一种金属网栅高级次衍射相对强度测量方法

    公开(公告)号:CN119125206A

    公开(公告)日:2024-12-13

    申请号:CN202411290279.1

    申请日:2024-09-14

    Abstract: 一种金属网栅高级次衍射相对强度测量方法,属于微纳结构光电特性检测领域,该测量方法引入标准金属网栅衍射参考量构建测量传递链,基于双网栅衍射光强测量和比较实现衍射参考量的逐级传递。通过选取双网栅衍射图像当中与衍射参考量相对应的高级次衍射光强,取两者的比值,能够得到相邻级别衍射参考量的比值,实现了不同网栅之间衍射相对强度的之间的量值比较。该测量方法突破了传统光强传感器测量能力的限制,有效地提升了对金属网栅高级次衍射极低相对强度的测量能力,为金属网栅衍射特性的测试提供了可靠的手段。

    一种基于纬线排布圆环的球面网栅结构及其设计方法

    公开(公告)号:CN117915644A

    公开(公告)日:2024-04-19

    申请号:CN202410060196.7

    申请日:2024-01-16

    Abstract: 一种基于纬线排布圆环的球面网栅结构及其设计方法,属于光学透明电磁屏蔽领域。本发明针对当前球面基底的金属网栅单元结构分布不均匀,导致漏波、成像质量劣化的现状,提出由位于球面上的圆环单元沿纬线分布,相邻圆环单元按相交方式连接构成球面网栅结构。本发明提出的一种基于纬线排布圆环的球面网栅设计方法,可以使圆环网栅结构排布具有更好的位置均匀性,配合圆环单元均化高级次衍射的特性,使球罩式光窗表面的不同位置处电磁屏蔽特性与光学透明性都更加均匀稳定。而且,圆环单元分布的规律性较强,有助于降低球面网栅加工难度。

    一种基于一维Tamm光子晶体的自适应激光防护光窗

    公开(公告)号:CN117826301A

    公开(公告)日:2024-04-05

    申请号:CN202410074263.0

    申请日:2024-01-18

    Abstract: 本发明公开了一种基于一维Tamm光子晶体的自适应激光防护光窗,由自适应激光防护结构设置于透明光窗表面构成,该自适应激光防护结构由四种材料SiO2、TiO2、LiNbO3和Cu排列构成一维Tamm光子晶体,设SiO2、TiO2、LiNbO3和Cu四种材料分别为A、B、C和D,则该一维光子晶体的结构排列为(AB)NCD,N为AB介质对的重复周期数。适用于1064nm激光自适应防护的单个材料层A、B、C和D的厚度分别为176nm、111nm、88nm和15nm。本发明可有效用于1064nm波长激光自适应防护系统中,实现对弱光的高吸收率和强光的高反射率,并同时实现可见光400‑780nm波段可透过。

    宽波段光学透明小型化频率选择光窗

    公开(公告)号:CN115151121B

    公开(公告)日:2024-03-12

    申请号:CN202210731684.7

    申请日:2022-06-25

    Abstract: 宽波段光学透明小型化频率选择光窗属于光学透明电磁屏蔽及微波通信领域,该光窗表面的频率选择表面阵列由基于两种金属网栅的小型化频率选择表面单元按二维正交排列方式密接排布构成。每个单元中的贴片型频率选择表面以十字贴片为基础,将每个十字臂N等分,十字臂图案的顶端部分以及四个十字臂的等分点向垂直十字臂的两侧突出成延伸臂。本发明解决了现有光学透明频率选择表面工作频率收到单元尺寸限制很难在有限区域内使用的问题,可以在有限区域同时实现特定探测波段电磁波的传输、干扰波段的强电磁屏蔽以及宽波段的光学透明,扩展了频率选择表面的应用领域。

    一种基于介质-超薄掺杂金属-介质的网栅结构电磁屏蔽光学窗

    公开(公告)号:CN113056183B

    公开(公告)日:2022-10-28

    申请号:CN202110061247.4

    申请日:2021-01-18

    Abstract: 一种基于介质‑超薄掺杂金属‑介质的网栅结构电磁屏蔽光学窗属于光学透明件电磁屏蔽领域。该光学窗利用共掺杂沉积方法在超薄厚度条件下得到表面连续、粗糙度极低的高质量掺杂金属膜。并进一步利用透明导电的介质‑超薄掺杂金属‑介质取代传统的金属材料制作网栅结构,大幅提升可见光波段的透光率,并相对于金属网栅结构,抑制了其可见光波段的强光学衍射效应,解决高级次衍射能量分布集中带来成像质量退化的问题。同时开孔状的网栅结构增强了红外波段金属薄膜的通透性,扩展了金属薄膜在红外波段应用的范围。

