高分子电解质膜的连续制造方法及其制造装置

    公开(公告)号:CN100380534C

    公开(公告)日:2008-04-09

    申请号:CN200480008650.5

    申请日:2004-03-24

    Inventor: 野殿光纪

    Abstract: 本发明提供一种高分子电解质膜的制造方法和其制造装置,是在多孔性基材的至少一个面上涂敷高分子电解质溶液,对已被涂敷的多孔性基材施加下式(A)0.01≤F≤10的范围的张力F(kg/cm),层叠该已被涂敷的多孔性基材和支撑材料而成。由此,可以连续地制造折皱的产生得以防止且外观优异的高分子电解质膜。

    树脂膜的制造方法及微小伤痕少的树脂膜

    公开(公告)号:CN109721747A

    公开(公告)日:2019-05-07

    申请号:CN201811267032.2

    申请日:2018-10-26

    Abstract: 本发明涉及树脂膜的制造方法及微小伤痕少的树脂膜。本发明为了防止树脂膜的小伤痕,目的在于在树脂膜的干燥工序中施以改良。本发明提供一种树脂膜的制造方法,其中,在将通过向支承体上涂布树脂清漆而得到的树脂膜从支承体剥离后进行干燥的工序中,使在前述树脂膜被从支承体剥离之前未同支承体面接触的与支承体相反的面侧与导辊接触。另外,本发明提供一种树脂膜,其是由聚酰亚胺、聚酰胺或聚酰胺酰亚胺形成的树脂膜,其特征在于,该树脂膜具有以100~1,000个/cm2的频率存在有大小为40~400μm的尺寸的微小伤痕的产生区域,并且,相对于膜整体的面积而言,前述微小伤痕的产生区域为10%以下。

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