公开(公告)号：CN107847205A

公开(公告)日：2018-03-27

申请号：CN201680042750.2

申请日：2016-04-19

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 柴田路宏 ,  永崎秀雄 ,  成行书史 ,  白土节子 ,  大谷薰明 ,  大前德宏 ,  中津川晴康

IPC: A61B6/00 ,  A61F9/02 ,  G01T7/00 ,  A61L2/18 ,  A62B18/02

CPC classification number: A61L31/14 ,  A61B1/127 ,  A61B6/00 ,  A61B90/70 ,  A61L2/18 ,  A61L31/08 ,  A61L2202/11 ,  A61L2202/24 ,  G01T7/00

Abstract: 本发明提供一种医疗用设备。本发明的医疗用设备在外表面的至少一部分设置有亲水加工部，其中，亲水加工部含有亲水性聚合物及抗菌剂，亲水加工部的表面的水接触角为30°以下，当将亲水加工部中所包含的每单位面积的银含量设为P、并将通过以下的提取试验测定的每单位面积的银离子量设为Q时，满足以下的式(1)及式(2)的关系，由此防雾性优异，抗菌性及其持续性优异。式(1)6.0≤P/Q；式(2)15.0≤Q；其中，P的单位为ng/cm2，Q的单位为ng/cm2。

公开(公告)号：CN105745074B

公开(公告)日：2017-09-19

申请号：CN201580002693.0

申请日：2015-03-26

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 柴田路宏 ,  永崎秀雄 ,  成行书史 ,  白土节子 ,  大谷薰明

IPC: B32B27/18 ,  A01N25/34 ,  A01N59/16 ,  A01P3/00 ,  G06F3/041

CPC classification number: A01N25/34 ,  A01N59/16 ,  B32B27/18 ,  B32B2250/02 ,  B32B2264/104 ,  B32B2264/105 ,  B32B2307/7145 ,  B32B2307/728 ,  B32B2457/00 ,  G06F3/041 ,  G06F2203/04103 ,  A01N59/26 ,  A01N2300/00

Abstract: 本发明提供具备能够在短时间内显示抗菌作用并且能够长时间维持抗菌性的抗菌层的带抗菌层的基材、抗菌片、放射线摄影装置、触控面板。本发明的带抗菌层的基材具有基材和配置于基材表面的至少一部分的抗菌层，抗菌层具有包含银的第1抗菌剂和与第1抗菌剂不同的、包含银的第2抗菌剂，在将每单位面积的抗菌层中所包含的银含量设为P、且将利用提取试验测定的每单位面积的银离子量设为Q时，满足以下的式(1)及式(2)的关系。式(1) 6.0≤P/Q式(2) 15.0≤Q。

公开(公告)号：CN103289446A

公开(公告)日：2013-09-11

申请号：CN201310019978.8

申请日：2013-01-18

Applicant: 富士施乐株式会社 ,  富士胶片株式会社

Inventor： 萱岛弘志 ,  川原淳 ,  大谷薰明 ,  多田隈芳夫

IPC: C09C1/36 ,  C09C3/12 ,  C08F290/06 ,  G02F1/167

CPC classification number: C08L25/02 ,  C08G77/442 ,  G02F1/167 ,  G02F2001/1678

Abstract: 本发明提供一种显示用颗粒，包含：共聚物，该共聚物具有与式（1）所示的乙烯基化合物相对应的重复单元，以及与具有极性基团和烯式不饱和键的化合物相对应的重复单元：式（1），其中，Ar表示未取代的芳香环，或者被具有1-6个碳原子的烷基或具有6-12个碳原子的芳基取代的芳香环，及n表示1-4的整数。

公开(公告)号：CN101320100A

公开(公告)日：2008-12-10

申请号：CN200810128821.8

申请日：2005-03-23

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 大谷薰明 ,  福重裕一

IPC: G02B1/11 ,  G02B5/30 ,  G02F1/1335 ,  G09F9/00

CPC classification number: G02B1/111 ,  G02B5/3016

Abstract: 本发明的目的是提供具有优异的抗划伤性，同时具有足够高的抗反射性能的抗反射薄膜的制备方法，通过该制备方法获得的抗反射薄膜以及各自包括这种抗反射薄膜的偏振片和图像显示装置。用于制备包括透明基底、在该透明基底上包括至少一层的抗反射层的抗反射薄膜的方法，该制备方法包括用含有以下步骤(1)和(2)的层形成方法在所述透明基底上形成至少一层：(1)在透明基底上施涂涂层的步骤，和(2)在氧浓度低于空气中的氧浓度的气氛中通过照射电离辐射来固化所述涂层的步骤。

公开(公告)号：CN101002113A

公开(公告)日：2007-07-18

申请号：CN200580026370.1

申请日：2005-07-28

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 大谷薰明 ,  佐藤信 ,  前川敏彦 ,  铃木真由美 ,  福重裕一

IPC: G02B1/11 ,  B32B7/02 ,  G02B5/30

CPC classification number: B29D11/0073 ,  B05C5/0254 ,  B05C9/06 ,  B05C9/14 ,  B05D3/0486 ,  B05D3/067 ,  B05D3/068 ,  B05D5/083 ,  B05D7/04 ,  B05D2201/02 ,  B05D2252/02 ,  B29C43/222 ,  B29C55/06 ,  B29K2001/00 ,  B29K2001/12 ,  B29K2029/04 ,  B29K2995/0034 ,  B29L2007/008 ,  B29L2011/00 ,  G02B1/111 ,  G02B5/3025

Abstract: 一种制造光学薄膜的方法，该光学薄膜具有透明基底和位于该透明基底上或上方的至少一个功能层，其中层叠在所述透明基底上的所述的至少一个功能层是通过包括下述步骤(1)和(2)的成层方法而形成的：步骤(1)，在所述透明基底上施加涂层；以及步骤(2)，在氧气浓度低于空气中氧气浓度的环境下，通过照射电离辐射而固化所述涂层。