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公开(公告)号：CN112959212B
公开(公告)日：2023-03-03
申请号：CN202110299881.1
申请日：2021-03-22
申请人： 万华化学集团电子材料有限公司
IPC分类号： B24B37/26
摘要： 本发明公开了一种带有优化沟槽的化学机械抛光垫及其应用，所述抛光垫包括抛光层，其具有环形抛光轨迹区、位于抛光轨迹区内的圆形中间区及抛光轨迹区外部的环形外缘区；以及位于抛光层表面的沟槽，包括圆周向沟槽及径向沟槽，所述径向沟槽呈放射状由最靠近抛光垫圆心方向的沟槽处沿半径方向向外延伸，至抛光轨迹区与环形外缘区交界处的沟槽处，由一条沟槽发散为至少两条放射状沟槽。本发明的沟槽能够在最大量存储抛光液的情况下不降低抛光碎屑的排出，从而能得到稳定的抛光速率，提高产品良率，延长抛光垫使用寿命。
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公开(公告)号：CN113246015B
公开(公告)日：2022-09-20
申请号：CN202110568446.4
申请日：2021-05-25
申请人： 万华化学集团电子材料有限公司
摘要： 本发明公开了一种具有终点检测窗的抛光垫及其应用，所述抛光垫至少包括抛光表面和终点检测窗，所述抛光表面至少具有第一及第二沟槽，所述第一沟槽是以抛光垫中心为圆心的同心圆或同心多边形形状，所述第二沟槽位于紧邻窗口与第一沟槽相交的两面处。本发明的具有终点检测窗的抛光垫能够避免抛光过程中对抛光晶圆的表面平整度的破坏，同时减少由于抛光窗口而造成的划伤。
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公开(公告)号：CN114918824A
公开(公告)日：2022-08-19
申请号：CN202210754859.6
申请日：2022-06-29
申请人： 万华化学集团电子材料有限公司
IPC分类号： B24B37/26
摘要： 本发明公开了一种具有径向微沟槽的抛光垫，所述抛光垫包括抛光层，所述抛光层具有一旋转中心，以及与所述旋转中心同心的抛光轨迹区和环向沟槽，所述抛光轨迹区含有径向微沟槽，所述径向微沟槽的取向满足抛光时抛光介质的流型函数。本发明的抛光垫能够合理改变抛光介质在抛光垫上的停留时间，有效提升抛光速率的同时，能显著降低抛光时的终点温度，并能够提高片内和片间的均匀性。
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公开(公告)号：CN114029856A
公开(公告)日：2022-02-11
申请号：CN202111437207.1
申请日：2021-11-30
申请人： 万华化学集团电子材料有限公司
摘要： 本发明公开了一种终点检测精度高的化学机械抛光垫、制备方法及其应用，所述化学机械抛光垫具有独特的类“三明治”结构的检测窗，包括顶层、中间层和底层，所述中间层由高折射率材料构成，保证了抛光过程中具有较高的终点检测精度，所述顶层与底层结构保证了抛光过程中的窗口块体与其他部分的抛光层具有相似的抛光性能及压缩性能。本发明的化学机械抛光垫具有终点检测精度高、抛光缺陷少等优点，适用于磁性基片、光学基片或半导体基片的化学机械抛光。
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公开(公告)号：CN112574386A
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：CN202011404085.1
申请日：2020-12-03
申请人： 万华化学集团电子材料有限公司
IPC分类号： C08G18/76 , C08G18/75 , C08G18/66 , C08G18/48 , C08G18/12 , C08G18/32 , C08G18/38 , B24B37/20 , B24B37/24 , C08J9/14 , C08G101/00
摘要： 本发明涉及一种浇注型聚氨酯弹性体的制造方法，该法包含了特定的浇铸和成型工艺条件等，具体是先形成包含端异氰酸酯基聚氨酯预聚物、二胺类扩链剂和含氟烃类化合物的浇注混合物，然后使浇注混合物在特定温度条件下停留一段时间，最后进行固化；借由该法制得的聚氨酯弹性体材料，在不损失诸如硬度和储能模量等力学性能的前提下，具有改进的透光性能；可以用作诸如化学机械抛光(CMP)过程中的光学终点检测材料等的用途。
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公开(公告)号：CN118769125A
公开(公告)日：2024-10-15
