公开(公告)号：CN103303977A

公开(公告)日：2013-09-18

申请号：CN201310228159.4

申请日：2013-06-07

Applicant: 中国矿业大学

Inventor： 黄飞 ,  闫爱华 ,  尹诗斌 ,  廖振华 ,  赵辉 ,  刘云 ,  张凯 ,  强颖怀 ,  张绍良

IPC: C01G33/00 ,  B82Y30/00

Abstract: 一种分等级中空Nb3O7F纳米材料的制备方法，属于Nb3O7F纳米材料的制备方法。采用直接氧化刻蚀NbB2陶瓷的方法，通过化学反应，原位自组装生成中空Nb3O7F纳米材料，步骤如下：1）选取NbB2作为铌源，以热分解可产生氧气的物质作为氧源，以强腐蚀性氢氟酸作为氟源；2）配置氧源溶液，并添加表面活性剂，充分搅拌溶解；3）称取NbB2陶瓷粉，加入到上述溶液中；4）然后添加强腐蚀性氢氟酸到上述溶液中，并搅拌充分；5）将上述溶液转移到反应釜中进行水热反应；6）反应结束后，将产物过滤，并用去离子水和乙醇清洗，在烘箱中干燥，即得到分等级中空Nb3O7F纳米材料。方法过程简单，操作条件易于控制，实现了低温下原位制备Nb3O7F纳米材料，无需后续的热处理，可用于大批量生产。

公开(公告)号：CN103288132A

公开(公告)日：2013-09-11

申请号：CN201310225841.8

申请日：2013-06-07

Applicant: 中国矿业大学

Inventor： 黄飞 ,  闫爱华 ,  尹诗斌 ,  廖振华 ,  刘云 ,  赵辉 ,  张凯 ,  强颖怀 ,  张绍良

IPC: C01G25/02 ,  B82Y30/00

Abstract: 一种分等级单斜相ZrO2纳米片的制备方法，属于ZrO2纳米片的制备方法。采用直接氧化刻蚀ZrB2陶瓷的方法，通过化学反应，原位自组装生成分等级单斜相ZrO2纳米片，步骤如下：1）选取ZrB2作为锆源，以热分解可产生氧气的物质作为氧源，以强腐蚀性氢氟酸作为辅助材料；2）配置氧源溶液，并添加表面活性剂，充分搅拌溶解；3）称取ZrB2陶瓷粉和钇盐，分别加入到上述溶液中；4）然后添加强腐蚀性氢氟酸，充分搅拌后，转移到特氟龙内衬的反应釜中进行水热反应；5）反应结束后，将产物过滤，用去离子水和乙醇清洗，并在烘箱中干燥；6）将干燥的产物热处理后得到最终单斜相ZrO2纳米片。该制备方法过程简单，操作条件易于控制，可用于实验室研究的少量制备及大批量生产。