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公开(公告)号:CN110837098A
公开(公告)日:2020-02-25
申请号:CN201810931532.5
申请日:2018-08-16
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
IPC: G01T1/167 , G05B19/042
Abstract: 本公开提出一种甄别脉冲信号的方法、FPGA、装置和存储介质,涉及辐射探测技术领域。其中的方法包括:对数字脉冲信号进行脉冲幅度甄别,其中,数字脉冲信号是待甄别的脉冲信号经数字化处理得到的;如果脉冲幅度甄别结果大于预设幅度参考值,判定脉冲信号是α粒子脉冲信号;如果脉冲幅度甄别结果不大于预设幅度参考值,对数字脉冲信号进行脉冲形状甄别或脉冲宽度甄别;根据脉冲形状甄别结果或脉冲宽度甄别结果,判定脉冲信号是α粒子脉冲信号或β粒子脉冲信号。从而,有效甄别α、β粒子脉冲信号,降低甄别过程中低能α粒子串道到β粒子的比率。
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公开(公告)号:CN107884807A
公开(公告)日:2018-04-06
申请号:CN201711173408.9
申请日:2017-11-22
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
Abstract: 本发明涉及一种基于伽马能谱仪的自动换样设备,其包括:进样装置,包括托盘,托盘具有容纳多个样品盒的多个容纳部,容纳部能够沿着预定方向依次进给样品盒;抓取装置,设置于托盘的上方,抓取装置包括在垂直于托盘所在的平面内设置的具有两个自由度的机械手,机械手能够从容纳部依次抓取每个样品盒,并带动样品盒可移动地往返于预定位置与容纳部之间;以及铅室,其内部设置有伽马能谱仪,铅室进一步设置有门体,门体能够在预定位置接收由机械手抓取的样品盒,并带动样品盒可活动地进出于铅室。本发明实现了在无人看守的情况下自动完成所有待测样品的进样、取样、检测等连续工作,能够确保样品盒的放置位置精度,同时也提高了检测效率。
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公开(公告)号:CN102565097B
公开(公告)日:2014-07-09
申请号:CN201110435104.1
申请日:2008-03-18
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
Abstract: 本发明涉及放射性物质探测和X光辐射成像领域,提供了一种用于在同一地点进行对被检物体进行放射性物质探测和X光辐射成像的集成系统,解决了现有技术中两种检测必须分开进行的技术问题。本发明中的集成系统包括:X光检测设备,用于对被检物体进行X光辐射成像检查;放射性物质监测设备,用于检测所述被检物体发出的放射性射线;以及用于阻挡X光辐射到达所述放射性物质监测设备的装置。本发明实现了两种检测的紧凑集成,大大节约了空间、时间资源,避免了由于在放射性物质监测设备和X光检测设备之间不断运送货品导致的人力、物力上的浪费。
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公开(公告)号:CN102109491B
公开(公告)日:2013-03-27
申请号:CN200910243774.6
申请日:2009-12-24
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
IPC: G01N27/62
Abstract: 本发明公开一种离子迁移谱检测仪的基于离子图序列的物质识别方法,包括:步骤1:对一个经预处理后的离子图利用寻峰算法执行一次初步物质识别,并存储该次物质识别中所匹配到的物质;步骤2:以时间间隔Δt连续执行步骤1直到初步物质识别次数达到预定次数M,其中M为大于2的自然数;和步骤3:从M次初步物质识别中匹配到的物质中排除干扰物质。对于某些多峰物质,出峰数量、峰位等信息会随时间发生变化,如果仅根据从一个经预处理离子图的识别结果进行报警,会引起误报,从而给使用仪器的检察人员造成误导。采用本发明的这种基于离子图序列的物质识别方法,可降低误报警概率从而减少对检察人员的误导。
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公开(公告)号:CN102313775A
公开(公告)日:2012-01-11
申请号:CN201010226024.0
申请日:2010-07-06
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
IPC: G01N27/70
Abstract: 本发明公开了一种利用样品的离子迁移谱来检测该样品中是否包含一种或者多种待检测物质的物质检测方法,其中对于一种或者多种待检测物质中的每种待检测物质,确定是否存在至少两个连续的离子迁移谱,与该种待检测物质的某个峰位相对应的峰高至少增大了某个预先设置的峰增阈值;如果不存在所述至少两个连续的离子迁移谱,则认为所述样品中不包括该种待检测物质,相反则认为所述样品中包括该种待检测物质。本发明还公开利用该物质检测方法的离子迁移谱仪以及其中的物质检测器。本发明适于对包含大剂量待检测物质的样品进行检测并可以在检测之后快速用于下一次检测,而防止离子迁移谱仪中毒。
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公开(公告)号:CN101470206B
公开(公告)日:2011-10-05
