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公开(公告)号：CN110709364A
公开(公告)日：2020-01-17
申请号：CN201880033482.7
申请日：2018-05-15
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供不会损害防反射效果且具备防雾性的带有亲水性防反射膜的透镜及其制造方法。带有亲水性防反射膜的透镜的特征在于，在玻璃透镜的表面上至少具有按照底膜以及亲水性膜的顺序层叠而成的亲水性防反射膜，底膜由选自ZrO2、MgF2、Ta2O5、Nb2O5、以及Y2O3的单层等形成，膜厚为1nm以上30nm以下，亲水性膜在底膜的表面上，通过由TiO2以及Ti3O5中的至少一者构成的氧化钛、或者由TiN构成的氮化钛的单层、或者含有50％以上的氧化钛以及氮化钛中的至少一者的混合层形成，膜厚为1nm以上30nm以下。
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公开(公告)号：CN110691995A
公开(公告)日：2020-01-14
申请号：CN201880024875.1
申请日：2018-04-13
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供一种同时具有亲水性和防反射功能的光学薄膜。在作为光学薄膜的多层膜(102)中，最上层的膜是作为多孔膜的亲水性膜(111)。最上层的下一层的膜是作为致密膜的底膜(122)。亲水性膜(111)的气孔率为2％以上20％以下，亲水性膜(111)的物理膜厚为0.5nm以上20nm以下。底膜(122)的气孔率不足2％。
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公开(公告)号：CN104321670B
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：CN201380024718.8
申请日：2013-05-15
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G02B1/10 , C23C14/081 , C23C14/32 , G02B1/115
Abstract: 本发明的光学元件(1)具有光学薄膜(20)。光学薄膜(20)具有氧化铝层(21)，该氧化铝层(21)以氧化铝为主要成分、且具有根据光学膜厚(nd)和中心波长(λ0)规定的0.010以上2.00以下的范围的光学薄膜系数(x)，在中心波段的同一波长中，常温时的第1反射率(R1)和加热时的第2反射率(R2)的偏移量为0.50％以下。
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公开(公告)号：CN104164650A
公开(公告)日：2014-11-26
申请号：CN201410203311.8
申请日：2014-05-14
Applicant: HOYA株式会社
IPC: C23C14/28
Abstract: 本发明提供薄膜形成装置和薄膜形成方法，该装置能够在成膜对象部件的表面形成致密薄膜，其用于使蒸镀材料蒸镀在玻璃基板(2)的表面而在玻璃基板(2)的表面形成薄膜，具备安装有玻璃基板(2)的保持部件(10)；使蒸镀材料蒸发的蒸发部(8)及朝向保持部件(10)对从蒸发部(8)蒸发出的蒸镀材料中照射离子束的离子枪(6)，离子枪(6)包括阳极(26)和阴极(22)；向阳极(26)和阴极(22)之间供给气体并产生等离子体的等离子体供给单元及分别对阳极(26)和阴极(22)施加电压以便在它们之间产生电位差的阳极电源(28)和阴极电源(24)，阴极(22)具有与阴极电源(24)并联连接的2个以上灯丝(22A)。
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公开(公告)号：CN104066867A
公开(公告)日：2014-09-24
申请号：CN201280065431.5
申请日：2012-12-28
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G02B1/11 , C23C14/04 , C23C14/08 , C23C14/10 , C23C14/34 , C23C28/04 , G02B1/115 , G02B3/04
Abstract: 在被成膜材(3)的曲面状表面(3a)上形成光学薄膜(14)时，对于作为处理室(2)内的空间的一部分的配置部(4)和靶材(5)之间的特定空间(8)，预先利用遮蔽部(9)来包围该特定空间(8)。若在该状态下利用下述溅射工序进行成膜，则在曲面状表面上形成有光学膜厚实质相同的光学薄膜，所述溅射工序中，在为真空状态且供给有活性气体以及惰性气体的处理室(2)内对靶材(5)施加电压。
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