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公开(公告)号：CN104325412A
公开(公告)日：2015-02-04
申请号：CN201410578572.8
申请日：2014-10-24
申请人： 浙江工业大学
摘要： 本发明公开了一种气浮轴旋转软性磨粒流抛光装置，用于对待加工细长杆进行研磨加工，包括固定板、细长杆核心抛光装置、工件进给装置和缓冲装置；细长杆核心抛光装置、工件进给装置、缓冲装置均固定安装在固定板上；工件进给装置用于细长杆核心抛光装置的轴向进给，缓冲装置用于缓冲细长杆核心抛光装置的轴向进给；细长杆核心抛光装置包括内螺旋式约束模块、约束模块安装座、密封盖、夹紧端盖、O型密封圈和螺杆，待加工细长杆穿过约束模块安装座一端通过联轴器与伺服电机相连接，另一端与滚动轴承相配合，约束模块安装座内部通过密封盖和夹紧端盖形成约束流道。本发明抛光效率高，抛光效果好，而且极其适合内壁超精密加工。
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公开(公告)号：CN104325411A
公开(公告)日：2015-02-04
申请号：CN201410577068.6
申请日：2014-10-24
申请人： 浙江工业大学
摘要： 本发明公开了一种螺旋式约束磨粒流加工装置，用于对待加工工件内壁进行研磨加工，包括固定板、螺旋式约束加工装置、工件夹紧装置、工件进给装置和缓冲装置；螺旋式约束加工装置、工件夹紧装置、工件进给装置、缓冲装置均固定安装在固定板上；工件夹紧装置用于夹紧待加工工件，螺旋式约束加工装置包括研磨导向杆和短螺旋槽，短螺旋槽固定在研磨导向杆上，待加工工件套装在研磨导向杆上，螺旋式约束加工装置和待加工工件在待加工工件内部形成约束流道；工件夹紧装置上设有约束流道的流体入口和流体出口；工件进给装置用于工件夹紧装置和待加工工件的轴向进给。本发明抛光效率高，抛光效果好，而且极其适合内壁超精密加工。
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公开(公告)号：CN103508304A
公开(公告)日：2014-01-15
申请号：CN201310494757.6
申请日：2013-10-18
申请人： 浙江工业大学
摘要： 一种可实现长距离二维跟随的恒力吊挂装置，包括恒力输出气缸、气浮装置、导轨系统、滑轮组、悬挂绳、吊挂座、检测装置等；直线导轨上安装两个挡块，第一滑块套装在直线导轨上且位于两个挡块之间，第二滑块、第三滑块套装在直线导轨上且分别位于挡块两边的，恒力输出气缸有两个且分别连接第二滑块、第三滑块，气浮装置连接第一滑块，第一定滑轮和第二定滑轮与气浮装置连接，吊挂座连接目标工件，吊挂座上连接两根悬挂绳，两根悬挂绳分别绕过第一定滑轮、第二定滑轮连接同侧的恒力输出气缸。本发明利用气浮导轨实现长距离水平跟随，通过恒力输出气缸实现目标工件水平运动过程中悬挂绳的收放、竖直方向的运动跟随和恒力吊挂，精度高、稳定性好。
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公开(公告)号：CN103128673A
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201310046611.5
申请日：2013-02-05
申请人： 浙江工业大学
IPC分类号： B24C5/04
摘要： 一种硬脆材料的约束磨粒流抛光工具头，包括抛光头、弹簧、紧定螺钉、固定座、回收底座和执行机构，紧定螺钉套装在固定座中心孔内，弹簧套装在紧定螺钉外，紧定螺钉另一端与抛光头连接并压紧弹簧，工件固定在回收底座上，固定座与执行机构固定，固定座中心孔上方有沉孔，紧定螺钉顶端与执行机构之间有空隙，抛光头通过执行机构带动初始状态时下端面被压在工件的表面上；抛光头呈圆柱型，其上端面中心有螺纹孔，抛光头从下端面打盲孔形成磨粒流容腔，抛光头侧面有磨料进料孔，磨料进料孔与磨粒流容腔相通。本发明工件表层的抛光精度和材料去除率高、加工损伤小、成本低。
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公开(公告)号：CN103084985A
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN201310045400.X
申请日：2013-02-05
申请人： 浙江工业大学
摘要： 一种约束磨粒流的超精密加工装置，包括抛光工具头、供料装置、回收底座和运动执行机构，抛光工具头中，护套套装在喷嘴的安装台阶上，喷嘴与抛光头管座固定连接，弹簧套装在喷嘴上并压紧护套，护套和喷嘴配合面上开有密封槽，护套为由对磨粒磨损不敏感的弹性材料制成的护套，喷嘴中心打通孔，抛光头管座内设有供磨粒流流入的通道，抛光头管座固定在安装板上，激光位移传感器固定在抛光头管座的一侧，安装板与运动执行机构连接；回收底座中心为安装工件的凸台，凸台四周有磨粒流回收槽，回收槽外围有一圈磨粒流挡板，磨粒流挡板高于工件上表面，回收槽内有磨粒流回收出口。本发明精度高、加工效率高、损伤小、成本低。
