半导体存储装置
    21.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1218396C

    公开(公告)日:2005-09-07

    申请号:CN03107392.1

    申请日:2003-03-25

    CPC classification number: G11C11/405 H01L27/108

    Abstract: 本发明涉及一种半导体存储装置,能够在用MIS晶体管作为积累电荷的装置的半导体存储装置中,提高数据的写入工作和读出工作的速度。DRAM单元(10)是为了由在第1晶体管(11)的沟道中积累电荷,由第2晶体管(12)和第3晶体管(13)传送电荷而构成的,通过交互地使用用与第2晶体管(12)的栅极连接的第1字线(Wla)和与第2晶体管(12)的漏极连接的第1位线(Bla)的路径、和用与第2晶体管(12)的栅极连接的第1字线(Wla)和与第2晶体管(12)的漏极连接的第1位线(Bla)的路径这样2条路径,可以使数据传输速度高速化。

    非易失性半导体存储器件

    公开(公告)号:CN1595534A

    公开(公告)日:2005-03-16

    申请号:CN200410074601.3

    申请日:2004-09-07

    CPC classification number: G11C16/0425

    Abstract: 一种非易失性半导体存储器件,包括:第一位单元,第一位单元包括第一MOS晶体管和第二MOS晶体管,第一MOS晶体管的源极和漏极连接以形成第一控制栅,第二MOS晶体管具有与第一MOS晶体管公共的浮栅;第二位单元,第二位单元包括第三MOS晶体管和第四MOS晶体管,第三MOS晶体管的源极和漏极连接以形成第二控制栅,第四MOS晶体管具有与第三MOS晶体管公共的浮栅;以及差分放大器,接收来自各个第二和第四MOS晶体管的漏极的输入信号。

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