一种光纤内反射镜及其制备方法
    31.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117724203A

    公开(公告)日:2024-03-19

    申请号:CN202311693080.9

    申请日:2023-12-08

    IPC分类号: G02B6/02

    摘要: 本发明提供了一种光纤内反射镜及其制备方法,光纤内反射镜包括:纤芯,纤芯上设置有沿纤芯的横向间隔分布的若干FBG,各FBG的光栅周期不同,相邻两个FBG的光栅周期相差第一预设值;各FBG均沿纤芯的轴向延伸。FBG的反射中心波长与光栅周期成正比,相邻的两个FBG的光栅周期相差第一预设值,使得多个并联的FBG的反射中心波长连续变化,且由于一个FBG可相当于一个窄带反射镜,因此本发明的光纤内反射镜的效果,可相当于多个反射中心波长连续变化的窄带反射镜叠加的效果,可实现宽带光的反射。另外,光纤内反射镜在纤芯轴向上,整体的长度是较小的,因此,不同波长光的光程差小,时间延迟小,色散量较低。因此,光纤内反射镜可同时实现宽带和低色散。

    一种光敏电阻材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN115472705A

    公开(公告)日:2022-12-13

    申请号:CN202211078470.0

    申请日:2022-09-05

    摘要: 本发明公开的一种光敏电阻材料及其制备方法,该制备方法采用NMP/H2O的混合液在较高温度下提供反应驱动力情况下,实现了对大尺寸氧化钼材料的有效剥离,得到尺寸为几纳米到几十纳米的纳米氧化钼材料,而后通过紫外线光照激发水中的氢离子插层到氧化钼晶体结构中,改变了晶体构型,使整体向无定形结构转变,同时也使得部分氧化钼中的钼元素的价态由6+向5+转变,MoO3变为MoO3‑x;将最终制得的MoO3‑xQDs(0

    基于导向磁铁的质子束传输与均匀化装置及其实现方法

    公开(公告)号:CN115175428A

    公开(公告)日:2022-10-11

    申请号:CN202210998429.9

    申请日:2022-08-19

    IPC分类号: H05H1/24 H05H3/00 H05H7/00

    摘要: 本发明公开了一种基于导向磁铁的质子束传输与均匀化装置及其实现方法。本发明在扇形磁铁之后设置导向磁铁,为高于中心能量和低于中心能量的质子束的聚焦分开调节,分别提供合适的聚焦力,将扇形磁铁之后的四极透镜中质子束的包络降低一半,显著降低四极透镜的建造成本,同时克服扇形磁铁之后的四极透镜中高于中心能量的质子束的聚焦力不足且低于中心能量的质子束聚焦力过大导致辐照终端质子束分布畸形的应用障碍,实现质子束的均匀化传输和应用。

    一种宽能谱粒子束传输与均匀化装置及其实现方法

    公开(公告)号:CN115003005A

    公开(公告)日:2022-09-02

    申请号:CN202210718618.6

    申请日:2022-06-23

    IPC分类号: H05H15/00

    摘要: 本发明公开了一种宽能谱粒子束传输与均匀化装置及其实现方法。本发明采用弱聚焦磁铁、狭缝和导向磁铁;本发明通过狭缝在X方向的位置选择能量范围,通过狭缝在Y方向的开口范围选择各个能量粒子束的通过比例,从而实现整形能谱;在弱聚焦磁铁出口设置特殊设计的导向磁铁,根据散角修正量与粒子的偏转半径r,得到导向磁铁出口的形状,有针对地修正各个能量粒子束X方向的散角,从而通过导向磁铁使各个能量粒子在辐照终端的分布中心回到束线中心线,使得整个粒子束的剂量分布均匀,克服色差效应对大能散粒子束辐照应用的限制,提高粒子束的辐照应用效率,满足辐照应用的要求。

    一种纳/微米结构过渡金属硼化物高熵陶瓷块体材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN114804889A

    公开(公告)日:2022-07-29

    申请号:CN202210575262.5

    申请日:2022-05-24

    摘要: 一种纳/微米结构过渡金属硼化物高熵陶瓷块体材料及其制备方法,属于高熵陶瓷领域。纳/微米结构过渡金属硼化物高熵陶瓷块体材料的制备方法包括:依据各元素在名义化学式中所占的原子比例,称取各初始原料的所需质量,然后将各初始原料混合均匀,压缩成型,将得到的素坯置于反应腔体中,保持压力为1‑25GPa,温度为800‑2000℃进行高温高压相变及烧结,获得纳/微米结构过渡金属硼化物高熵陶瓷块体材料,利用制备方法的改进获得高致密且具有单一物相的超硬、超强、高断裂韧性的纳/微米结构过渡金属硼化物高熵陶瓷块体材料。