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公开(公告)号：CN102865310A
公开(公告)日：2013-01-09
申请号：CN201210280400.3
申请日：2012-08-08
申请人： 浙江工业大学
摘要： 一种基于电磁力补偿的消除惯性力影响的气浮随动装置，包括气浮轴、气浮套和长距离导轨气浮滑轮，气浮套套装在气浮轴上，气浮套有两个，气浮套均与贮气套密封连接，贮气套上套装吊挂绳，运动件吊装在吊挂绳上；加速度传感器安装在所述运动件上；电磁力产生机构包括电磁铁和永磁体，电磁铁装在安装座内上，永磁体装在贮气套上，永磁体正对电磁铁。本发明有效消除惯性力影响、控制精度较高。
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公开(公告)号：CN102817911A
公开(公告)日：2012-12-12
申请号：CN201210280398.X
申请日：2012-08-08
申请人： 浙江工业大学
摘要： 一种基于喷嘴喷力补偿的消除惯性力影响的气浮随动装置，包括气浮轴、气浮套和长距离导轨气浮滑轮，气浮套套装在气浮轴上，气浮套有两个，气浮套均与贮气套密封连接，贮气套上套装吊挂绳，运动件吊装在吊挂绳上；加速度传感器安装在运动件上；空气喷嘴分别安装在所述安装座的两侧，且所述空气喷嘴的空气出口朝向贮气套的侧边。本发明有效消除惯性力影响、控制精度较高。
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公开(公告)号：CN101972994A
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：CN201010522854.8
申请日：2010-10-28
申请人： 浙江工业大学
IPC分类号： B24C9/00
摘要： 一种软性磨粒流发生及循环系统，包括软性磨粒流发生装置和软性磨粒流循环存储装置，软性磨粒流发生装置包括磨粒液压控制设备和载流体发生设备；载流体发生设备是由高速射流泵和载流体储存箱组成，高速射流泵与载流体储存箱之间由管道相连；磨粒液压控制设备是由液压传动轴和磨粒储存箱组成，高速射流泵的输出口与磨粒储存箱的输出口相连形成软性磨粒流发生装置的出口；软性磨粒流循环存储装置包括约束模块和磨粒流储存箱，约束模块的入口与成软性磨粒流发生装置的出口相连，在约束模块进口处的管道上安装压电薄膜传感器，压电薄膜传感器与磨粒液压控制模块连接。本发明有效防止泵体损害、实现对软性磨粒流粘度的精确控制、实现循环加工。
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公开(公告)号：CN100393477C
公开(公告)日：2008-06-11
申请号：CN200410066805.2
申请日：2004-09-29
申请人： 浙江工业大学
IPC分类号： B24D17/00
摘要： 一种被动式气囊压控柔性抛光工具，所述的抛光工具包括一气囊、所述的气囊前端有抛光布作为工作面，所述的气囊安装在一保持架内；所述的保持架安装在一转动轴上，所述的转动轴套接一套管，所述的套管与所述的转动轴气密连接，所述的套管上开有外气源入口、溢流阀；套管内的转动轴上开有气流通道，所述的气流通道与所述的气囊连通。本发明提供一种抛光效率高、抛光品质高、便于实现在线控制、便于进行局域形面精密修正的被动式气囊压控模具曲面柔性抛光工具。
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公开(公告)号：CN118905893A
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202411338779.8
申请日：2024-09-25
申请人： 浙江工业大学
摘要： 一种用于螺杆抛光的磨料流抛光装置，包括基台，内旋式抛光装置，布设于基台上，与基台滑动连接，用于对待加工螺杆进行磨料流抛光，传动装置，布设于基台一侧，与内旋式抛光装置相连接，用于带动内旋式抛光装置沿基台长度方向移动，定位夹紧装置，布设于基台上，位于内旋式抛光装置两端，用于固定待加工螺杆；与现有技术相比，通过定位夹紧装置对待加工螺杆进行固定，传动装置驱动内旋式抛光装置沿待加工螺杆轴线方向进行往复运动，内旋式抛光装置对穿过其中的待加工螺杆表面进行抛光处理，避免螺杆抛光部分与外界环境接触，减少抛光过程中产生的粉尘外溢。
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