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公开(公告)号：CN116282904A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310258876.5
申请日：2017-08-30
Applicant: AGC株式会社
Abstract: 本发明的玻璃基板(2)，以氧化物基准的摩尔百分率计，在0.001～5％的范围内含有碱金属氧化物，并且碱金属氧化物中由Na2O/(Na2O+K2O)表示的摩尔比为0.01～0.99的范围，且在合计含量1～40％的范围内含有Al2O3和B2O3，并且由Al2O3/(Al2O3+B2O3)表示的摩尔比为0～0.45的范围，以SiO2为主成分。玻璃基板(2)的至少一个主表面的表面粗糙度以算术平均粗糙度Ra的值计为1.5nm以下且35GHz下的介电损耗角正切为0.007以下。
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公开(公告)号：CN116199432A
公开(公告)日：2023-06-02
申请号：CN202310166382.4
申请日：2016-05-24
Applicant: AGC株式会社
IPC: C03C27/06 , B32B17/06 , B32B7/12 , B32B17/00 , B32B33/00 , H01L23/15 , C03C3/091 , C03C3/089 , C03C3/087 , C03C3/085 , C03C3/083 , C03C3/078 , C03C3/076
Abstract: 本发明提供一种在将玻璃基板和含有硅的基板贴合的工序中气泡不易进入的玻璃基板。本发明涉及一种玻璃基板，是通过与含有硅的基板层叠而形成层叠基板的玻璃基板，所述玻璃基板的翘曲为2～300μm，由所述翘曲引起的倾斜角度为0.0004～0.12°。
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公开(公告)号：CN109987836B
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN201910222449.5
申请日：2014-06-24
Applicant: AGC株式会社
Abstract: 本发明涉及无碱玻璃。本发明涉及收缩率低、50℃～350℃下的平均热膨胀系数小、易于浮法成形的无碱玻璃。具体来说，本发明涉及一种无碱玻璃，所述无碱玻璃的收缩率C1为5ppm以下、收缩率C2为40ppm以下，以氧化物基准的质量％计，所述无碱玻璃含有SiO2 64～72、Al2O3 17～22、MgO 1～8、CaO 4～15.5，且0.20≤MgO/(MgO+CaO)≤0.41。
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公开(公告)号：CN113677637A
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN202080028313.1
申请日：2020-04-07
Applicant: AGC株式会社
Abstract: 本发明提供一种新的玻璃板，其可利用于高频器件的基板或窗材料，且高频带下的传播损耗或传输损耗小。所述玻璃板是10GHz的介电损耗角正切为tanδA、玻璃化转变温度为Tg℃的玻璃板，在将使上述玻璃板升温至(Tg+50)℃、接着以100℃/分钟降温至(Tg－150)℃时的介电损耗角正切设为tanδ100时，满足(tanδ100－tanδA)≥0.0004。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112533877A
公开(公告)日：2021-03-19
申请号：CN201980051753.6
申请日：2019-07-31
Applicant: AGC株式会社
Abstract: 一种板玻璃的制造方法，在该制造方法中，具有如下工序：熔化玻璃原料，而得到熔融玻璃；由上述熔融玻璃成形玻璃带；以及缓慢冷却上述玻璃带，在成形上述玻璃带的工序中，上述熔融玻璃以从上述板玻璃的失透温度(TL)至软化点(TS)为止的平均冷却速度为1500℃/分以上的方式被冷却。
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公开(公告)号：CN105992749B
公开(公告)日：2020-11-03
申请号：CN201480065338.3
申请日：2014-11-26
Applicant: AGC株式会社
Abstract: 本发明涉及一种无碱玻璃基板，其为通过氢氟酸(HF)蚀刻处理减薄了5μm以上的、板厚为0.4mm以下的无碱玻璃基板，上述无碱玻璃基板为规定的无碱玻璃，减薄后的上述无碱玻璃基板的比模量为31MNm/kg以上，光弹性常数为30nm/MPa/cm以下。
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公开(公告)号：CN105555725B
公开(公告)日：2020-04-14
申请号：CN201480051700.1
申请日：2014-09-17
Applicant: AGC株式会社
Abstract: 本发明涉及一种无碱玻璃，其应变点为680～735℃，50～350℃下的平均热膨胀系数为30×10‑7～43×10‑7/℃，比重为2.60以下，以氧化物基准的质量百分率表示，所述无碱玻璃含有：SiO2 58～65％、Al2O3 18～22％、B2O3 3～8％、MgO 0～1.3％、CaO 6.3～10％、SrO 1.7～5％、BaO 0.5～5％、ZrO2 0～2％，并且MgO+CaO+SrO+BaO为12～23％，MgO/CaO为0～0.2，MgO/(SrO+BaO)为0～0.4，SrO/BaO为1.2～1.6。
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公开(公告)号：CN106458701B
公开(公告)日：2020-02-21
申请号：CN201580023348.5
申请日：2015-04-24
Applicant: AGC株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种应变点高、为低粘性、蚀刻速度快、且容易浮法成形的无碱玻璃。本发明涉及一种无碱玻璃，其应变点为680℃以上，50℃～350℃下的平均热膨胀系数为30×10‑7～43×10‑7/℃，玻璃粘度达到102dPa·s时的温度T2为1670℃以下，玻璃粘度达到104dPa·s时的温度T4为1320℃以下，在蚀刻液中浸渍了20分钟时的质量减少为3.1mg/cm2以上，并且氧化物的组成是特定的。
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公开(公告)号：CN109715576A
公开(公告)日：2019-05-03
申请号：CN201780056271.0
申请日：2017-08-30
Applicant: AGC株式会社
Abstract: 本发明的玻璃基板(2)，以氧化物基准的摩尔百分率计，在0.001～5％的范围内含有碱金属氧化物，并且碱金属氧化物中由Na2O/(Na2O+K2O)表示的摩尔比为0.01～0.99的范围，且在合计含量1～40％的范围内含有Al2O3和B2O3，并且由Al2O3/(Al2O3+B2O3)表示的摩尔比为0～0.45的范围，以SiO2为主成分。玻璃基板(2)的至少一个主表面的表面粗糙度以算术平均粗糙度Ra的值计为1.5nm以下且35GHz下的介电损耗角正切为0.007以下。
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