公开(公告)号：CN109476779B

公开(公告)日：2022-02-25

申请号：CN201780043063.7

申请日：2017-07-05

Applicant: SK新技术株式会社 ,  SK ,  综合化学株式会社

Inventor： 苏德旺·苏吉斯 ,  沈素姬 ,  朴孝承 ,  金善英 ,  李尚益 ,  李韩松

IPC: C08F10/02 ,  C08F2/38 ,  C08F4/642 ,  C08F4/52 ,  C08F4/659

公开(公告)号：CN109422849B

公开(公告)日：2021-07-16

申请号：CN201810886120.4

申请日：2018-08-06

Applicant: SK新技术株式会社

Inventor： 李滥揆 ,  金善英 ,  李光国 ,  咸珍守

IPC: C08F220/14 ,  C08F212/08 ,  C08F220/34 ,  C08F212/14 ,  C08F8/14 ,  C08J3/24 ,  G03F7/039 ,  G03F7/11 ,  C08L33/12

Abstract: 本发明提供用于形成促进定向自组装图案形成的中性层的无规共聚物、用于形成包含所述无规共聚物的图案的层压板以及使用所述无规共聚物形成高质量图案的方法。

公开(公告)号：CN114079123A

公开(公告)日：2022-02-22

申请号：CN202110952353.1

申请日：2021-08-19

Applicant: SK新技术株式会社 ,  爱思开高新信息电子材料株式会社

Inventor： 金善英 ,  权兑旭 ,  裵兴泽 ,  李东君 ,  金润凤 ,  宣旻暻

IPC: H01M50/403 ,  H01M50/414 ,  H01M50/423 ,  H01M50/449 ,  H01M50/491 ,  C08F220/56 ,  C08F220/06 ,  C08F228/02

Abstract: 本发明提供一种复合隔膜和利用该复合隔膜的锂二次电池，所述复合隔膜的多孔基材上形成包含无机颗粒和粘合剂的涂层，并且所述复合隔膜的涂布性和热收缩性得到改善。

公开(公告)号：CN107868193B

公开(公告)日：2021-08-06

申请号：CN201710868378.7

申请日：2017-09-22

Applicant: SK新技术株式会社 ,  韩国科学技术院

Inventor： 咸珍守 ,  郑连植 ,  金善英 ,  许允衡 ,  李光国 ,  宋承垣

IPC: C08F293/00 ,  C08F212/08 ,  C08F212/14

Abstract: 本发明提供一种二嵌段共聚物，其包含具有由以下化学式1表示的重复单元的第一嵌段和具有由以下化学式2表示的重复单元的第二嵌段：[化学式1][化学式2]其中R1‑R5、X1‑X5、l、n和m如权利要求1所定义。

公开(公告)号：CN109422848A

公开(公告)日：2019-03-05

申请号：CN201810754156.7

申请日：2018-07-11

Applicant: SK新技术株式会社

Inventor： 李滥揆 ,  金善英 ,  李光国 ,  咸珍守

IPC: C08F220/14 ,  C08F212/08 ,  C08F220/36 ,  C08F212/14 ,  C09D133/14

Abstract: 本发明涉及促进形成定向自组装图案的用于形成中性层的无规共聚物及包含其的用于形成图案的层压体、利用其形成高品质图案的方法。

公开(公告)号：CN109312014A

公开(公告)日：2019-02-05

申请号：CN201780032874.7

申请日：2017-05-11

Applicant: SK新技术株式会社 ,  SK ,  综合化学株式会社

Inventor： 李尚益 ,  白恩祯 ,  金善英 ,  朴孝承 ,  郑闵先

IPC: C08F4/69 ,  C08F4/12 ,  C08F10/02 ,  C08F10/14 ,  C08F2/44

Abstract: 本发明涉及包含过渡金属或过渡金属前体、卤素取代的有机配体和杂原子配体的低聚催化剂，以及使用该催化剂由乙烯选择性制备1-己烯或1-辛烯的方法。

公开(公告)号：CN107868194B

公开(公告)日：2022-04-05

申请号：CN201710869088.4

申请日：2017-09-22

Applicant: SK新技术株式会社 ,  韩国科学技术院

Inventor： 咸珍守 ,  郑连植 ,  金善英 ,  许允衡 ,  李光国 ,  宋承垣

IPC: C08F293/00 ,  C08F220/14 ,  C08F212/08 ,  C08F212/14 ,  G03F7/00 ,  G03F7/09 ,  G03F7/16 ,  G03F7/40 ,  G03F7/42 ,  H01L21/027 ,  H01L21/033 ,  H01L21/308 ,  H01L21/311 ,  H01L21/3213

Abstract: 本发明提供了一种形成精细图案的方法，该方法通过使用具有优异蚀刻选择性的嵌段共聚物而能够最小化LER和LWR，从而形成高质量纳米图案。本发明提供了一种嵌段共聚物，其包含具有由以下化学式1表示的重复单元的第一嵌段和具有由以下化学式2表示的重复单元的第二嵌段：[化学式1][化学式2]其中R1‑R5、X1‑X5、l、n和m如权利要求1中所定义。

公开(公告)号：CN109422849A

公开(公告)日：2019-03-05

申请号：CN201810886120.4

申请日：2018-08-06

Applicant: SK新技术株式会社

Inventor： 李滥揆 ,  金善英 ,  李光国 ,  咸珍守

IPC: C08F220/14 ,  C08F212/08 ,  C08F220/34 ,  C08F212/14 ,  C08F8/14 ,  C08J3/24 ,  G03F7/039 ,  G03F7/11 ,  C08L33/12

Abstract: 本发明提供用于形成促进定向自组装图案形成的中性层的无规共聚物、用于形成包含所述无规共聚物的图案的层压板以及使用所述无规共聚物形成高质量图案的方法。