公开(公告)号：CN112650029A

公开(公告)日：2021-04-13

申请号：CN202011563493.1

申请日：2016-08-08

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 托马斯·L·莱蒂格 ,  约瑟夫·约翰逊 ,  克里斯多弗·丹尼斯·本彻

IPC: G03F7/20

Abstract: 公开一种与在制造工艺中将无掩模光刻图案施加到基板的能力有关的图像校正应用。本文所述的实施方式涉及软件应用平台，所述软件应用平台校正基板上的不均匀图像图案。应用平台方法包括：禁用DMD中的至少一整列镜，其中DMD具有多个列，每个列具有多个镜；将基板的第一部分曝光于第一电磁辐射范围；将基板的第二部分曝光于第二电磁辐射范围；并且重复将基板的第二部分曝光于第二范围，直至基板被完全地处理。

公开(公告)号：CN112567297A

公开(公告)日：2021-03-26

申请号：CN201980052865.3

申请日：2019-07-02

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 约瑟夫·R·约翰逊 ,  托马斯·L·莱蒂格 ,  克里斯多弗·丹尼斯·本彻

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本公开内容的实施方式总体提供使用数字微镜装置(DMD)的改进的光刻系统和方法。DMD包括与基板相对设置的微镜的列和行。光束从微镜反射至基板上，产生图案化基板。微镜的列和行的某些子集可定位至“关闭”位置，使得这些子集废弃光，以便校正图案化基板中的均匀性误差，即，比期望的大的特征。类似地，微镜的列和行的某些子集可默认为“关闭”位置并且选择性地允许这些子集返回到它们的编程位置，以便校正图案化基板中的均匀性误差，即，比期望的小的特征。

公开(公告)号：CN112335069A

公开(公告)日：2021-02-05

申请号：CN201880094860.2

申请日：2018-06-26

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 黄曦 ,  郭炳成 ,  克里斯多弗·丹尼斯·本彻 ,  迪特尔·哈斯 ,  布赖恩·E·拉塞特

IPC: H01L51/56 ,  C23C14/04 ,  C25D1/10

Abstract: 本公开内容的实施方式提供了用于阴影掩模的方法和设备。在一个实施方式中，提供了一种阴影掩模，并且所述阴影掩模包括：框架，所述框架由金属材料制成；以及一个或多个掩模图案，所述一个或多个掩模图案耦接到所述框架，所述一个或多个掩模图案包括具有小于或等于约14微米/米/摄氏度的热膨胀系数的金属并具有形成在其中的多个开口，所述金属具有约5微米至约50微米的厚度并具有形成在其中的边界，所述边界各自限定精细开口，所述边界具有形成在所述边界的基板接触表面上的凹陷表面，其中所述一个或多个掩模图案中的每者在约70,000平方毫米的表面积上具有小于约150微米的平坦度。

公开(公告)号：CN112041751A

公开(公告)日：2020-12-04

申请号：CN201980028358.6

申请日：2019-02-05

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 克里斯多弗·丹尼斯·本彻 ,  约瑟夫·R·约翰逊

IPC: G03F7/20 ,  G03F1/76

Abstract: 本公开内容的实施方式提供了使用固态发射器装置的改进的光刻系统和方法。所述固态发射器装置包括被布置成多个水平行和竖直列的固态发射器阵列。每组固态发射器的可变强度，例如整行固态发射器或整列固态发射器的可变强度，是可控制的，以改进场亮度均匀性和场拼接。控制所述可变强度包括例如改变施加到成行固态发射器中的每行的信号，诸如电压，以使亮度从所述阵列的中间到所述阵列的边缘衰减来适应在光刻处理期间的重叠曝光。

公开(公告)号：CN111886543A

公开(公告)日：2020-11-03

申请号：CN201980018636.X

申请日：2019-02-05

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 约瑟夫·R·约翰逊 ,  克里斯多弗·丹尼斯·本彻

IPC: G03F1/76 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本公开内容的实施方式一般涉及一种图像投影系统。该图像投影系统包括有源矩阵固态发射器(SSE)装置。该有源矩阵固态发射器包括基板、硅层和发射器基板。该硅层经沉积在具有多个晶体管形成于其中的该基板之上。该发射器基板经定位在该硅层与该基板之间。该发射器基板包含多个发射器阵列。每个发射器阵列限定像素，其中一个像素包含来自该多个晶体管的一个或多个晶体管。每个晶体管经配置以接收可变量的电流。

