公开(公告)号：CN101356574A

公开(公告)日：2009-01-28

申请号：CN200780001229.5

申请日：2007-03-16

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 泷泽利雄 ,  舆水智 ,  丸茂吉典 ,  片桐诚宏

IPC: G11B5/84 ,  G11B5/706 ,  G11B5/73 ,  G11B5/667 ,  C03C19/00

CPC classification number: B24B7/241 ,  C03C19/00 ,  C03C23/0075 ,  G11B5/8404

Abstract: 提供一种磁盘用玻璃衬底的制造方法和磁盘的制造方法，在使研磨垫与玻璃衬底的表面接触的同时对玻璃衬底的表面供给含有研磨砂粒的研磨液以进行玻璃衬底的镜面研磨时，在将研磨液的pH维持为既定的范围内的状态或控制了研磨液的凝集度或分散度的状态下进行。由此，可维持镜面研磨加工速度，同时可得到具有良好的端部形状的玻璃衬底。

公开(公告)号：CN114269699B

公开(公告)日：2024-01-19

申请号：CN202080057696.5

申请日：2020-08-20

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 泷泽利雄 ,  东修平

IPC: C03B29/02 ,  C03C23/00 ,  G11B5/84

Abstract: 对圆板形状的玻璃板的端面进行倒角加工的倒角处理具备下述步骤：按照上述玻璃板的一部分配置于加热上述玻璃板的加热空间内、剩余部分配置于上述加热空间的外部的方式配置上述玻璃板的步骤；一边使上述玻璃板绕上述玻璃板的中心单向旋转，一边在上述加热空间的外部对上述玻璃板的端面的圆周上的一部分照射激光，使上述端面的一部分软化，加热通过上述旋转而到达上述加热空间的上述端面的软化部分的步骤。

公开(公告)号：CN104647156A

公开(公告)日：2015-05-27

申请号：CN201510053574.X

申请日：2007-03-16

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 泷泽利雄 ,  舆水智 ,  丸茂吉典 ,  片桐诚宏

IPC: B24B7/24 ,  G11B5/84

CPC classification number: B24B7/241 ,  C03C19/00 ,  C03C23/0075 ,  G11B5/8404

Abstract: 提供一种磁盘用玻璃衬底的制造方法和磁盘的制造方法，在使研磨垫与玻璃衬底的表面接触的同时对玻璃衬底的表面供给含有研磨砂粒的研磨液以进行玻璃衬底的镜面研磨时，在将研磨液的pH维持为既定的范围内的状态或控制了研磨液的凝集度或分散度的状态下进行。由此，可维持镜面研磨加工速度，同时可得到具有良好的端部形状的玻璃衬底。

公开(公告)号：CN113913156B

公开(公告)日：2022-06-24

申请号：CN202111254736.8

申请日：2018-10-31

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 泷泽利雄

IPC: C09K3/14 ,  B24B1/00 ,  B24B37/02 ,  B24B37/04 ,  G11B5/84

Abstract: 本发明涉及研磨液、玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法，在通过激光衍射/散射法对研磨液中包含的氧化铈求出的粒度分布中，将从小粒径侧起的累积颗粒体积达到全部颗粒体积的x[％]时的粒径设为Dx[μm]时，D5为1μm以下，D95与D5之差为3μm以上。

公开(公告)号：CN111094502A

公开(公告)日：2020-05-01

申请号：CN201880060448.9

申请日：2018-10-31

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 泷泽利雄

IPC: C09K3/14 ,  B24B9/10 ,  B24B37/04 ,  B24B37/02 ,  B24B1/00 ,  G11B5/84

Abstract: 在通过激光衍射/散射法对研磨液中包含的氧化铈求出的粒度分布中，将从小粒径侧起的累积颗粒体积达到全部颗粒体积的x[％]时的粒径设为Dx[μm]时，D5为1μm以下，D95与D5之差为3μm以上。

公开(公告)号：CN104603878B

公开(公告)日：2016-10-12

申请号：CN201380045657.3

申请日：2013-06-28

Applicant: HOYA株式会社 ,  HOYA玻璃磁盘越南第二公司

Inventor： 板谷旬展 ,  越阪部基延 ,  泷泽利雄

IPC: G11B5/84 ,  G11B5/73

CPC classification number: G11B5/7315 ,  G11B5/82

Abstract: 本发明的磁盘用玻璃基板的特征在于，在以大概10nm的间隔取得了主表面的斜率的样本的情况下，斜率的平方的平均值在0.0025以下、且斜率的平方的值在0.004以上的频次在15％以下。

公开(公告)号：CN114269699A

公开(公告)日：2022-04-01

申请号：CN202080057696.5

申请日：2020-08-20

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 泷泽利雄 ,  东修平

IPC: C03B29/02 ,  C03C23/00 ,  G11B5/84

Abstract: 对圆板形状的玻璃板的端面进行倒角加工的倒角处理具备下述步骤：按照上述玻璃板的一部分配置于加热上述玻璃板的加热空间内、剩余部分配置于上述加热空间的外部的方式配置上述玻璃板的步骤；一边使上述玻璃板绕上述玻璃板的中心单向旋转，一边在上述加热空间的外部对上述玻璃板的端面的圆周上的一部分照射激光，使上述端面的一部分软化，加热通过上述旋转而到达上述加热空间的上述端面的软化部分的步骤。

公开(公告)号：CN111094502B

公开(公告)日：2021-11-16

申请号：CN201880060448.9

申请日：2018-10-31

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 泷泽利雄

IPC: C09K3/14 ,  B24B9/10 ,  B24B37/04 ,  B24B37/02 ,  B24B1/00 ,  G11B5/84

Abstract: 在通过激光衍射/散射法对研磨液中包含的氧化铈求出的粒度分布中，将从小粒径侧起的累积颗粒体积达到全部颗粒体积的x[％]时的粒径设为Dx[μm]时，D5为1μm以下，D95与D5之差为3μm以上。

公开(公告)号：CN104647156B

公开(公告)日：2016-08-31

申请号：CN201510053574.X

申请日：2007-03-16

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 泷泽利雄 ,  舆水智 ,  丸茂吉典 ,  片桐诚宏

IPC: B24B7/24 ,  G11B5/84

CPC classification number: B24B7/241 ,  C03C19/00 ,  C03C23/0075 ,  G11B5/8404

Abstract: 提供一种磁盘用玻璃衬底的制造方法和磁盘的制造方法，在使研磨垫与玻璃衬底的表面接触的同时对玻璃衬底的表面供给含有研磨砂粒的研磨液以进行玻璃衬底的镜面研磨时，在将研磨液的pH维持为既定的范围内的状态或控制了研磨液的凝集度或分散度的状态下进行。由此，可维持镜面研磨加工速度，同时可得到具有良好的端部形状的玻璃衬底。

公开(公告)号：CN104603878A

公开(公告)日：2015-05-06

申请号：CN201380045657.3

申请日：2013-06-28

Applicant: HOYA株式会社 ,  HOYA玻璃磁盘越南第二公司

Inventor： 板谷旬展 ,  越阪部基延 ,  泷泽利雄

IPC: G11B5/84 ,  G11B5/73

CPC classification number: G11B5/7315 ,  G11B5/82

Abstract: 本发明的磁盘用玻璃基板的特征在于，在以大概10nm的间隔取得了主表面的斜率的样本的情况下，斜率的平方的平均值在0.0025以下、且斜率的平方的值在0.004以上的频次在15％以下。