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公开(公告)号：CN119781095A
公开(公告)日：2025-04-08
申请号：CN202411727204.5
申请日：2024-11-28
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种紫外、可见、近红外的硬质减反射膜，该硬质减反射膜包括在光学基底上交替排列的掺氢氮化硅薄膜和低折射率膜层；其中，所述掺氢氮化硅薄膜的厚度在所述硬质减反射膜厚度的占比大于70％；该硬质减反射膜的总厚度为500‑2500nm；通过以下方法制备该掺氢氮化硅薄膜，包括：通过氩气溅射硅靶材；然后通过射频等离子体源辅助反应气体，使得基底上形成掺氢氮化硅薄膜，所述反应气体为H2和N2，H2的流量为5‑100sccm。该紫外、可见、近红外波段具有较高透过率和机械性能的硬质减反射膜。
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公开(公告)号：CN117169994A
公开(公告)日：2023-12-05
申请号：CN202310891578.X
申请日：2023-07-19
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种可见光波段的硬度梯度增透膜，包括：基底；设置在基底上、且自基底向外硬度逐渐增加的硬度梯度层；设置在硬度梯度层顶部的低折射率匹配层；以及穿插在硬度梯度层内的一个或多层超薄的低折射率膜层。本发明基于“Step up‑Step down”光机械设计方法，将硬度梯度结构与光学设计相结合，实现了极高的透明度(Tave＝98.8％，@420‑720nm)，高表面硬度(H＝23GPa@200nm)和低残余应力(～680MPa)。该发明结合了涂层的光学和机械性能，可以为极端环境下的光学表面提供永久保护。
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公开(公告)号：CN115755257A
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202211407663.6
申请日：2022-11-10
Applicant: 国科大杭州高等研究院 , 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种宽谱编码阵列滤光片的制备方法，包括：采用纳米压印方法一次性获得在第一维度高度不同的压印阵列结构；在得到的压印阵列结构上采用紫外光刻‑图形转移方法获得在第二维度高度不同的光刻阵列结构，最终获得高度不同的宽谱编码阵列滤光片。本发明还公开了由上述方法制备得到的宽谱编码阵列滤光片。该制备方法结合了纳米压印、紫外光刻、薄膜沉积等多种加工方法，所需紫外光刻‑图形转移次数有望大幅减少，且不随滤光区块数增多而增大。相近制备方法可推广应用于微型(成像)光谱芯片/模组、微型(成像)光谱仪等产品，有望在便携式工业检测、便携式农业检测、消费电子等领域广泛应用。
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公开(公告)号：CN112086522B
公开(公告)日：2022-02-01
申请号：CN202010943621.9
申请日：2020-09-09
Applicant: 浙江大学
IPC: H01L31/0216 , H01L31/052 , H01L31/054 , H01L51/44
Abstract: 本发明公开了一种辐射制冷太阳能电池组件，包括太阳能电池，所述太阳能电池的底面设有金属反射层；所述太阳能电池顶面设有可见‑近红外高透/中红外吸收膜层和可见‑近红外高透/中红外减反膜层，所述可见‑近红外高透/中红外吸收膜层位于太阳能电池顶面与可见‑近红外高透/中红外减反膜层之间，光从可见‑近红外高透/中红外减反膜层入射。因此该发明辐射制冷太阳能电池有望在光伏发电、电磁探测、能量利用、制冷等方面广泛应用，为我国国民经济、社会发展、科学技术和国防建设等领域作出贡献。
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公开(公告)号：CN113721310A
公开(公告)日：2021-11-30
申请号：CN202110941325.X
申请日：2021-08-17
Applicant: 浙江大学 , 东莞市宇瞳光学科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种大角度宽波段减反射膜，包括基底，还包括设于基底上的高/低折射率交替膜堆以及设于高/低折射率交替膜堆顶面的纳米结构超低折射率膜层。本发明基于成熟的薄膜沉积技术以及简单快速的水腐蚀法，通过简便的操作控制渐变折射率膜层的厚度以及等效折射率，结合多层膜结构来调整大角度下宽波段的剩余反射率，适于大面积批量化生产，从而使得减反射膜成本大大降低，有望在光学元件、传感器、成像光学系统和太阳能电池等产品中广泛应用，为我国国民经济、社会发展、科学技术和国防建设等领域作出贡献。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111025439B
