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公开(公告)号：CN218232549U
公开(公告)日：2023-01-06
申请号：CN202222225058.9
申请日：2022-08-24
申请人： 株式会社爱发科
摘要： 本实用新型属于蒸镀技术领域，公开了一种真空蒸镀装置。该真空蒸镀装置包括腔体、主挡板、至少两个副挡板和挡板组件，腔体内设有至少两个蒸发源，蒸发源用于对待蒸镀基板镀膜，且蒸发源沿待蒸镀基板的中心轴线对称分布；主挡板靠近待蒸镀基板设置，且主挡板能选择性地遮挡蒸发源和待蒸镀基板之间的蒸镀通道；副挡板与蒸发源一一对应设置，且副挡板设于蒸发源的上方，副挡板能选择性地遮挡蒸发源和待蒸镀基板之间的蒸镀通道；挡板组件设于主挡板和副挡板之间，挡板组件包括至少两个平行且错开设置的第一挡板，挡板组件能选择性地遮挡蒸镀通道，挡板组件设有导通孔。本实用新型提供的真空蒸镀装置，能延长真空蒸镀装置的持续运行的时间。
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公开(公告)号：CN118922579A
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202380029003.5
申请日：2023-02-16
申请人： 株式会社爱发科
IPC分类号： C23C14/34 , C04B35/01 , C23C14/08 , H01L21/336 , H01L21/363 , H01L29/786
摘要： 溅射靶，其由包含由铟、镁和锡组成的式InXMgYSnZ的氧化物的氧化物烧结体构成，上述式的X为0.32以上且0.65以下，Y为0.17以上且0.46以下，Z为大于0且0.22以下，并且在X+Y+Z＝1的范围。
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公开(公告)号：CN118692890A
公开(公告)日：2024-09-24
申请号：CN202410300031.2
申请日：2024-03-15
申请人： 株式会社爱发科
摘要： 本发明涉及以更换灯丝的可操作性好的质谱仪作为对从试验体导入的气体成分进行分析的质谱仪。其具备封套，所述封套具有沿X轴方向延伸的主管部，以及从主管部分支并沿与X轴方向正交的Z轴方向一方延伸的分支管部。分支管部通过切换阀与试验体连接。在主管部内朝向X轴方向下游依次收纳离子源、质量分离部和检测部，在主管部的另一端连接控制单元。离子源具有：配置在X轴方向一端侧的灯丝；位于灯丝的X轴方向下游并对热电子给予规定的运动的运动给予室；以及位于运动给予室的X轴方向下游侧而使气体离子化的离子化室。还具备开闭自如地闭塞主管部的一端的盖板，在分支管部内插设有内管，其前端部向主管部内突出并向离子化室延伸。
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公开(公告)号：CN118621269A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202410240938.4
申请日：2024-03-04
申请人： 株式会社爱发科
摘要： 本发明提供一种真空蒸镀方法，能够尽量抑制蒸镀舟皿上产生的局部变形的进行，延长蒸镀舟皿的使用寿命。包含蒸发工序，其使用蒸镀舟皿(3)，以与限定收纳部的舟皿主体的底板抵接的方式从其上方供给线状的蒸镀材料，通过在两电极安装板部间通电而加热舟皿主体，使收纳部内的蒸镀材料蒸发，其中，所述蒸镀舟皿具有：具有蒸镀材料(Em)的收纳部(31a)的作为蒸镀源(BS)的舟皿主体(31)；以及分别从舟皿主体的两端伸出的电极安装板部(33)。还包括移位工序，其在供给线状的蒸镀材料期间，通过与舟皿主体的底板抵接的线状的蒸镀材料的前端部(Em1)相对于舟皿主体的相对移动而使前端部连续或间歇地移位。
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公开(公告)号：CN116057200B
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202180058390.6
申请日：2021-06-11
申请人： 株式会社爱发科
