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公开(公告)号：CN102424964B
公开(公告)日：2014-03-05
申请号：CN201110437314.4
申请日：2011-12-23
Applicant: 广东东硕科技有限公司
Abstract: 本发明涉及一种含巯基化合物的棕化处理液，它是一种在印制电路板（PCB）的多层板生产制造工艺中，用于提高内层铜表面与半固化片的结合力，并能提高棕化处理液载铜量的溶液。该棕化处理液包括：a）90～120g/L的硫酸，b）10～20g/L的过氧化氢，c）10～20g/L的缓蚀剂，d）20～50mg/L卤素离子，e）1.0～4.0g/L结合力促进剂，f）添加至1L的去离子水。结合力促进剂选用巯基取代的含氮杂环化合物。本发明的棕化液载铜量可达到50g/L，能保证载铜量在1～50g/L的范围内，铜面经过棕化处理后得到均匀粗糙的棕色表面，并保持铜表面与半固化片有稳定良好的结合力和优异的耐热性。
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公开(公告)号：CN103290399A
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN201310244287.8
申请日：2013-06-19
Applicant: 广东东硕科技有限公司
IPC: C23C18/44
Abstract: 本发明提供了一种使用复合稳定剂的化学镀钯液，它适用于印制电路板。本发明主要成分是二氯四氨钯1.8-2.3g/L，亚硝酸钠50-75g/L，次磷酸钠7—12g/L，复合稳定剂1.3-2.2mg/L，硝酸钾10-15g/L,尿素80-90g/L，氨基乙酸15-20g/L。本发明镀液稳定性好，不容易分解报废，使钯资源得到充分的利用。本发明所得到的Ni/Pd/Au镀层可焊性良好，能满足线路板表面处理的技术要求。镀层为光亮的银白色。
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公开(公告)号：CN103058931A
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：CN201210587743.4
申请日：2012-12-31
Applicant: 广东东硕科技有限公司
IPC: C07D235/10
Abstract: 本发明涉及2-（3＇，5＇-二卤苯甲基）苯并咪唑类四个新型化合物及其制备方法。这四个化合物为2-（3＇，5＇-二氟苯甲基）苯并咪唑、2-（3＇，5＇-二氯苯甲基）苯并咪唑、2-（3＇，5＇-二溴苯甲基）苯并咪唑和2-（3＇-氟-5＇-氯苯甲基）苯并咪唑。本发明将邻苯二胺、卤代苯乙酸拌匀在多聚磷酸中，用微波照射，倒入冰水中，用氢氧化钠水溶液调节pH值为7.0～8.5，抽滤后，用乙醇与水混合溶剂重结晶，得2-（3＇，5＇-二卤苯甲基）苯并咪唑类化合物纯品。解决了常规方法制备苯并咪唑类化合物成本高、反应时间较长、高耗能等缺陷。本发明产率高达82.8%～90.8%，污染少，成本低。
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公开(公告)号：CN102896322A
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：CN201210359909.7
申请日：2012-11-01
Applicant: 广东东硕科技有限公司
Abstract: 本发明涉及一种抗氧化性及分散性的纳米铜制备方法。是导电纳米金属油墨的关键材料。本发明公开了将铜的铜盐或铜的氧化物溶解或分散在蒸馏水中，超声分散预处理，在水溶剂中制备了纳米铜；采用钝化剂对纳米铜进行了表面处理，使其具有好的抗氧化性；该发明方法在较低的温度下制备了纳米铜，温度在25-90℃；所制备的纳米铜粒径在20-100nm；本发明制备的纳米铜粒子具备良好的抗氧化性、单分散性及易分散于有机溶剂中；可望应用于RFID天线、印制电子线路、电磁波屏蔽技术等领域，避免传统制作方法的流程多、效率低的弱点；不产生废液，对环境的危害小；该纳米铜制备方法对革新电子电路电路的生产具有非常重要的意义。
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公开(公告)号：CN102153514A
公开(公告)日：2011-08-17
申请号：CN201110043353.6
申请日：2011-02-23
Applicant: 广东东硕科技有限公司
IPC: C07D235/10
Abstract: 本发明涉及含氟苄基苯并咪唑化合物制造方法，用于印制线路板表面处理液，它公开了以邻苯二胺或取代邻苯二胺用芳香族有机溶剂溶解，所述的邻苯二胺或取代邻苯二胺与所用芳香族有机溶剂的质量克重数之比为1：7~13，在所得溶液中加入含氟的有机酸与邻苯二胺或取代邻苯二胺的摩尔比为1.0~1.3：1，随后加入脱水剂有机酸与邻苯二胺或取代邻苯二胺的摩尔比为0.5~1：1，再加热至110~150℃，反应7～15h，将反应液冷却至室温，减压蒸出芳香族有机溶剂，剩余物用碱性物质中和至ＰＨ7.5～9.5，过滤析出粗品，粗品再用现有重结晶提纯法，得正品率为90～94％。本发明的优点是操作方便，收率高，易于实现工业化生产。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101413117B