公开(公告)日：2021-03-05
申请号：CN201911296593.X
申请日：2019-12-16
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种可图形化的宽波段吸收器及其制备方法，包括：(1)根据所需的吸收器带宽和吸收率，对吸收器进行模拟仿真，并优化吸收器中各层薄膜的厚度，以设计获得所需波段的宽波段吸收器；(2)清洗基底，按照设计的各层薄膜的厚度，采用真空镀膜依次在所述基底上沉积金属吸收层、介质‑金属膜堆以及保护层；(3)在所述保护层上依次进行光刻胶旋涂、曝光、显影后，将掩模板图形转移到光刻胶上，以实现宽波段吸收器的图形化；(4)利用氢氟酸缓释液腐蚀去除掉暴露在遮挡胶膜外的保护层，利用铬腐蚀液腐蚀去除保护层下的介质‑金属膜堆和吸收层，以获得可图形化的宽波段吸收器。该方法制备方便，成本低，便于批量化生产。
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公开(公告)号：CN108710169B
公开(公告)日：2019-11-19
申请号：CN201810882085.9
申请日：2018-08-03
Applicant: 浙江大学
IPC: G02B5/28
Abstract: 本发明公开了一种辐射制冷滤光片，包括基板，所述的基板单面抛光，所述基板的毛面上设有金属反射层，所述基板的抛光面上依次设有中间层和顶层；所述中间层包括交替设置的A层和B层；每层A层、B层的厚度为50～400nm；所述A层的材料为二氧化硅或氧化铝，所述B层的材料为二氧化钛、氮化硅或碳化硅；或，所述A层的材料为二氧化钛或氧化铝，所述B层的材料为二氧化硅、氮化硅或碳化硅；所述顶层的材料为氟化镱、氟化钇或硫化锌；中间层与顶层共同构成在大气透明窗口(8～13um波段)波段的多谐振吸收增强器。相比于传统的滤光片，本发明的滤光片不但能长时间地在强光下工作，并且能够实现被动地辐射制冷。
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公开(公告)号：CN105891917B
公开(公告)日：2018-11-09
申请号：CN201610254849.0
申请日：2016-04-22
Applicant: 浙江大学
IPC: G02B5/00
Abstract: 本发明公开了一种基于多孔氧化铝的可见—近红外宽波段吸收器，包括基底，所述基底的正面布置有高低折射率介质减反膜系；所述基底的背面布置有双通的多孔氧化铝模板，所述多孔氧化铝模板上覆盖有金属薄膜。本发明还公开了上述吸收器的制备方法。本发明采用了多孔氧化铝模板，利用多孔氧化铝上覆盖一层薄薄高吸收金属的结构，实现多孔氧化铝孔底面和侧壁上介质‑金属间强烈的谐振，从而实现可见—近红外波段宽波段的吸收。本发明基于多孔氧化铝的可见—近红外宽波段吸收器结构简单，制备简便，成本低，便于大规模、批量化生产。因此该发明有望在杂散光消除、空间探测、成像、光热转换及电磁吸收等领域广泛应用。
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公开(公告)号：CN105022106B
公开(公告)日：2017-12-22
申请号：CN201510470432.3
申请日：2015-08-04
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种可见—近红外波段的超宽带吸收器及其制备方法，包括：可见—近红外波段的超宽带吸收器由基底和五层光学薄膜组成，最底层薄膜为金属吸收层，在金属吸收层上面是锗层，在锗层的上面为剩余三层，由下至上材料折射率逐渐减小。本发明基于金属吸收层的阻挡入射作用结合锗层的宽波段减反膜层，构建了宽波段的无透射的减反结构，实现了高效率、角度不敏感的可见—近红外波段超宽带吸收，在性能上完全超越了传统的吸收器。本发明的吸收器是紧凑的多层薄膜结构，相比于传统的宽带吸收器以及近些年提出的人工电磁吸收器，结构更加简单，避免了复杂的纳米加工技术，生产成本显著下降，生产周期显著缩短，便于大规模、批量化生产。
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公开(公告)号：CN105161141B
公开(公告)日：2017-11-17
申请号：CN201510469463.7
申请日：2015-08-04
Applicant: 浙江大学
IPC: G12B17/04
Abstract: 本发明公开了一种可见‑近红外波段的超宽带吸收器及其制备方法，吸收器由基底、底部金属吸收层、锗层/金属吸收层交替膜层顶部锗层以及顶部锗层的上面的折射率逐渐减小的三层宽波段减反膜层。本发明基于金属吸收层的阻挡入射作用结合锗层的宽波段减反膜层，构建了宽波段的无透射的减反结构，实现了高效率、角度不敏感的可见—近红外波段超宽带吸收，在性能上完全超越了传统的吸收器。本发明的吸收器是紧凑的多层薄膜结构，相比于传统的宽带吸收器以及近些年提出的人工电磁吸收器，结构更加简单，避免了复杂的纳米加工技术，生产成本显著下降，生产周期显著缩短，便于大规模、批量化生产。
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