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公开(公告)号:CN102009170B
公开(公告)日:2015-11-25
申请号:CN201010271722.2
申请日:2010-09-03
申请人: 东洋铝株式会社
CPC分类号: B01J21/04 , B01J37/0018 , B01J37/0225 , B22F7/002 , C22C1/0416 , C22C21/02 , H01B1/023
摘要: 本发明提供一种由烧结体组成并且抗弯强度得以改善的多孔铝材料及其制造方法,其中该烧结体包括Si含量为100至3,000ppm的铝合金。
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公开(公告)号:CN103658660A
公开(公告)日:2014-03-26
申请号:CN201310450303.9
申请日:2013-09-25
摘要: 本发明提供一种形成有具有充分的抗弯强度、且表现出较低的漏电流值的质量良好的阳极氧化膜的多孔性铝体、使用该多孔性铝体的铝电解电容器、和该多孔性铝体的制造方法。本发明的多孔性铝体(10)具有:铝箔(20);和叠层在铝箔(20)的至少一个面上的铝多孔质层(30)。铝箔(20)的厚度为10~50μm,铁含量不足1000重量ppm,硅含量为500~5000重量ppm。铝多孔质层(30)是将铁含量不足1000重量ppm且硅含量为50~3000重量ppm的铝粉体烧结而形成的层。
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公开(公告)号:CN102804302A
公开(公告)日:2012-11-28
申请号:CN201080026090.1
申请日:2010-05-25
申请人: 东洋铝株式会社
CPC分类号: H01G9/045 , H01G9/052 , Y02T10/7022
摘要: 本发明提供了一种气孔率及静电容量大且不需要蚀刻处理的用于铝电解电容的电极材料。具体地说,本发明提供了一种用于铝电解电容的电极材料,其特征在于,该电极材料由铝及铝合金中的至少一种的烧结体构成,该烧结体的气孔率为35~55%。
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公开(公告)号:CN102714098A
公开(公告)日:2012-10-03
申请号:CN201080054864.1
申请日:2010-11-25
申请人: 东洋铝株式会社
CPC分类号: H01G9/045 , H01G9/052 , H01G9/0525 , Y02T10/7022 , Y10T428/256
摘要: 本发明提供一种由铝及铝合金中的至少一种的烧结体构成且不需蚀刻处理的铝电解电容用电极材料及其制备方法,其即使在铝及铝合金的粉末的粒径小、烧结体的厚度大的情况下,也能确保高静电容量。具体地,本发明提供一种铝电解电容用电极材料,其特征在于,所述铝电解电容用电极材料由铝及铝合金中的至少一种粉末的烧结体构成;(1)所述粉末的平均粒径D50为1~10μm;(2)所述烧结体由两层以上的烧结层构成,相邻接的烧结层中所含的所述粉末的平均粒径D50相差0.5μm以上。
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