电解铜箔和布线板
    21.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101545122B

    公开(公告)日:2012-09-26

    申请号:CN200810107499.0

    申请日:2008-12-10

    Abstract: 本发明提供一种具有与轧制铜箔相同的柔软性、弯曲性或软性、弯曲性在轧制铜箔以上的电解铜箔,并且提供采用了该电解铜箔的具有柔软性、弯曲性的布线板。特别是,提供一种在电解铜箔中,在贴附该电解铜箔和聚酰亚胺薄膜时施加热的过程中,机械特性、柔软性得到改良,能够适应于电气设备的小型化的布线板用电解铜箔。本发明的电解铜箔是在阴极上电析而制成的电解铜箔,对该电解铜箔实施了式1所示的LMP值为8000以上的加热处理之后的结晶结构中,存在80%以上的结晶粒径为4μm以上的晶粒。式1:LMP=(T+273)×(20+Log(t)),其中,T是温度(℃),t是时间(Hr)。

    电解铜箔和布线板
    22.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101545122A

    公开(公告)日:2009-09-30

    申请号:CN200810107499.0

    申请日:2008-12-10

    Abstract: 本发明提供一种具有与轧制铜箔相同的柔软性、弯曲性或软性、弯曲性在轧制铜箔以上的电解铜箔,并且提供采用了该电解铜箔的具有柔软性、弯曲性的布线板。特别是,提供一种在电解铜箔中,在贴附该电解铜箔和聚酰亚胺薄膜时施加热的过程中,机械特性、柔软性得到改良,能够适应于电气设备的小型化的布线板用电解铜箔。本发明的电解铜箔是在阴极上电析而制成的电解铜箔,对该电解铜箔实施了式1所示的LMP值为8000以上的加热处理之后的结晶结构中,存在80%以上的结晶粒径为4μm以上的晶粒。式1:LMP=(T+273)×(20+Log(t)),其中,T是温度(℃),t是时间(Hr)。

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