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公开(公告)号：CN104540777A
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN201480001981.X
申请日：2014-07-18
Applicant: LG化学株式会社
CPC classification number: H01B1/08 , B82Y30/00 , H01B1/02 , H01L31/022466 , H01L31/022475
Abstract: 本发明涉及用于形成透明导电膜的核-壳纳米颗粒和使用其的透明导电膜的制造方法。更具体而言，本发明涉及包括包含铟或氧化铟的核和包含锡的壳的核-壳结构纳米颗粒、其制造方法、以及透明导电膜的制造方法，所述方法包括以下步骤：(i)将核-壳结构纳米颗粒分散在溶剂中以制造涂覆液，(ii)将所述涂覆液涂覆在衬底上以形成涂覆层，(iii)干燥所述涂覆层，以及(iv)对所述涂覆层进行退火处理。
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公开(公告)号：CN104011570A
公开(公告)日：2014-08-27
申请号：CN201280064182.8
申请日：2012-12-21
Applicant: LG化学株式会社
IPC: G02B5/30
CPC classification number: G02B5/3075 , G02B5/3058
Abstract: 本申请涉及一种制备偏振光分离元件的方法、偏振光分离元件、光辐射装置、辐射光的方法以及制备定向排序的光控取向层的方法。本申请的制备偏振光分离元件的方法具有简单的制备过程和较低的生产成本，并且有助于制备大尺寸的紫外偏振光分离元件。此外，本申请的偏振光分离元件对于紫外线和热具有优异的耐久性，由于对偏振特性的间距依赖性较低而具有简便的制备过程，而且即使在短波长区域内也能够实现优良的偏振度。
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公开(公告)号：CN103959157A
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：CN201280059582.X
申请日：2012-12-03
Applicant: LG化学株式会社
Inventor： 辛富建
IPC: G02F1/1337 , G02F1/13
CPC classification number: G03F7/70733 , G03F1/00 , G03F1/50 , G03F1/54 , G03F7/24 , G03F7/70691
Abstract: 本发明提供一种掩模、一种制造该掩模的方法、一种光照射器件、一种光照射的方法和一种制造取向有序的光配向层的方法。当使用本发明的掩膜时，可以用具有优异的线性性能和均匀的照度的光照射待照射对象的表面上。此外，例如，即使在待照射对象具有弯曲表面时，本发明的掩模可以有效地照射光。
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公开(公告)号：CN103959156A
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：CN201280059578.3
申请日：2012-12-03
Applicant: LG化学株式会社
Inventor： 辛富建
IPC: G02F1/1337 , G02F1/13
CPC classification number: G03F7/70733 , G03F1/00 , G03F1/50 , G03F1/54 , G03F7/24 , G03F7/70691
Abstract: 本发明提供一种掩模、一种制造该掩模的方法、一种光照射器件、一种光照射的方法和一种制造取向有序的光配向层的方法。当使用本发明的掩膜时，可以用具有优异的线性性能和均匀的照度的光照射待照射对象的表面上。此外，例如，即使在待照射对象具有弯曲表面时，本发明的掩模可以有效地照射光。
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公开(公告)号：CN101815963B
公开(公告)日：2012-06-27
申请号：CN200880109954.9
申请日：2008-09-26
Applicant: LG化学株式会社
Inventor： 辛富建
IPC: G02F1/13
Abstract: 一种利用激光蚀刻来制造玻璃刻板的方法，包括：浸渍步骤，其用于将待蚀刻的玻璃刻板浸入蚀刻溶液中；图案形成步骤，其用于使激光辐射到浸入蚀刻溶液中的玻璃刻板上以在玻璃刻板中形成图案；以及清洗步骤，其用于清洗已形成图案的玻璃刻板。与利用光致抗蚀剂来蚀刻的常规的刻板制造方法相比，所述方法允许制作具有显著长宽比和精细线宽的刻板，而且与仅利用激光的蚀刻方法相比，还确保了更有效的能量消耗和更高的蚀刻效率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101815963A
公开(公告)日：2010-08-25
申请号：CN200880109954.9
申请日：2008-09-26
Applicant: LG化学株式会社
Inventor： 辛富建
IPC: G02F1/13
Abstract: 一种利用激光蚀刻来制造玻璃刻板的方法，包括：浸渍步骤，其用于将待蚀刻的玻璃刻板浸入蚀刻溶液中；图案形成步骤，其用于使激光辐射到浸入蚀刻溶液中的玻璃刻板上以在玻璃刻板中形成图案；以及清洗步骤，其用于清洗已形成图案的玻璃刻板。与利用光致抗蚀剂来蚀刻的常规的刻板制造方法相比，所述方法允许制作具有显著长宽比和精细线宽的刻板，而且与仅利用激光的蚀刻方法相比，还确保了更有效的能量消耗和更高的蚀刻效率。
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公开(公告)号：CN101573639A
公开(公告)日：2009-11-04
申请号：CN200780048680.2
申请日：2007-12-28
Applicant: LG化学株式会社
IPC: G02B5/20
CPC classification number: G02B1/111
Abstract: 本发明提供了一种用于减反射的涂层组合物，其包含折射率为1.2～1.45的低折射－热固性树脂、折射率为1.46～2的高折射－紫外线固化树脂和紫外线吸收剂；使用所述涂层组合物制备的减反射膜；和制备所述减反射膜的方法。根据本发明的减反射膜具有优异的耐磨性和减反射特性。此外，由于可以以一步涂覆方法制备所述减反射膜，所以可以降低制备成本。
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公开(公告)号：CN108370057B
公开(公告)日：2021-06-25
申请号：CN201680071443.7
申请日：2016-11-29
Applicant: LG 化学株式会社
IPC: H01M10/04 , H01M10/0583 , H01M10/0585 , H01M10/052
Abstract: 本发明涉及制造电极组件的方法和包含通过所述制造方法制造的电极组件的电化学装置，并且根据本发明，存在能够通过使用激光简单且经济地制造含有具有期望的形状的隔膜的电极组件的效果。
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公开(公告)号：CN104126136B
公开(公告)日：2017-06-09
申请号：CN201280069065.0
申请日：2012-12-05
Applicant: LG化学株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B5/3075 , G02B5/1809 , G02B5/1838 , G02B5/3058
Abstract: 本申请涉及一种偏振分离元件，制造偏振分离元件的方法，光照射装置，照射光的方法以及制造光配向膜的方法。根据本申请的紫外线偏振分离元件对紫外线和热具有优异的耐久性，由于偏振特性的低间距依赖性而仅需要简单的制造过程。此外，根据本申请的偏振分离元件即使在短波长区域内也可以实现优异的偏振度和消光比。
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公开(公告)号：CN104540777B
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：CN201480001981.X
申请日：2014-07-18
Applicant: LG化学株式会社
CPC classification number: H01B1/08 , B82Y30/00 , H01B1/02 , H01L31/022466 , H01L31/022475
Abstract: 本发明涉及用于形成透明导电膜的核‑壳纳米颗粒和使用其的透明导电膜的制造方法。更具体而言，本发明涉及包括包含铟或氧化铟的核和包含锡的壳的核‑壳结构纳米颗粒、其制造方法、以及透明导电膜的制造方法，所述方法包括以下步骤：(i)将核‑壳结构纳米颗粒分散在溶剂中以制造涂覆液，(ii)将所述涂覆液涂覆在衬底上以形成涂覆层，(iii)干燥所述涂覆层，以及(iv)对所述涂覆层进行退火处理。
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