申请号:CN200710308549.7
申请日:2007-12-29
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
CPC classification number: G01T1/362
Abstract: 本发明提供了一种利用多道谱仪的放射性物质探测系统及其方法。本发明还提供了一种在该放射性物质探测系统中使用的数据处理设备,用于处理以多道能谱表示的环境参考本底谱和被探测物的测量能谱来获得所探测射线的能量区域信息,该数据处理设备包括能量区域划分装置,用于将所述多道能谱简并成有限道的能谱,每道经简并的能谱代表一个能量区域;简并谱计算装置,用于与所述经简并的有限道谱相对应地、分别根据所述本底谱和所述测量能谱计算本底简并谱和测量简并谱;测量增长率谱计算装置,用于基于所计算的本底简并谱和测量简并谱来计算测量增长率谱;寻峰装置;用于查找所计算的测量增长率谱中的峰值;能量区域确定信息,用于基于所找到的测量增长率谱中的峰值来确定所述放射性物质射线对应的能量区域。
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公开(公告)号:CN101470205B
公开(公告)日:2011-07-27
申请号:CN200710308543.X
申请日:2007-12-29
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
Abstract: 一种放射性物质方位探测设备,包括:第一和第二射线探测装置,其探测面位于同一平面内,以允许以相同的方式接收来自同一方向的射线,并分别产生探测信号;射线屏蔽板,设置在成对设置的第一和第二射线探测装置之间,并且向探测面的前方垂直延伸;判断装置,接收来自第一和第二射线探测装置的第一探测信号和第二探测信号,并根据第一探测信号和第二探测信号确定放射性物质是否存在、并根据第一探测信号和第二探测信号之间的差值确定放射性物质的方位;以及并排设置的第一框架和第二框架,其间设有滑道机构,屏蔽板可在滑道机构内滑动以使屏蔽板伸出探测面的前方或伸缩到探测面的后方。本发明还提供了一种放射性物质方位探测方法。
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公开(公告)号:CN101210971A
公开(公告)日:2008-07-02
申请号:CN200610171612.2
申请日:2006-12-31
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
CPC classification number: G01T7/00
Abstract: 本发明涉及计数式射线探测仪器开发制造领域,尤其涉及探测系统中放射性物质射线能区识别方法及射线能区探测系统。首先在探测系统的电子学放大器上设置数字放大器和数字双能窗;针对所感兴趣源的能区,进行能量窗的阈值调整;用标准放射源对双能窗系统进行刻度,并保存参数;探测未知能区射线源的剂量、强度;将数据进行逻辑比较、条件修正、数学拟合;最后显示所探测射线源的能量区域。本发明既保证了系统对放射性物质探测的高灵敏特性,又使系统对所探测射线的能量区域具有识别功能,并且设计简单、兼容性好,适应范围广,不需配复杂设备,运行成本低,可以方便地应用于各种目的计数式射线探测系统。
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公开(公告)号:CN119575451A
公开(公告)日:2025-03-07
申请号:CN202311153009.1
申请日:2023-09-07
Applicant: 同方威视技术股份有限公司 , 上海核工程研究设计院股份有限公司
Abstract: 本公开提供一种射线衰减设备,包括:传输装置,包括:外壳;准直通道,形成于外壳内,包括适用于接受射线的输入端口和适用于引出射线的输出端口;吸收片,由射线屏蔽材料制成,设置在输出端口的外部;以及驱动装置,被构造成驱动吸收片相对于传输装置的输出端口移动,使得吸收片在屏蔽来自于输出端口的射线的屏蔽位置和全部离开输出端口的错开位置之间移动。本公开还提供一种放射性物质检测系统,包括射线衰减设备,能够发射射线的废物桶设置在准直通道的输入端口附近;以及探测器,探测器的检测端面向准直通道的输出端口,以检测从输出端口出射的射线剂量。吸收片用于在屏蔽位置用于吸收一部分射线,以使得穿过吸收片的射线的剂量减少。
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公开(公告)号:CN118210018A
公开(公告)日:2024-06-18
申请号:CN202211627436.4
申请日:2022-12-16
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
Abstract: 本公开提供了一种中子剂量当量率仪,包括:底座;慢化体,设置在底座上,慢化体适用于对中子进行慢化;中子检测器,设置在慢化体内,中子检测器适用于对慢化后的中子进行检测;仪器盒,设置在慢化体的顶部,仪器盒的一侧面为斜面;快插固定件,设置在斜面上;限位机构,设置在快插固定件的上表面的下端;定位凸起,设置在快插固定件的上表面的上端;移动终端,正面设置有用于显示中子检测仪检测结果的显示屏,背面设置有:定位槽,设置在移动终端的第一端的背面并与定位凸起结合,以限制移动终端在快插固定件的上表面内移动;配合限位机构,设置在移动终端的第二端的背面并与限位机构结合,以阻止移动终端的第二端与快插固定件的第二端分离。
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