公开(公告)号：CN112041627B

公开(公告)日：2022-07-05

申请号：CN201980029651.4

申请日：2019-08-26

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 阪上弘敏 ,  大野哲宏

IPC: F27B17/00 ,  F27D7/06 ,  F27D11/02 ,  H01L21/26

Abstract: 提供一种具有不发生由热伸长带来的损伤的反射器装置的真空加热装置。将被行列配置的多个单位反射板（31）通过固定装置（21）和保持装置（11a～11d）分别安装于真空槽（17）的安装面（19）。如果在各单位反射板（31）被照射红外线，则随着保持装置（11a～11d）的变形部（64）的变形，各单位反射板（31）以固定装置（21）的安装场所为中心而热伸长。通过热伸长，向各单位反射板（31）附加的力被缓和，防止了各单位反射板（31）被安装于安装面（19）的部位的损伤。

公开(公告)号：CN112334591A

公开(公告)日：2021-02-05

申请号：CN201980042545.X

申请日：2019-12-09

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 阪上弘敏 ,  大野哲宏

IPC: C23C14/00

Abstract: 本发明提供一种能够抑制在真空处理时从配置在放电空间的防附着构件产生的微粒的技术。本发明的防附着构件(30)具有：框状的防附着主体构件(10)；以及框状的保持构件(20)，其在使防附着主体构件(10)紧贴在真空槽(6)内的放电空间(9)侧的状态下保持防附着主体构件(10)。防附着主体构件(10)从背面(20R)被多个支撑螺栓(23)固定，所述背面(20R)是保持构件(20)的放电空间(9)侧的面的相反侧的面，支撑螺栓(23)构成为各自的顶端部不从防附着主体构件(10)的放电空间(9)侧的面即表面(10F)向放电空间(9)侧露出。

公开(公告)号：CN111511956A

公开(公告)日：2020-08-07

申请号：CN201980007085.7

申请日：2019-06-12

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 阪上弘敏 ,  大野哲宏 ,  尾崎萌

IPC: C23C14/00

Abstract: 本发明提供能够抑制在真空处理时从配置于放电空间的防附着部件产生的微粒的技术。本发明是防止在真空处理时产生的物质向真空槽内附着的防附着部件(30)，具备框状的防附着主体部件(10)和保持防附着主体部件(10)的保持部件(20)。防附着主体部件(10)具有在基板的周围设置的板状的第一至第四构成部件1-4，并且第一至第四构成部件1-4在与真空槽内的放电空间相向的面相反侧的面上分别设有第一至第四勾挂部，第一至第四勾挂部用于勾挂并安装于在保持部件(20)设置的第一至第四钩部。