反射式偏光器
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103998956A

    公开(公告)日:2014-08-20

    申请号:CN201280062257.9

    申请日:2012-12-17

    CPC classification number: G02F1/133536 G02B5/3058 G02F2001/133548

    Abstract: 本发明涉及一种反射式偏光器、制备该反射式偏光器的方法、光学元件和显示装置。本申请的反射式偏光器即使在暴露于光源或外部摩擦下时,也可以具有优良的热耐久性和物理耐久性。此外,根据本申请的制备反射式偏光器的方法可以在不使用昂贵设备的情况下,提供具有较大尺寸的反射式偏光器。

    掩模和包括该掩模的滤光器制造设备

    公开(公告)号:CN103703418A

    公开(公告)日:2014-04-02

    申请号:CN201280036229.X

    申请日:2012-07-23

    CPC classification number: G03F1/38 G03F1/50 G03F7/24

    Abstract: 提供一种掩模以及包括该掩模的滤光器制造设备。一种用于在基膜中形成图案的卷对卷工艺的掩模,所述基膜被配置成沿弯曲表面移动,所述掩模包括掩模体,所述掩模体具有被设置成与所述基膜所缠绕的辊相对的弯曲表面以及与所述弯曲表面的相反侧相对应的平表面。所述掩模体的所述弯曲表面被设置成与所述辊的弯曲表面相距预定距离。所述掩模和滤光器制造设备能够实现在所述基膜上形成均匀图案,以提高产品的质量,并精确地获得所述基膜的性质。

    曝光装置
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104937697B

    公开(公告)日:2018-01-16

    申请号:CN201480005571.2

    申请日:2014-08-01

    Abstract: 本发明涉及一种光掩模,一种曝光装置及一种方法。根据本申请的掩模、曝光装置和方法,可以在圆柱形模具上容易地形成具有亚微米大小的精细图案,并且有图案形成于其中的圆柱形模具可容易地应用于自动化工艺,诸如辊对辊工艺。此外,使用由挠性材料形成的光掩模,因此可以大规模形成具有各种大小的精细图案,并且这些精细图案可以分开地或独立地形成在圆柱形模具的曲面上,本发明在工艺的自由度方面表现出优异的效果。

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