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公开(公告)号：CN109075185B
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN201780026100.3
申请日：2017-06-12
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 建峰·陈 , 克里斯多弗·丹尼斯·本彻
Abstract: 本公开内容的实施方式一般涉及用于执行光刻工艺的设备和系统。更具体地，提供用于将图像投影到基板上的紧凑照射工具。在一个实施方式中，一种照射工具包括微LED阵列，所述微LED阵列包括一个或多个微LED。每个微LED产生至少一个光束。所述照射工具还包括：分束器，与所述微LED阵列相邻；一个或多个耐火透镜部件，与所述分束器相邻；和投影透镜，与所述一个或多个耐火透镜部件相邻。安装板有利地提供具有多个照射工具的系统中的紧凑对准，所述照射工具中的每个是可容易地移除和替换的。
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公开(公告)号：CN113454537A
公开(公告)日：2021-09-28
申请号：CN202080015262.9
申请日：2020-01-24
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 克里斯多弗·丹尼斯·本彻 , 约瑟夫·R·约翰逊 , 托马斯·L·莱蒂格
Abstract: 本文描述的实施方式提供光刻工艺的系统、软件应用、及方法，以在单程中写入全色调部分及灰色调部分。实施方式包括经构造以提供掩模图案数据至光刻系统的控制器。控制器经构造以通过至少灰色调组的空间光调制器像素和全色调组的空间光调制器像素来在空间上划分多个空间光调制器像素。当由控制器划分时，灰色调组的空间光调制器像素是可操作的，以将第一数量的多次发射投射至多个全色调曝光多边形及多个灰色调曝光多边形，而全色调组的空间光调制器像素是可操作的，以将第二数量的多次发射投射至多个全色调曝光多边形。
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公开(公告)号：CN112272797A
公开(公告)日：2021-01-26
申请号：CN201980039094.4
申请日：2019-05-15
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 约瑟夫·R·约翰逊 , 克里斯多弗·丹尼斯·本彻 , 托马斯·L·莱蒂格
IPC: G03F7/20 , G03F7/00 , H01L21/027
Abstract: 本案描述的实施方式提供了一种在数字光刻工艺期间偏移掩模图案数据的方法，以减少曝光图案的线波动。所述方法包括将具有多个曝光多边形的掩模图案数据提供给数字光刻系统的处理单元。处理单元具有多个图像投射系统，其接收掩模图案数据。每个图像投射系统对应于基板的多个部分的一部分，并接收对应于所述部分的曝光多边形。在多个图像投射系统下扫描基板，且在偏移掩模图案数据时将多个发射投射到所述多个部分。多个发射的每个发射在对应于所述部分的曝光多边形内。
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公开(公告)号：CN109075185A
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201780026100.3
申请日：2017-06-12
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 建峰·陈 , 克里斯多弗·丹尼斯·本彻
Abstract: 本公开内容的实施方式一般涉及用于执行光刻工艺的设备和系统。更具体地，提供用于将图像投影到基板上的紧凑照射工具。在一个实施方式中，一种照射工具包括微LED阵列，所述微LED阵列包括一个或多个微LED。每个微LED产生至少一个光束。所述照射工具还包括：分束器，与所述微LED阵列相邻；一个或多个耐火透镜部件，与所述分束器相邻；和投影透镜，与所述一个或多个耐火透镜部件相邻。安装板有利地提供具有多个照射工具的系统中的紧凑对准，所述照射工具中的每个是可容易地移除和替换的。
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公开(公告)号：CN105453290B
公开(公告)日：2018-05-29
申请号：CN201480044804.X
申请日：2014-08-19
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 克里斯多弗·丹尼斯·本彻 , 谢鹏 , 斯蒂芬·莫法特 , 布鲁斯·E·亚当斯 , 马耶德·A·福阿德
IPC: H01L43/08
Abstract: 一种磁场导引式晶体方向系统以及一种操作磁场导引式晶体方向系统的方法包括：工作平台；加热元件，所述加热元件在所述工作平台之上，所述加热元件用于选择性地加热在晶片基板上的基底层，所述基底层具有晶粒，其中所述晶片基板是所述工作平台上的晶片的一部分；以及磁组件，所述磁组件相对于所述加热元件而固定，所述磁组件用于使用10特斯拉或更大的磁场来对准所述基底层的晶粒，以形成互连，所述互连具有所述互连中的晶粒的晶体方向匹配于所述基底层的晶粒的晶体方向。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107810448A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：CN201680039012.2
申请日：2016-06-21
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 约瑟夫·R·约翰逊 , 克里斯多弗·丹尼斯·本彻 , 托马斯·L·拉伊迪
IPC: G03F7/20
Abstract: 在此公开了一种图像校正应用程序，该图像校正应用程序涉及对制造处理中的基板施加无掩模光刻图案的能力。在此所描述的实施方式涉及软件应用程序平台，该软件应用程序平台利用基板的时间偏移曝光来维持校正非均匀图像图案的能力。应用程序利用时间延迟来将基板的后续部分暴露于可变化且交替脉冲频率的电磁辐射，以校正干涉图案并增加曝光均匀度。
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公开(公告)号：CN114945870B
公开(公告)日：2023-12-29
申请号：CN202080092787.2
申请日：2020-12-11
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 徐永安 , 克里斯多弗·丹尼斯·本彻 , 罗伯特·简·维瑟 , 卢多维克·戈代
Abstract: 本公开内容的实施方式关于用于在光源的传播方向上定位掩模的方法。掩模对应于待写入基板的光刻胶层中的图案。通过拼接第一掩模和第二掩模来定位掩模。第一掩模包括一组第一特征，第一特征具有在第一特征界面处从第一特征延伸的第一特征延伸部分。第二掩模包括一组第二特征，第二特征具有在第二特征界面处从第二特征延伸的第二特征延伸部分。每个第一特征延伸部分与每个对应的第二特征延伸部分拼接，以形成第一对掩模的第一拼接部分的每个拼接部分。第一对掩模的拼接部分限定了要写入光刻胶层中的图案的一部分。
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公开(公告)号：CN112654929B
公开(公告)日：2023-12-12
申请号：CN201980056244.2
申请日：2019-08-14
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 克里斯多弗·丹尼斯·本彻 , 约瑟夫·R·约翰逊
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/67
Abstract: 本公开内容文描述的实施方式涉及一种软件应用平台，该软件应用平台增强基板上的图像图案分辨率。该应用平台方法包括：运行算法以提供用于在目标上形成图案的不同目标多边形。确定可由DMD形成的最小特征尺寸。针对小于最小特征尺寸的每个目标多边形，确定对一个或多个目标多边形进行线偏置或照射偏置以在目标多边形的边界处实现可接受的曝光对比度。小于最小特征尺寸的一个或多个目标多边形被偏置以在基板上形成数字化的图案。当DMD的第一镜的质心在一个或多个目标多边形内时，输送电磁辐射以从第一镜反射。
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公开(公告)号：CN112020675B
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN201980028150.4
申请日：2019-03-27
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 克里斯多弗·丹尼斯·本彻 , 约瑟夫·R·约翰逊
Abstract: 本文讨论的系统与方法关于在光刻与微光刻期间图案化基板，以使用剂量形成一组或多组临界尺寸的特征。基于在制造期间捕获的图像产生剂量图，以说明在用于图案化基板的多个操作中的处理变化。剂量图与成像程序一起使用，以调节施加至基板的各个区域的电压，以便产生具有一组或多组临界尺寸的特征，并补偿原本可能导致不正确临界尺寸的上游或下游操作。
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