公开(公告)号：CN114556220B

公开(公告)日：2024-07-02

申请号：CN202080069582.2

申请日：2020-08-19

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 克里斯多弗·丹尼斯·本彻 ,  托马斯·L·拉伊迪 ,  约瑟夫·R·约翰逊

IPC: G03F7/20

Abstract: 本文描述的示例提供了一种用于在单程中写入多个色调的光刻工艺的系统、软件应用和方法。一种系统包括工作台和光刻系统。所述光刻系统包括图像投影系统、控制器和存储器。所述控制器耦接到所述存储器，所述存储器存储指令代码。所述控制器对所述指令代码的执行致使所述控制器控制所述工作台和所述图像投影系统以迭代地曝光由所述工作台支撑的光刻胶和使所述工作台在顺序对的所述曝光之间相对于所述图像投影系统移动步距。每次曝光包括使用从所述图像投影系统投射的写入束。每次曝光是以不同剂量中的相应一者。所述不同剂量的累积是用于所述光刻胶的全色调剂量。

公开(公告)号：CN112272797B

公开(公告)日：2024-03-19

申请号：CN201980039094.4

申请日：2019-05-15

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 约瑟夫·R·约翰逊 ,  克里斯多弗·丹尼斯·本彻 ,  托马斯·L·莱蒂格

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/00 ,  H01L21/027

Abstract: 本案描述的实施方式提供了一种在数字光刻工艺期间偏移掩模图案数据的方法，以减少曝光图案的线波动。所述方法包括将具有多个曝光多边形的掩模图案数据提供给数字光刻系统的处理单元。处理单元具有多个图像投射系统，其接收掩模图案数据。每个图像投射系统对应于基板的多个部分的一部分，并接收对应于所述部分的曝光多边形。在多个图像投射系统下扫描基板，且在偏移掩模图案数据时将多个发射投射到所述多个部分。多个发射的每个发射在对应于所述部分的曝光多边形内。

公开(公告)号：CN112650029B

公开(公告)日：2024-01-19

申请号：CN202011563493.1

申请日：2016-08-08

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 托马斯·L·莱蒂格 ,  约瑟夫·约翰逊 ,  克里斯多弗·丹尼斯·本彻

IPC: G03F7/20

Abstract: 公开一种与在制造工艺中将无掩模光刻图案施加到基板的能力有关的图像校正应用。本文所述的实施方式涉及软件应用平台，所述软件应用平台校正基板上的不均匀图像图案。应用平台方法包括：禁用DMD中的至少一整列镜，其中DMD具有多个列，每个列具有多个镜；将基板的第一部分曝光于第一电磁辐射范围；将基板的第二部分曝光于第二电磁辐射范围；并且重复将基板的第二部分曝光于第二范围，直至基板被完全地处理。

公开(公告)号：CN117192912A

公开(公告)日：2023-12-08

申请号：CN202311162092.9

申请日：2020-01-24

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 克里斯多弗·丹尼斯·本彻 ,  约瑟夫·R·约翰逊 ,  托马斯·L·莱蒂格

IPC: G03F7/20

Abstract: 本文描述的实施方式提供光刻工艺的系统、软件应用、及方法，以在单程中写入全色调部分及灰色调部分。实施方式包括经构造以提供掩模图案数据至光刻系统的控制器。控制器经构造以通过至少灰色调组的空间光调制器像素和全色调组的空间光调制器像素来在空间上划分多个空间光调制器像素。当由控制器划分时，灰色调组的空间光调制器像素是可操作的，以将第一数量的多次发射投射至多个全色调曝光多边形及多个灰色调曝光多边形，而全色调组的空间光调制器像素是可操作的，以将第二数量的多次发射投射至多个全色调曝光多边形。

公开(公告)号：CN113454537B

公开(公告)日：2023-09-15

申请号：CN202080015262.9

申请日：2020-01-24

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 克里斯多弗·丹尼斯·本彻 ,  约瑟夫·R·约翰逊 ,  托马斯·L·莱蒂格

IPC: G03F7/20 ,  G02F1/13

Abstract: 本文描述的实施方式提供光刻工艺的系统、软件应用、及方法，以在单程中写入全色调部分及灰色调部分。实施方式包括经构造以提供掩模图案数据至光刻系统的控制器。控制器经构造以通过至少灰色调组的空间光调制器像素和全色调组的空间光调制器像素来在空间上划分多个空间光调制器像素。当由控制器划分时，灰色调组的空间光调制器像素是可操作的，以将第一数量的多次发射投射至多个全色调曝光多边形及多个灰色调曝光多边形，而全色调组的空间光调制器像素是可操作的，以将第二数量的多次发射投射至多个全色调曝光多边形。