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN200810219453.8
申请日：2008-11-27
Applicant: 广东东硕科技有限公司
Abstract: 本发明涉及一种化学镀铜用的前处理液，适用于电路板传统沉铜工艺、非甲醛化学镀铜工艺及其它直接电镀工艺。该处理液公开了含硫化合物活性成分含量W/W是0.1％～5％，无机碱含量W/W是10％～50％，余量是水。本发明的处理液能显著改善化学镀铜层在印制电路板聚酰亚胺材料表面的覆盖率和结合力，从而能显著提高印制电路板孔金属化的质量。
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公开(公告)号：CN100572362C
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：CN200610122985.0
申请日：2006-10-24
Applicant: 广东东硕科技有限公司 , 广东光华化学厂有限公司
IPC: C07D233/56
Abstract: 本发明涉及一种二苯基咪唑化合物及其制备方法，用于印刷线路板有机助焊剂保护膜处理液，它公开了2-(3′，4′-二甲氧苯基)4-苯基-5-甲基咪唑的化学结构式，以及公开了制备方法为用香草醛通过甲基化反应生成3，4-二甲氧基苯甲醛B，后者B和1-苯基1，2-丙二酮C、乙酸铵D和助剂在冰乙酸中加热回流发生缩合反应得化合物A，合适的配料比mol/mol：B∶C∶D＝1∶1∶5-9；反应后回收部分乙酸，再经氨水中和，析出固体，过滤得粗品，再经水洗、提纯后，为白色固体。本发明水溶性和酸性溶液中的溶解性好，化合物A在使用过程中基本无沉淀，保证了其利用率高及印制线路板的质量，原料易得，反应条件温和，成本低廉，适合工业化生产。
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公开(公告)号：CN101074212A
公开(公告)日：2007-11-21
申请号：CN200710028754.8
申请日：2007-06-22
Applicant: 广东东硕科技有限公司 , 广东光华化学厂有限公司
IPC: C07D233/64
Abstract: 本发明涉及一种含氟原子的二苯基咪唑化合物及其制备方法，用于印制线路板表面处理，它公开了2－(4’－氯苯基)4－(4’－氟苯基)咪唑A的化学结构式，以及公开了其制备方法，即先合成2’－氯4－氟苯乙酮B、4－氯苯甲脒盐酸盐C。B和C在氯仿－K2CO3水溶液两相中、搅拌下加热回流发生缩合反应得目标产物A。合适的配料比mol/mol：B∶C＝1∶1.1，回流反应时间为7小时，反应后产物经冷却、过滤得白色固体，经水洗、干燥得粗品。再用95％乙醇为溶剂纯化处理，纯品为白色结晶。本发明原料易得，反应条件温和，产率高，成本低，适合工业化生产。
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公开(公告)号：CN119465117A
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202411960269.4
申请日：2024-12-30
Applicant: 广东东硕科技有限公司 , 光华科学技术研究院(广东)有限公司 , 广东光华科技股份有限公司
IPC: C23C18/40
Abstract: 本申请公开了噻唑硫酮类化合物在化学镀铜中的应用及化学镀铜液，属于化学镀技术领域。采用式I所示结构的噻唑硫酮类化合物和含氮杂环化合物组合使用，用于化学镀铜，能够提高化学镀液的沉积速度并且具有优异的稳定性，同时可以改善化学镀铜后电镀填孔效果，相应的，制备的化学镀铜液具有较好的槽液稳定性，将其用于化学镀铜方法，可以有效提高化学镀铜的沉积速率及镀层的致密性。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN119372634A
公开(公告)日：2025-01-28
申请号：CN202411943965.4
申请日：2024-12-27
Applicant: 广东东硕科技有限公司 , 光华科学技术研究院(广东)有限公司 , 广东光华科技股份有限公司
Abstract: 本申请涉及化学镀金属技术领域，具体涉及一种清洁剂组合物及其清洁剂溶液和应用，该清洁剂组合物包括第一表面活性剂、第二表面活性剂、碱和助剂；第一表面活性剂包括结构如式I的磺酸基芳香化合物；第二表面活性剂包括结构如式II的磺酸基氟碳化合物。本申请的清洁剂组合物及其清洁剂溶液可以用于化学镀金属的除油工序，可以用于化学镀铜的整孔工序，润湿性好，降低孔壁表面张力的效果好，并且应用范围广，可以适用于大表面通孔和盲孔蟹脚等微小孔隙。
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