公开(公告)号：CN113913156A

公开(公告)日：2022-01-11

申请号：CN202111254736.8

申请日：2018-10-31

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 泷泽利雄

IPC: C09K3/14 ,  B24B1/00 ,  B24B37/02 ,  B24B37/04 ,  G11B5/84

Abstract: 本发明涉及研磨液、玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法，在通过激光衍射/散射法对研磨液中包含的氧化铈求出的粒度分布中，将从小粒径侧起的累积颗粒体积达到全部颗粒体积的x[％]时的粒径设为Dx[μm]时，D5为1μm以下，D95与D5之差为3μm以上。

公开(公告)号：CN107093433B

公开(公告)日：2018-10-16

申请号：CN201610849530.2

申请日：2013-06-28

Applicant: HOYA株式会社 ,  HOYA玻璃磁盘越南第二公司

Inventor： 板谷旬展 ,  越阪部基延 ,  泷泽利雄

IPC: G11B5/73 ,  G11B5/82

Abstract: 本发明提供磁盘用玻璃基板及其制造方法、磁盘及其制造方法。所述制造方法具有研磨处理，在该研磨处理中，利用一对研磨垫夹着玻璃基板，一边向所述研磨垫和所述玻璃基板之间供给含有研磨粒的研磨液一边使其相对地滑动，由此对所述玻璃基板的主表面进行研磨，关于所述磁盘用玻璃基板，在以大概10nm的间隔取得了主表面的斜率的样本的情况下，斜率的平方的平均值在0.0025以下、且斜率的平方的值在0.004以上的频次在15％以下。

公开(公告)号：CN107093433A

公开(公告)日：2017-08-25

申请号：CN201610849530.2

申请日：2013-06-28

Applicant: HOYA株式会社 ,  HOYA玻璃磁盘越南第二公司

Inventor： 板谷旬展 ,  越阪部基延 ,  泷泽利雄

IPC: G11B5/73 ,  G11B5/82

CPC classification number: G11B5/7315 ,  G11B5/82

Abstract: 本发明提供磁盘用玻璃基板及其制造方法、磁盘及其制造方法。所述制造方法具有研磨处理，在该研磨处理中，利用一对研磨垫夹着玻璃基板，一边向所述研磨垫和所述玻璃基板之间供给含有研磨粒的研磨液一边使其相对地滑动，由此对所述玻璃基板的主表面进行研磨，关于所述磁盘用玻璃基板，在以大概10nm的间隔取得了主表面的斜率的样本的情况下，斜率的平方的平均值在0.0025以下、且斜率的平方的值在0.004以上的频次在15％以下。