摘要： 本发明提供一种旋转式阴极单元的驱动块，其无需实施防水加工就可对内管内部件进行电力供给。具有绕轴线旋转驱动靶(Tg)的第1驱动装置(92)的旋转式阴极单元(Rc)用驱动块(DB)具有中空管(4)，所述中空管(4)具有从内管(3)向轴线方向延伸的直线部；第1内筒体(5)，其外套在中空管的直线部上，限定与内管内的冷媒循环通道(Fp2)连通的第1通道(Fp3)；第2内筒体(6)，其外套在第1内筒体上，限定与靶和内管之间的冷媒循环通道(Fp1)连通的第2通道(Fp4)；以及外筒体(7)，其经轴承(Br2)外嵌在第2内筒体上，与靶的轴线方向一端连结，传递来自驱动装置的动力；还具有隔绝装置(Sv1～Sv3)，其在内管一端连结中空管的状态下使彼此连通的内管和中空管的内部空间与真空气氛隔绝。
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公开(公告)号：CN116057199B
公开(公告)日：2024-09-03
申请号：CN202180058339.5
申请日：2021-07-15
申请人： 株式会社爱发科
IPC分类号： C23C14/34
摘要： 本发明提供一种旋转式阴极单元的驱动块，其不但具有容易进行磁盒对驱动块的组装和分解的结构，而且无需对配置在靶的内侧的部件例如实施特殊的防水处理就可进行供电。旋转式阴极单元(Rc)用的驱动块(DB)设置在旋转式阴极单元的靶的X轴线方向前端，并支撑靶，所述旋转式阴极单元具有：配置在真空气氛中的筒状的靶(Tg)；以及插入该靶内的内筒体(35)；所述驱动块具备向设置在内筒体内的部件供电的供电装置，具备中空管(4)，其具有配置在内筒体的轴线方向的延长线上的直线部(62)，供电装置具备机械分离的：与所述部件连接的受电部(811)；以及与电源电路连接的供电部(931)，受电部和供电部以彼此相对的状态配置在内筒体的轴线方向的前端部和直线部的轴线方向的后端部。
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公开(公告)号：CN115552053B
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202180035097.8
申请日：2021-04-20
申请人： 株式会社爱发科
摘要： 本发明提供一种当在有机层表面形成透明导电氧化物膜时，可尽量抑制有机层受损的磁控溅射装置(SM1)。阴极单元Sc具有在X轴方向上以规定间隔并列设置的筒状靶(Tg1、Tg2)，设置有分别旋转驱动筒状靶围绕Y轴旋转的驱动装置(Db1、Db2)，且磁铁单元(Mu1、Mu2)分别装配在各筒状靶内，成对的磁铁单元各自具有中央磁铁(5a)和周边磁铁(5b)，在筒状靶和成膜面之间的空间内形成隧道状的磁场(Mf)，成对的磁铁单元各自被配置为使得当在成膜对象物(Sw)相对于阴极单元静止相对向的状态下成膜时，在经过成膜面内薄膜厚度最厚位置的Z轴上Z轴分量的磁场强度为零。
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公开(公告)号：CN118352213A
公开(公告)日：2024-07-16
申请号：CN202311823931.7
申请日：2023-12-27
申请人： 株式会社爱发科
摘要： 提供一种能抑制蚀刻速度降低的蚀刻装置及蚀刻方法。蚀刻装置(10)构成为通过向基板具备的含硅膜供给含氟气体和等离子体而蚀刻含硅膜。蚀刻装置(10)具备：照射微波的放电管(24A)；和向放电管(24A)供给混合气体的混合气体供给部(21)。放电管(24A)构成为生成混合气体的等离子体。混合气体含有氢原子、氮原子以及氧原子，放电管(24A)以氧化铝为主要成分而构成。
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公开(公告)号：CN115398029B
公开(公告)日：2024-07-05
申请号：CN202180024562.8
申请日：2021-09-13
申请人： 株式会社爱发科
摘要： 本发明的溅射装置具备：真空腔室、阴极、靶、基板保持部和摆动部。摆动部具有：沿摆动方向延伸的摆动轴；摆动驱动部，用于使所述基板保持部在所述摆动轴的轴线方向上摆动；以及旋转驱动部，设置于所述摆动轴且用于使所述摆动轴转动。旋转驱动部能够使所述基板保持部在水平载置位置和铅直处理位置之间进行旋转动作，所述水平载置位置是载置及取出位于大致水平方向位置的所述被处理基板的位置，所述铅直处理位置是以沿大致铅直方向的方式立起所述被处理基板的被处理面后的位置。所述摆动部具备配置在所述被处理基板的周围且与所述基板保持部同步摆动的防沉积板。
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