用于测量光学元件均匀性的测试设备和方法

    公开(公告)号:CN113661374A

    公开(公告)日:2021-11-16

    申请号:CN202080027458.X

    申请日:2020-03-30

    发明人: 贝亚特·伯梅

    摘要: 本发明涉及一种用于测量测试设备的光路(5)中光学元件(10)的均匀性的测试设备(1),该测试设备包括干涉仪,该干涉仪包括:单色光源(3);可调节物镜(6);与待测试的光学元件或干涉测量表面(16)的表面相关联的参考面(7),以及用于由参考面(7)和待测试的光学元件的或干涉测量表面(16)的配属的表面反射的光的波前的干涉的分析单元(8)。本发明还涉及一种相应的方法。其目的是提供一种用于高精度测量光学元件均匀性的测试设备和方法,不仅仅是单个表面,而是光学元件的整体,这也特别适用于高精度地测量屈光眼科激光手术的塑料透镜或其他注塑成型部件。该目的通过一参考面来实现,该参考面与在光路中布置在待测试的光学元件后面的光学元件的干涉测量表面的背离测试设备的表面(11)相关联,优选地借助于补偿元件(9)补偿单色像差。

    补偿用于确定眼睛地形图的多棱面透镜的温度相关性装置和方法

    公开(公告)号:CN113164039A

    公开(公告)日:2021-07-23

    申请号:CN201980076700.X

    申请日:2019-11-20

    IPC分类号: A61B3/107 G01B11/25

    摘要: 本发明涉及一种用于补偿多棱面透镜的温度相关性的解决方案,该多棱面透镜用于确定眼睛的地形图。本解决方案由照射单元、多棱面透镜、图像记录单元、用于分离照射光路和探测光路的光学元件以及控制和评估单元组成。根据本发明,还存在用于确定多棱面透镜的温度的温度传感器。另外,在控制和评估单元中存储有光束的发射角的温度相关性,在评估图像记录单元的记录时,控制和评估单元除了考虑多棱面透镜的由温度传感器传输的温度外,还考虑该温度相关性。所提出的解决方案尤其用于多棱面透镜,该多棱面透镜用于确定眼睛的地形图的。但是,原则上提出的解决方案能够广泛用于需要补偿存在的温度相关性、特别是光学构件的地方。

    手术显微镜
    33.
    发明公开
    手术显微镜 审中-实审

    公开(公告)号:CN113057743A

    公开(公告)日:2021-07-02

    申请号:CN202110265119.1

    申请日:2017-03-16

    IPC分类号: A61B90/20

    摘要: 本申请涉及手术显微镜,其包括设置在所述手术显微镜的壳体上的操纵杆,所述操纵杆设置成能够生成与所述操纵杆的操作状态相关的信号并且能够与手术显微镜的控制系统进行信号交互,所述控制系统设置成将与所述操纵杆的操作状态相关的信号与手术显微镜的功能相互对应从而根据对所述操纵杆的不同操作来实现手术显微镜具有的不同功能。本申请中,通过在手术显微镜的壳体上设置操纵杆,从而使得使用者能够通过操作单独的用户接口实现手术显微镜多种不同功能,与现有的手术显微镜相比减少了用户接口的数量,简化了使用者对手术显微镜的操作。

    眼科激光治疗系统
    34.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112957174A

    公开(公告)日:2021-06-15

    申请号:CN202110179318.0

    申请日:2017-03-08

    IPC分类号: A61F9/008

    摘要: 本发明涉及一种眼科激光治疗系统,其具有可借助平移相互移动的仪器基部和仪器头部、以及包含激光源和具有激光出射开口的激光枢转臂的激光装置。其目的是描述以最小空间和在没有重新定位患者的情况下工作且有效保护敏感的激光治疗光学件的解决方案。该目的通过以可绕水平的第一轴线枢转的方式安装在仪器头部上的激光枢转臂实现。该目的尤其如下地实现:具有限定检查体积的检查装置的检查枢转臂以可绕第二轴线枢转的方式安装在仪器头部上,两个轴线在其方位上彼此布置成使得当激光枢转臂处于工作位置时,激光束的工作体积是当检查枢转臂处于工作位置时的检查体积的部分体积。

    通过聚焦辐射处理透明材料的处理体积中的表面的眼科治疗装置

    公开(公告)号:CN107864619B

    公开(公告)日:2021-05-25

    申请号:CN201680040597.X

    申请日:2016-07-06

    IPC分类号: A61F9/008

    摘要: 本发明涉及一种设备,尤其是用于通过聚焦辐射(1)处理透明材料(3)的处理体积(300)中的表面(11)的眼科治疗设备,其具有用于产生(100)辐射的装置和用于对辐射(1)进行聚焦的光学系统(2、200、202),用于改变聚焦辐射的焦点(4)的位置(400)的装置以及控制装置(500)。本发明还涉及相应的方法,控制程序产品和计划单元。本发明的目的在于描述用于处理表面(11)的设备和方法,所述设备和方法允许使用低成本光学系统(2、200、202)工作,但表面(11)的处理以最高质量进行。该目的通过一种设备来实现,该设备被配置为执行在各个任意方向上焦点(4)在透明材料(3)的处理体积(300)中的慢速扫描运动和焦点(4)在处理体积(300)的部分区域(600)中的独立快速扫描运动,该焦点能通过在整个处理体积(300)中的所述慢速扫描运动而移动;以及通过一种设备实现,扫描图案被编码到该设备中,该扫描图案在x方向和/或y方向上具有带有至少一个横向基本分量(13)的扫描运动,至少一个所述横向基本分量通过在z方向和x方向和/或y方向上的同步方向改变运动的分量叠加。该目的此外通过相应的方法、控制程序产品和计划单元实现。

    用于生产光学元件的方法
    36.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107462941B

    公开(公告)日:2020-12-11

    申请号:CN201710408133.6

    申请日:2017-06-02

    IPC分类号: G02B1/10 G02B1/11

    摘要: 本发明提出了用于生产光学元件的方法,该光学元件包括主体,该主体带有第一侧表面和至少一个第二侧表面,该第一侧表面具有第一光学涂层,该至少一个第二侧表面并非平面平行于该第一侧表面并且具有第二光学涂层,该方法包括以下步骤:‑确定该第一侧表面的该第一光学涂层在该光学元件中引起的应力;‑确定对抗应力,从而使得在该光学元件中引起的合成总应力尽可能小;‑在考虑所确定的对抗应力和这个第二光学涂层的光学参数的同时确定该第二光学涂层;‑将该第一光学涂层涂覆在该第一侧表面上;‑将该第二光学涂层涂覆在该至少一个第二侧表面上。

    用于术中放射治疗的施加器

    公开(公告)号:CN110960806A

    公开(公告)日:2020-04-07

    申请号:CN201910929245.5

    申请日:2019-09-27

    发明人: H.鲍姆斯塔克

    IPC分类号: A61N5/10

    摘要: 本发明涉及一种用于利用低能量X射线辐射进行术中放射治疗的施加器(1),该施加器包括:施加器本体(5);外表面(4),该外表面具有周向外部面并具有远端(3);接收装置(8),该接收装置被布置在近端(2)处并且该施加器(1)可以通过该接收装置被紧固到X射线辐射装置(20)上;以及内凹槽(9),该内凹槽在该近端(2)处具有开口,并且X射线辐射源(30,31)可插入该内凹槽中。该施加器(1)在其外表面(4)上具有固体多孔结构。该固体多孔结构形成连续的透气通道结构,并且为该施加器(1)的外表面(4)提供刚性形状,该通道结构以空气传导方式连接到施加器(1)的近端(2)。