光信息记录介质及其制造方法、以及光信息记录方法

    公开(公告)号:CN100405486C

    公开(公告)日:2008-07-23

    申请号:CN200410100676.4

    申请日:2004-12-08

    Inventor: 宇佐美由久

    CPC classification number: G11B7/268 G11B7/24097

    Abstract: 本发明提供一种能防止覆盖层中光入射面受损伤的光信息记录介质及其制造方法、以及利用了该光信息记录介质的光信息记录方法。该光信息记录介质的其特征在于在0.7~2mm厚的基板上,依次具有坑或记录层、和0.01~0.5mm厚的覆盖层,从该覆盖层侧照射激光,进行记录和/或再生的光信息记录介质中,在上述覆盖层中照射激光面的内周部和/或外周部上,具有3~90μm高的凸部。该光信息记录介质的制造方法,其特征在于,通过印刷法设置该光信息记录介质中的凸部。该光信息记录方法,其特征在于,上述光信息记录介质具有记录层时,从上述覆盖层侧照射波长100~600nm的激光,使该记录层发生物理的或化学的变化,进行记录。

    光信息记录介质及其制作方法

    公开(公告)号:CN101076859A

    公开(公告)日:2007-11-21

    申请号:CN200580035557.8

    申请日:2005-10-18

    CPC classification number: G11B7/26 G11B7/24038 G11B7/24079

    Abstract: 本发明提供一种既能达到高密度记录,同时又能减少漏入到相邻磁道的信号(串音)的光信息记录介质。本发明的光信息记录介质含有具有预刻沟槽的第1基板以及在第1基板上按顺序设置的底层、色素记录层和反射层以及在该反射层上通过粘接层或者粘合层而贴合在一起的第2基板,该光信息记录介质的预刻沟槽的磁道间距为0.1~0.6μm,沟槽深度为20~200nm。

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