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公开(公告)号：CN104540547B
公开(公告)日：2017-08-11
申请号：CN201380023717.1
申请日：2013-03-05
申请人： GSI重离子研究亥姆霍茨中心有限公司
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1067 , A61N5/1043 , A61N5/107 , A61N2005/1054 , A61N2005/1062 , A61N2005/1087 , A61N2005/1095
摘要： 本发明涉及用于借助离子束照射移动靶区的方法和辐照装置，尤其用于治疗肿瘤，其中，执行靶区的离子射线照相测量并且借助相同的离子束、但时间连续地执行照射以便进行沉积和射线照相，其中所述离子束的能量例如借助位于病人近端的无源能量调制器而在较高的射线照相能量与较低的沉积能量之间转换。
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公开(公告)号：CN103732290B
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201280038063.5
申请日：2012-08-03
申请人： GSI重离子研究亥姆霍茨中心有限公司
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： G21K1/00 , A61N5/1043 , A61N5/1048 , A61N5/1075 , A61N2005/1087 , A61N2005/1095 , G21K1/10
摘要： 本发明涉及一种用于可变化地改变粒子束（2、10）的能量的粒子能量调节设备（1）。该粒子能量调节设备（1）具有可变化的能量变化装置（8），所述可变化的能量变化装置具有用于校正所输入的调整值（11）的调整值校正装置（7）。所述调整值校正装置（7）利用预先确定的校准数据（15）校正所输入的调整值（11）。
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公开(公告)号：CN103458966B
公开(公告)日：2016-11-30
申请号：CN201280015330.7
申请日：2012-04-20
申请人： GSI重离子研究亥姆霍茨中心有限公司
IPC分类号： A61N5/10
摘要： 本发明涉及一种辐照设备，包括具有粒子加速器的加速器装置，借助粒子加速器可加速粒子并且可产生粒子束，该粒子束具有射束强度；用于测量所提取的粒子束射束质量的射束监控装置，该射束监控装置具有多个可设置的测量范围；用于控制加速器装置和射束监控装置的控制装置，其中，射束监控装置的测量范围可根据粒子束的射束强度和/或待施加的粒子数被设置。在用于控制辐照设备的控制方法中，产生具有射束强度的粒子束；借助射束监控装置监控粒子束的射束质量，从多个可设置的测量范围中选择一个测量范围，其中，根据粒子束的射束强度和/或根据待施加的粒子数设置射束监控装置的测量范围。
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公开(公告)号：CN102223913B
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN200980146437.3
申请日：2009-10-08
申请人： GSI重离子研究亥姆霍茨中心有限公司 , 西门子公司
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1049 , A61N5/1043 , A61N5/1044 , A61N5/1065 , A61N2005/1087
摘要： 本发明涉及一种装置，用于为辐照设备确定控制参数，利用辐照设备可以在目标体积中的不同的目标点处相继施放多个辐照剂量。该装置包括输入装置，被构造用于采集目标区域并用于采集目标区域的运动；分析装置，用于算出控制参数以控制射束，使得射束可以借助控制参数跟踪目标区域的运动并且可以在目标区域施放定义的剂量分布，其中分析装置被设计用于，在算出控制参数时确定可选的至少一个第一控制参数使得射束可以只在垂直于射束方向跟踪目标区域的运动，或者在算出控制参数时算出可选的至少一个第一控制参数和其他的、表示射束的能量调制的控制参数，其中算出可选的至少一个第一控制参数和其他控制参数在考虑在射束方向的运动跟踪的情况下进行。
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公开(公告)号：CN104540547A
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN201380023717.1
申请日：2013-03-05
申请人： GSI重离子研究亥姆霍茨中心有限公司
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1067 , A61N5/1043 , A61N5/107 , A61N2005/1054 , A61N2005/1062 , A61N2005/1087 , A61N2005/1095
摘要： 本发明涉及用于借助离子束照射移动靶区的方法和辐照装置，尤其用于治疗肿瘤，其中，执行靶区的离子射线照相测量并且借助相同的离子束、但时间连续地执行照射以便进行沉积和射线照相，其中所述离子束的能量例如借助位于病人近端的无源能量调制器而在较高的射线照相能量与较低的沉积能量之间转换。
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公开(公告)号：CN103952729A
