置具备在成形面(41)具有凸面的下模(40)、和对置配置在其上方的上模(10)，将配置到下模(40)上的成形素材(PF)在加热软化了的状态下进行冲压成形，在下模成形面(41)周围设置支承成形素材(PF)的下面侧周边部的下环(50)，同时将由该下环(50)支承的成形素材(PF)的周缘部外侧作为开放空间，从而，使成形素材(PF)的周缘部成为自由端。因此，在向具有凸面的下模上供给成形素材之际，在成形素材的形状、预成形方法、供给方法、位置修正方法等方面具有自由度且能够将成形素材支承在下模上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101038751B
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN200710086303.X
申请日：2004-01-30
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G11B5/62
CPC classification number: C03C3/083 , G11B5/7315 , G11B5/8404
Abstract: 一种信息记录介质基片，其由玻璃或者结晶玻璃制成，(1)具有光谱透射率为50％或更小的范围，根据在2,750nm-3,700nm波长范围内厚度为2mm换算而得。(2)其光谱透射率为70％或更小，根据在整个2,750nm-3,700nm波长范围厚度为2mm换算而得。(3)其含有红外线吸收剂，该吸收剂是一种特定金属的氧化物，且其用于垂直磁记录介质。(4)其将被红外线辐射加热并且含水大于200ppm，或(5)其含有红外线吸收剂，该吸收剂一种特定金属的氧化物，且其用作承载多层薄膜的基片，该多层薄膜含有信息记录层，该信息记录层将在利用红外线辐射加热后通过溅射形成，一种信息记录介质包含多层薄膜，该多层薄膜含有形成在任一上述基片上的信息记录层，以及一种信息记录介质的制造方法。
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公开(公告)号：CN101038751A
公开(公告)日：2007-09-19
申请号：CN200710086303.X
申请日：2004-01-30
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G11B5/62
CPC classification number: C03C3/083 , G11B5/7315 , G11B5/8404
Abstract: 一种信息记录介质基片，其由玻璃或者结晶玻璃制成，(1)具有光谱透射率为50％或更小的范围，根据在2,750nm－3,700nm波长范围内厚度为2mm换算而得。(2)其光谱透射率为70％或更小，根据在整个2,75nm－3,700nm波长范围厚度为2mm换算而得。(3)其含有红外线吸收剂，该吸收剂是一种特定金属的氧化物，且其用于垂直磁记录介质。(4)其将被红外线辐射加热并且含水大于200ppm，或(5)其含有红外线吸收剂，该吸收剂一种特定金属的氧化物，且其用作承载多层薄膜的基片，该多层薄膜含有信息记录层，该信息记录层将在利用红外线辐射加热后通过溅射形成，一种信息记录介质包含多层薄膜，该多层薄膜含有形成在任一上述基片上的信息记录层，以及一种信息记录介质的制造方法。
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公开(公告)号：CN1824617A
公开(公告)日：2006-08-30
申请号：CN200610005915.7
申请日：2006-01-19
Applicant: HOYA株式会社
IPC: C03B11/06
CPC classification number: C03B11/08 , C03B11/02 , C03B2215/47 , C03B2215/50 , C03B2215/60 , C03B2215/61 , C03B2215/65 , Y02P40/57
Abstract: 本发明公开一种模压成形模，其中由设置于下模(20)的成形面(21)的周围的支撑构件(40)支撑成形原料(50)的下面周边部，并在由支撑构件(40)所支撑的成形原料(50)的周缘部外方确保开放空间，而在上模(10)和下模(20)之间对成形原料(50)冲压成形。
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公开(公告)号：CN1807298B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200610005917.6
申请日：2006-01-19
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 山中贤治
IPC: C03B11/06
CPC classification number: C03B11/02 , C03B11/08 , C03B2215/47 , C03B2215/50 , C03B2215/60 , C03B2215/61 , C03B2215/65 , Y02P40/57
Abstract: 本发明公开一种模压成形模，其通过第一鼓模(30)，限制能够从其两端侧插入的上模(10)和下模(20)的水平方向的相对位置，并通过收纳在第一鼓模(30)内且包围下模(20)的成形面(21)的外周的第二鼓模(40)，支撑被载置于下模(20)的成形面(21)上的成形原料(50)的外周部的至少一部分，而防止成形原料(50的位置偏移和滑落，从而在上模(10)和下模(20)之间对成形原料(50)冲压成形。
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公开(公告)号：CN1314004C
公开(公告)日：2007-05-02
申请号：CN200410030291.5
申请日：2004-01-30
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G11B5/62
CPC classification number: C03C3/083 , G11B5/7315 , G11B5/8404
Abstract: 一种信息记录介质基片，其由玻璃或者结晶玻璃制成，(1)其具有光谱透射率为50%或更小的范围，根据在2，750nm-3，700nm波长范围内厚度为2mm换算而得。(2)其光谱透射率为70%或更小，根据在整个2，750nm-3，700nm波长范围厚度为2mm换算而得。(3)其含有红外线吸收剂，该吸收剂是一种特定金属的氧化物，且其用于垂直磁记录介质。(4)其将被红外线辐射加热并且含水大于200ppm，或(5)其含有红外线吸收剂，该吸收剂一种特定金属的氧化物，且其用作承载多层薄膜的基片，该多层薄膜含有信息记录层，该信息记录层将在利用红外线辐射加热后通过溅射形成，一种信息记录介质包含多层薄膜，该多层薄膜含有形成在任一上述基片上的信息记录层，以及一种信息记录介质的制造方法。
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