    石墨烯与透明导电薄膜双向吸波透明电磁屏蔽器件

    公开(公告)号:CN106413364B

    公开(公告)日:2021-03-26

    申请号:CN201510449163.2

    申请日:2015-07-28

    Abstract: 基于石墨烯/透明导电薄膜的双向吸波透明电磁屏蔽器件属于光学透明件电磁屏蔽技术领域,该电磁屏蔽器件由依次重叠且平行配置的透明吸收层A、透明介质A、透明反射层、透明介质B和透明吸收层B装配构成,所述的透明吸收层A和B均由1‑6层被透明介质分隔的石墨烯薄膜构成,透明反射层由透明导电薄膜构成,包括透明金属化合物薄膜、纳米银线薄膜或金属网栅:该电磁屏蔽器件可同时多次强吸收器件两侧的射频辐射,实现双向强屏蔽和低反射特性;本发明解决了现有透明电磁屏蔽方法双向低电磁反射、强电磁屏蔽和高透光不能兼顾的问题,具有双向低电磁反射、强电磁屏蔽、高透光性能的特点。

    一种结构紧凑的光栅三维位移测量装置

    公开(公告)号:CN110285761B

    公开(公告)日:2021-02-23

    申请号:CN201910592878.1

    申请日:2019-07-03

    Abstract: 一种结构紧凑的衍射光栅三维位移测量装置,属于微位移测量技术,由标尺光栅、光源、复合型扫描光栅、X向探测部件、Y向探测部件、Z向探测部件构成;光源为激光器;标尺光栅和复合型扫描光栅平行放置,通过光栅周期和栅线方向的合理布置,该装置能够同时测量X向、Y向和Z向位移的三维位移,且结构紧凑,体积小,抗干扰能力强,能够实现X向和Y向光学4倍细分,Z向光源波长2细分,配合合适电学细分卡,可实现纳米甚至更高分辨率及精度,可应用于小体积多维度的高精度位移测量实践中。

    石墨烯网栅与透明导电薄膜双向吸波透明电磁屏蔽器件

    公开(公告)号:CN106413362B

    公开(公告)日:2020-04-14

    申请号:CN201510449150.5

    申请日:2015-07-28

    Abstract: 基于石墨烯网栅与透明导电薄膜的双向吸波透明电磁屏蔽器件属于光学透明件电磁屏蔽技术领域,该电磁屏蔽器件利用石墨烯网栅薄膜具有不同的网孔单元开孔面积比时表现出的不同透光和微波屏蔽特性,将石墨烯网栅薄膜的低反射和部分吸收微波特性与高透光导电薄膜的强电磁反射特性有机结合,将石墨烯网栅薄膜置于透明导电薄膜两侧构成多层结构:用透明导电薄膜作为透明反射层,用N层被透明介质分隔的石墨烯薄膜作为透明吸收层;该结构可同时使来自其两侧的射频辐射多次穿过透明吸收层而被强吸收,实现强屏蔽和低反射特性,可见光仅透过多层结构一次而具有高透光率;该电磁屏蔽光窗解决了现有透明电磁屏蔽方法双向低电磁反射、强电磁屏蔽和高透光不能兼顾的问题。

    一种基于随机分布圆环的金属网栅结构及其设计方法

    公开(公告)号:CN110348100A

    公开(公告)日:2019-10-18

    申请号:CN201910592963.8

    申请日:2019-07-03

    Abstract: 一种基于随机分布圆环的金属网栅结构及其设计方法属于光学透明件电磁屏蔽领域,该金属网栅结构是由基本随机圆环、外公切圆环、被打断圆环、子圆环构成,基本随机圆环的圆心与半径随机,不同基本圆环中子圆环的个数、直径、排列角度均随机产生。由该随机分布圆环结构通过加工工艺制作获得的具有一定线宽的金属网栅深度均化了高级次衍射,使得高级次衍射能量分布均匀,最大高级次衍射能量降低。同时,由于该结构集成了多周期圆环和子圆环,并具有分布和参数的随机特征,提高透光率的同时保持了网栅孔隙结构较均匀分布,在均化衍射杂散光分布同时,还可以保证其电磁屏蔽能力几乎不受影响,进一步提高了金属网栅的综合性能,扩展其应用领域。

    一种使用双频激光和衍射光栅的三维位移测量装置

    公开(公告)号:CN104567695B

    公开(公告)日:2017-06-13

    申请号:CN201510021662.1

    申请日:2015-01-09

    Abstract: 一种使用双频激光和衍射光栅的三维位移测量装置涉及一种超精密位移测量技术及光栅位移测量系统,由标尺光栅和读数头两部分组成,读数头包括双频激光光源、Z向干涉部件、扫描分光光栅部件、X向探测部件、Y向探测部件、Z向探测部件、信号处理部件;该装置基于典型迈克尔逊干涉仪原理、多衍射光栅干涉原理和光学拍频原理实现了X向、Y向和Z向位移的同时测量,具有结构紧凑、抗干扰能力强、对标尺光栅后向零级衍射强度要求低以及X向、Y向和Z向测量不耦合等优点,能够实现纳米甚至更高测量分辨力,可应用于多自由度高精度的位移测量。

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