    一种超分辨X射线阴影成像系统及其成像方法

    公开(公告)号:CN114563429A

    公开(公告)日:2022-05-31

    申请号:CN202210306053.0

    申请日:2022-03-25

    IPC分类号: G01N23/04 G06T3/40

    摘要: 本发明公开了一种超分辨X射线阴影成像系统,所述超分辨X射线阴影成像系统包括依次设置的X射线光源、样品台、X射线探测器和图像反演设备,所述X射线光源、所述样品台和所述X射线探测器的几何中心共线,所述样品台的几何中心有用于放置待测样品通孔,所述X射线光源用于提供X射线,且所述X射线能够通过样品台在所述X射线探测器上形成成像图像,所述图像反演设备用于获取所述成像图像,并对所述成像图像进行图像反演操作,以形成新的成像图像。本发明所提供的超分辨X射线阴影成像系统及其成像方法,能够克服光源大小对成像分辨率局限的情况下,获得清晰、高分辨的X射线阴影成像图像。

    激光放大系统及设备
    37.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113258425A

    公开(公告)日:2021-08-13

    申请号:CN202110510367.8

    申请日:2021-05-11

    IPC分类号: H01S3/10 H01S3/081

    摘要: 本申请公开了一种激光放大系统及设备。本申请的激光放大系统包括:种子激光器,用于提供种子光;偏振隔离器,与所述种子激光器耦合连接,用于对所述种子光进行选择性透过;激光放大器,与所述偏振隔离器耦合连接,用于对所述种子光进行放大,并得到初始激光;改变偏振返回系统,与所述激光放大器耦合连接,用于改变所述初始激光的偏振态,得到第一偏振光;其中,所述改变偏振返回系统还用于将所述第一偏振光返回至所述激光放大器中进行二次放大,并得到第二偏振光。本申请所提供的激光放大系统通过偏振控制以在对激光放大的同时,增加激光放大次数,提升增益效果。

    制备光纤光栅的装置及光纤光栅的制备方法

    公开(公告)号:CN112799170A

    公开(公告)日:2021-05-14

    申请号:CN202110109704.2

    申请日:2021-01-27

    IPC分类号: G02B6/02

    摘要: 本申请公开一种制备光纤光栅的装置以及光纤光栅的制备方法,通过在光敏光纤上预设温度分布,在预设精确控制的区域分布升长量的光敏光纤上使用相位模板法制作线性啁啾光栅,制作完成后,关闭二氧化碳激光器,则光敏光纤温度恢复均匀,温度变化过程使得光纤发生非线性收缩,从而实现非线性啁啾光栅的制备。采用申请提出的制备光纤光栅的装置以及光纤光栅的制备方法,能降低制备光栅的工艺难度,操作简单、成本低且兼容性好。

    一种多孔高熵陶瓷及其制备方法
    39.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118420372A

    公开(公告)日:2024-08-02

    申请号:CN202410530601.7

    申请日:2024-04-29

    摘要: 本发明公开了一种多孔高熵陶瓷及其制备方法,所述制备方法包括以下步骤:将造孔剂粉末与陶瓷前驱体粉末混合,进行压片处理,得到多孔高熵陶瓷中间体;对所述多孔高熵陶瓷中间体依次进行烧结处理、清洗处理,得到所述多孔高熵陶瓷;其中,所述造孔剂粉末的熔点为30℃‑1800℃,溶解度为99%以上;所述烧结处理的温度为800℃‑2300℃,压力为4GPa‑20GPa。与公开的原位反应、部分烧结来制备多孔高熵陶瓷的方法相比,本发明旨在通过引入低熔点易于溶解的造孔剂粉末来有效控制孔隙率的大小;其次相比于部分烧结带来的强度较低的问题,本发明通过引入高温高压来强化高熵陶瓷颗粒间的结合强度,从而实现高孔隙率与高强度并存的难题。

    一种散射后目标识别与定位方法及系统

    公开(公告)号:CN118397241A

    公开(公告)日:2024-07-26

    申请号:CN202410481935.X

    申请日:2024-04-22

    摘要: 本发明提供了一种散射后目标识别与定位方法及系统,散射后目标识别与定位方法包括:采集包含目标对象的散斑图像,生成数据集;将生成的数据集输入预先训练好的U‑net图像重建网络,利用预先训练好的U‑net图像重建网络生成重建图像;将生成的重建图像导入预先训练好的识别与定位网络,使用YOLO算法对导入的重建图像中的目标对象进行识别与定位。解决了相关技术中透过散射介质后物体成像和观测难度大的技术问题。