申请号：CN202310000426.6
申请日：2023-03-31
申请人： 万华化学集团电子材料有限公司
摘要： 本发明提供一种具有两类海绵孔的化学机械抛光垫、制备方法及其应用，所述制备方法包括以下步骤：a）将聚氨酯树脂、添加剂溶解在溶剂中配制成涂布浆料；b）将涂布浆料以一定厚度均匀涂布在支撑层上并在烘箱中干燥一段时间；c）随即浸入凝固浴中固化成型；d）水洗烘干后进行压制沟槽并贴合缓冲层、背胶层及离型层得到抛光垫。本发明方法制备的化学机械抛光垫具有两类海绵孔的特定结构，赋予抛光垫较佳的弹性回复，提高抛光材料的表面平坦性，还可提高抛光性能。
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公开(公告)号：CN115122232B
公开(公告)日：2024-08-20
申请号：CN202110332894.4
申请日：2021-03-29
申请人： 万华化学集团电子材料有限公司
IPC分类号： B24B37/24 , B24B37/22 , B24B37/26 , B24D18/00 , C09D175/04 , C09D7/61 , B05D7/24 , B05D7/04 , B05D1/38
摘要： 本发明提供了一种微孔聚氨酯抛光垫的制备方法、抛光垫及其应用，所述制备方法包括以下步骤：a)将水性聚氨酯树脂均匀涂布在缓冲层上，在烘箱中烘干，得到支撑层；b)将溶剂型聚氨酯树脂，黑色浆，表面活性剂及氟化碳纳米纤维溶于N，N‑二甲基甲酰胺溶液中配制成聚氨酯浆料；c)将聚氨酯浆料均匀涂布在支撑层上，在水中固化成型，水洗烘干后进行表面砂光及压纹沟槽然后粘贴背胶及离型层得到微孔聚氨酯抛光垫。本发明的方法制备得到的微孔聚氨酯抛光垫孔隙率高，孔径范围适中，孔结构致密不易产生缺陷，具有较高的抛光效率。
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公开(公告)号：CN118404492A
公开(公告)日：2024-07-30
申请号：CN202410873231.7
申请日：2024-07-01
申请人： 万华化学集团电子材料有限公司
摘要： 本发明公开了一种抛光垫及其制备方法、应用，涉及化学机械平坦化领域，所述抛光垫包括依次贴合的抛光顶层、上粘结层、缓冲中层、下粘结层和支撑性底层，其中，具有第一压缩恢复率的环形纤丝层块和具有第二压缩恢复率的环形纤丝层块从圆心向外按直径递增的方式交叉排列形成所述缓冲中层，第一压缩恢复率和第二压缩恢复率不同，且至少一组相邻的纤丝层块之间具有空隙以形成环形沟槽。本发明通过在缓冲中层中设置具有不同的压缩恢复能力的纤丝层块，使不同性质的纤丝层块在抛光中实现分段作用，进而延长抛光垫的使用寿命。
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公开(公告)号：CN118342701A
公开(公告)日：2024-07-16
申请号：CN202310023155.6
申请日：2023-01-09
申请人： 万华化学集团电子材料有限公司
摘要： 本发明提供了一种低缺陷抛光垫的制备方法，所述抛光垫以聚氨酯为主要抛光组分，并添加有处理过的聚合物微球作为助剂。本发明以经过溶剂处理过的聚合物微球作为填料，抛光垫孔具有尺寸均匀，平坦度高的优点，不易在半导体晶圆表面产生划伤；另外溶剂由于浸润到微球中，在与预聚体的混合过程中，溶剂逐渐扩散到预聚体中，降低粘度及气泡的产生，抛光垫缺陷度降低，与现有技术相比，具有显著优势。
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公开(公告)号：CN113621126B
公开(公告)日：2023-03-24
申请号：CN202010380044.7
申请日：2020-05-08
申请人： 万华化学集团电子材料有限公司
IPC分类号： C08G18/75 , C08G18/76 , C08G18/48 , C08G18/30 , C08G18/12 , C08G18/38 , C08K9/04 , C08K3/04 , C08K3/22 , B24B37/20 , B24B37/24 , B24B37/26
摘要： 本发明公开一种光终点检测窗及其制备方法。所述光终点检测窗，包括异氰酸酯封端预聚物、固化剂和表面修饰纳米材料为反应原料反应得到。所述的表面修饰纳米材料为异氰酸酯表面修饰的纳米材料。所述的异氰酸酯封端预聚物，制备原料包括异氰酸酯、未修饰纳米材料与多元醇，并且不使用其它催化剂。所述的光终点检测窗能够在耐光降解、耐水解的同时仍具有较高的透光率。
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