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：CN201410058921.3
申请日：2009-03-12
申请人： GSI重离子研究亥姆霍茨中心有限公司
CPC分类号： C25D1/006 , B01J19/0093 , B01J23/42 , B01J23/72 , B01J35/0006 , B01J2219/00783 , B01J2219/00835 , B01J2219/00846 , B01J2219/00853 , B01J2219/0086 , B01J2219/00873 , B22F1/0025 , B22F3/002 , B81B2201/0292 , B81B2201/051 , B81C99/0085 , B82Y15/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C25D1/00 , C25D1/003 , C25D1/04 , C25D1/08 , C25D5/18 , G01F1/688 , G01N25/00 , Y10S977/762 , Y10T29/49117 , Y10T428/12201 , Y10T428/12389 , Y10T428/24562 , Y10T428/24893 , Y10T428/25
摘要： 本发明涉及一种纳米线结构元件，其适于例如安装到微反应器系统或微催化剂系统中。为了制备纳米线结构元件，使用基于模板的方法，其中在纳米孔中纳米线的电化学沉积优选至少进行如此长的时间，直至已形成凸端，其优选至少部分地长成一片。在增强两个覆盖层之后，通过溶解模板膜并去除已溶解的模板材料使两个覆盖层之间的结构化空腔露出，其中仍然保留所述两个覆盖层。由此产生稳定的三明治状纳米结构，其具有在两侧面由覆盖层划定边界的并由纳米线柱状贯穿的在平行于覆盖层的平面内二维开口的空腔结构。
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公开(公告)号：CN103732290A
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：CN201280038063.5
申请日：2012-08-03
申请人： GSI重离子研究亥姆霍茨中心有限公司
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： G21K1/00 , A61N5/1043 , A61N5/1048 , A61N5/1075 , A61N2005/1087 , A61N2005/1095 , G21K1/10
摘要： 本发明涉及一种用于可变化地改变粒子束（2、10）的能量的粒子能量调节设备（1）。该粒子能量调节设备（1）具有可变化的能量变化装置（8），所述可变化的能量变化装置具有用于校正所输入的调整值（11）的调整值校正装置（7）。所述调整值校正装置（7）利用预先确定的校准数据（15）校正所输入的调整值（11）。
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公开(公告)号：CN102223913A
公开(公告)日：2011-10-19
申请号：CN200980146437.3
申请日：2009-10-08
申请人： GSI重离子研究亥姆霍茨中心有限公司 , 西门子公司
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1049 , A61N5/1043 , A61N5/1044 , A61N5/1065 , A61N2005/1087
摘要： 本发明涉及一种装置，用于为辐照设备确定控制参数，利用辐照设备可以在目标体积中的不同的目标点处相继施放多个辐照剂量。该装置包括输入装置，被构造用于采集目标区域并用于采集目标区域的运动；分析装置，用于算出控制参数以控制射束，使得射束可以借助控制参数跟踪目标区域的运动并且可以在目标区域施放定义的剂量分布，其中分析装置被设计用于，在算出控制参数时确定可选的至少一个第一控制参数使得射束可以只在垂直于射束方向跟踪目标区域的运动，或者在算出控制参数时算出可选的至少一个第一控制参数和其他的、表示射束的能量调制的控制参数，其中算出可选的至少一个第一控制参数和其他控制参数在考虑在射束方向的运动跟踪的情况下进行。
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公开(公告)号：CN102089034A
公开(公告)日：2011-06-08
申请号：CN200980127208.7
申请日：2009-06-08
申请人： GSI重离子研究亥姆霍茨中心有限公司 , 西门子公司
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/10 , A61N5/1043 , A61N5/1044 , A61N5/1065 , A61N2005/1087
摘要： 本发明涉及一种用于通过借助以至少两个通路接近靶网格的网格点的射线(105)的多次照射在循环运动的靶区(102)中沉积额定剂量分布的方法，其中，在每个通路中依次接近网格点。其特征在于下面的步骤：规定与额定剂量分布的最大容许的局部偏差，使照射过程和靶区(102)的循环运动去同步并且将对靶区的照射划分成足够多的通路，从而与额定剂量分布的局部偏差最高相当于与额定剂量分布的最大容许偏差。此外，本发明还涉及一种用于实施该方法的照射装置和一种用于确定用于该照射装置的控制参数的方法。
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