层叠体、柔性电子器件及层叠体的制造方法

    公开(公告)号:CN112912241A

    公开(公告)日:2021-06-04

    申请号:CN201980069503.5

    申请日:2019-10-18

    Abstract: 本公开涉及一种层叠体,是至少具有基材层和无机薄膜层的层叠体,所述基材层至少包含挠曲性基材,在从该层叠体的无机薄膜层侧的表面沿厚度方向使用飞行时间型二次离子质谱仪(TOF‑SIMS)测定而得的深度剖析中,将Si‑、C‑及O2‑的离子强度分别设为ISi、IC及IO2,在C‑的离子强度曲线中,将基材层侧的离子强度值的变异系数的绝对值为5%以内的区域A1的平均离子强度设为ICA1,将相对于该区域A1在无机薄膜层表面侧且最接近该区域A1的、显示ICA1的0.5倍以下的离子强度的深度设为A2,将相对于A2在无机薄膜层表面侧且最接近A2的、显示极小值的深度设为A3,在C‑的离子强度的一次微分曲线中,将相对于A3在无机薄膜层表面侧且最接近A3的、微分值为0以上的深度设为B,将相对于A3在基材层侧且最接近A3的、显示微分分布值的极大值d(IC)max的深度设为C,将相对于C在基材层侧且最接近C的、微分值的绝对值为d(IC)max的0.01倍以下的深度设为D,则IO2/ISi的分布曲线在深度B与深度D之间的区域BD中具有至少1个极大值(IO2/ISi)maxBD。

    层叠体的制造方法
    44.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106794689B

    公开(公告)日:2020-11-10

    申请号:CN201580054264.8

    申请日:2015-10-07

    Abstract: 本发明提供一种层叠体的制造方法,是具有层叠膜和粘接层的层叠体的制造方法,该制造方法包括在该层叠膜的一面形成该粘接层的工序,该层叠膜是至少层叠基材和薄膜层而成的层叠膜,上述薄膜层至少含有硅,形成该粘接层的工序包括:一边将该层叠膜带状地连续的层叠膜卷料在长度方向输送,一边以对上述层叠膜卷料在该长度方向施加每单位截面积为大于等于0.5N/mm2且小于50N/mm2的张力的状态,在该层叠膜卷料的层叠有该薄膜层的面形成该粘接层。

    树脂层叠体的制造方法
    45.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107443701B

    公开(公告)日:2019-09-03

    申请号:CN201710378403.3

    申请日:2017-05-25

    Abstract: 本发明提供简便且容易地制造透明性优异的树脂层叠体的方法。该方法是制造至少具有中间层(A)以及分别存在于该中间层(A)的两侧的热塑性树脂层(B)和(C)的树脂层叠体的方法,该中间层(A)由树脂组合物(a)形成,该热塑性树脂层(B)和(C)分别由热塑性树脂(b)和(c)形成,该方法包括将至少由熔融的树脂组合物(a)、热塑性树脂(b)和(c)形成的熔融树脂层叠体从模头排出并进行冷却的工序,基于该树脂组合物(a)所含的全部树脂,该树脂组合物(a)含有10~90质量%的(甲基)丙烯酸树脂和90~10质量%的偏氟乙烯树脂,(甲基)丙烯酸树脂的重均分子量(Mw)为100000~300000,在该工序中,从排出温度到100℃为止的平均冷却速度为2.5℃/秒以上。

    带透明粘合剂的树脂层叠体及包含其的显示装置

    公开(公告)号:CN109153894A

    公开(公告)日:2019-01-04

    申请号:CN201780029054.2

    申请日:2017-05-22

    Abstract: 本发明提供对高温高湿具有耐久性的带有透明粘合剂的树脂层叠体。带透明粘合剂的树脂层叠体,其具有树脂层叠体(A)、和存在于该树脂层叠体(A)的至少一个表面的透明粘合剂(B),所述树脂层叠体(A)至少包含中间层、和分别存在于该中间层的两面的热塑性树脂层,其中,以中间层中包含的全部树脂成分为基准,上述树脂层叠体(A)的中间层包含35~45质量%的(甲基)丙烯酸树脂及65~55质量%的偏二氟乙烯树脂,该(甲基)丙烯酸树脂的重均分子量(Mw)为100,000~300,000,以中间层中包含的全部树脂成分为基准,上述中间层中的碱金属的含量为50ppm以下。

    层叠膜和挠性电子设备
    49.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106660318A

    公开(公告)日:2017-05-10

    申请号:CN201580047436.9

    申请日:2015-09-07

    Abstract: 本发明的课题是提供将不同种类的层设置于薄膜层上时耐冲击性优异的阻气性层叠膜。本发明提供一种层叠膜,其具备挠性基材和形成于上述基材的至少一侧的表面上的薄膜层,上述薄膜层含有Si、O和C,对上述薄膜层的表面进行X射线光电子能谱测定时,使用由宽扫描能谱得到的相当于Si的2p、O的1s、N的1s和C的1s的各自的结合能的峰而算出的C相对于Si的原子数比在下述式(1)的范围,对上述薄膜层表面进行红外光谱测定时,存在于950~1050cm‑1的峰强度(I1)与存在于1240~1290cm‑1的峰强度(I2)的强度比在下述式(2)的范围。0.01<C/Si≤0.20(1) 0.01≤I2/I1<0.05(2)。

    层叠膜
    50.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104395067B

    公开(公告)日:2016-11-09

    申请号:CN201380020136.2

    申请日:2013-04-11

    Abstract: 本发明提供一种层叠膜,其基材的表面已平坦化,且气体阻隔性优异。在具有基材(2)和在基材(2)的表面上形成有薄膜层(3)的层叠膜(1)中,在垂直于基材(2)的表面的方向的截面上,将对基材的表面(21)的一个端部(211)和另一个端部(212)进行连结的方向设为(X)方向,并将垂直于(X)方向的方向设为(Y)方向,求出通过基材的表面(21)上的凸起部(23)的边缘(231)且平行于(X)方向的线段(x1)与通过凸起部(23)的顶点(232)且平行于(Y)方向的线段(y1)的交点(p1),并将线段(y1)的顶点(232)与交点(p1)之间的距离设为a,且将线段(x1)的边缘(231)与交点(p1)之间的距离设为b,将凸起部(23)附近的平坦部(211)上的薄膜层(3)的厚度设为h;其中,所述截面是设定为使a/b的值成为最大的截面,所述表面(21)的所有凸起部(23)均满足由式(1)表示的关系:a/b<0.7(a/h)‑1+0.31……(1)。

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