射频离子源
    21.
    外观设计

    公开(公告)号:CN306231123S

    公开(公告)日:2020-12-15

    申请号:CN202030350778.1

    申请日:2020-07-02

    摘要: 1.本外观设计产品的名称:射频离子源。
    2.本外观设计产品的用途:本外观设计产品可适用于高端光学辅助镀膜、离子束溅射镀膜、离子束刻蚀与超高精度表面处理等领域。
    3.本外观设计产品的设计要点:在于形状。
    4.最能表明设计要点的图片或照片:立体图。

    双阳极离子源
    22.
    外观设计

    公开(公告)号:CN306480397S

    公开(公告)日:2021-04-20

    申请号:CN202030328742.3

    申请日:2020-06-23

    摘要: 1.本外观设计产品的名称:双阳极离子源。
    2.本外观设计产品的用途:本外观设计产品用于使中性原子或分子分离,从中引出离子束流,适于安装在刻蚀设备或镀膜设备上实现表面清洁或辅助镀膜沉积等功能。
    3.本外观设计产品的设计要点:在于形状。
    4.最能表明设计要点的图片或照片:立体图。