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公开(公告)号：CN113863740A
公开(公告)日：2021-12-31
申请号：CN202111313840.X
申请日：2021-11-08
申请人： 世源科技工程有限公司
摘要： 本发明涉及高科技硅集成电路厂房等工业建筑技术领域，公开一种采用Cheese板的楼层施工方法及楼层，所述方法包括：将T型柱固定在基础上，所述T型柱包括支撑杆和柱帽，所述支撑杆的一端与所述基础固定，另一端与所述柱帽连接，支撑杆为柱帽提供合适的支撑高度，柱帽为钢筋混凝土预制板提供足够的支撑面积；将钢筋混凝土预制板安装在所述柱帽上；将成型模具板固定在所述钢筋混凝土预制板上，并在成型模具内摆放钢筋；向所述成型模具内浇注混凝土。该方法中无需搭建或拆除脚手架和模板，可降低工艺难度，节约成本，提高施工速度。
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公开(公告)号：CN111151500A
公开(公告)日：2020-05-15
申请号：CN201811324147.0
申请日：2018-11-08
申请人： 世源科技工程有限公司
IPC分类号： B08B3/08
摘要： 本发明涉及AMOLED有机蒸镀工艺的掩模板清洗技术，特别涉及一种低清洗剂现场容量的掩模板清洗的方法和装置。该方法包括：将有机蒸镀工艺的掩模板放入一端开口的清洗槽内；在清洗槽内注入清洗剂；在掩模板进入清洗槽后对清洗槽的开口进行封闭；通过改变清洗槽腔的内壁形状来改变清洗槽的容积使得清洗剂与所有待清洗的掩模板表面接触；在掩模板清洗槽的两端分别接外部补液单元和对外泄单元，使得清洗槽内的清洗剂的纯度控制在要求范围内；清洗完毕，清洗槽内壁恢复初始形状，开口打开，掩模板从清洗槽内取出。
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公开(公告)号：CN219670196U
公开(公告)日：2023-09-12
申请号：CN202320054403.9
申请日：2023-01-09
申请人： 中国电子工程设计院有限公司
摘要： 本实用新型公开了一种氢化脱氧的抛光系统，该系统结构包括第一膜接触器、混流控制器、光解反应器、双层抛光塔和第二膜接触器。其中，第一膜接触器内置氢气吸收膜，用于制备富氢水。双层抛光塔为层叠结构，包括收容部、供给部和排出部，通过氧气的氢化反应，消除金属纳米粒子表面氧化层。第一膜接触器、双层抛光塔和第二膜接触器的组合系统可以更佳地深度脱除氧气，提升自由基复合氧化剂的降解反应效率，并显著提高氢气的转化率。
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公开(公告)号：CN220455214U
公开(公告)日：2024-02-06
申请号：CN202321604866.4
申请日：2023-06-21
申请人： 中国电子工程设计院有限公司
IPC分类号： G01N27/48
摘要： 本实用新型公开了一种超痕量微污染物的在线分析装置，用于电子工业水处理系统次生氧化剂污染物的在线分析与测定，所述在线分析装置包括气体转移装置、解离反应器、测量槽、气体检测仪以及运算单元。所述气体转移装置作为新型清洁动力单元，可以提供解离反应器核心填料的在线清洗或间歇运转的浸泡清洁，较佳地保证响应信号高灵敏度和高精确度。在线分析装置可以具有RSD＜1％的重现性、0.20μg/l的检测限，以及高溶氧背景浓度下痕量氧化剂小于1μg/l的测定能力。
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公开(公告)号：CN216918894U
公开(公告)日：2022-07-08
申请号：CN202220505715.2
申请日：2022-03-09
申请人： 中国电子工程设计院有限公司
IPC分类号： C02F9/08 , C02F101/30
摘要： 本实用新型公开一种有效去除水中低分子有机物和弱电离杂质的除盐系统，包括：预处理系统(10)，预处理系统(10)对原水进行预处理，得到过滤水，预处理系统(10)包括过滤装置；浅除盐系统(20)，浅除盐系统(20)对过滤水进行浅除盐操作，得到一次纯水，浅除盐系统(20)包括反渗透处理装置；深除盐系统(30)，深除盐系统(30)对一次纯水进行深除盐操作，得到二次纯水；抛光系统(40)，抛光系统(40)与氮气真空混合式膜脱气装置(34)连通，抛光系统(40)对二次纯水进行抛光处理。上述方案能更有效地减少水中低分子有机物和弱电离杂质，使制备的超纯水满足新版国际标准ASTM D5127‑13(2018)《电子和半导体工业用超纯水的标准指南》中E‑1.1及以上要求。
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公开(公告)号：CN219010090U
公开(公告)日：2023-05-12
申请号：CN202223076331.2
申请日：2022-11-18
申请人： 中国电子工程设计院有限公司
摘要： 本实用新型公开了一种纳米集成电路清洗水的制备系统，纳米集成电路清洗水的制备系统包括预除盐系统、一次纯水系统、深除盐系统和抛光系统，预除盐系统包括尿素氧化分解器、活性炭吸收塔和复合离子交换塔，一次纯水系统包括反渗透装置，深除盐系统包括混合离子交换塔、第一混合光解吸收器和第一真空膜脱气装置，抛光系统包括催化型混合光解吸收器、第二真空膜脱气装置和超滤器；不仅可以提高清洗水超低分子有机物降解效率，将解离常数小于10‑9的弱离子化杂质降除至1ng/l以下，而且可有效淬灭光解次生氧化剂，将其浓度在POD端控制在1μg/l以内。
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