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公开(公告)号：CN104871064A
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：CN201380067052.4
申请日：2013-12-13
Applicant: 浜松光子学株式会社
Inventor： 泷口优
CPC classification number: G02B5/32 , G02B3/08 , G02B5/18 , G02B5/1814 , G02B21/00 , G02B21/0032 , G02B21/365 , G03H1/0005 , G03H1/0841 , G03H2001/005 , G03H2001/0094 , G03H2001/085
Abstract: 光观察装置(1A)包括：空间光调制器(20)，其在相位调制面(20a)显示菲涅尔型开诺全息照片，对光(L1)的相位进行调制而向观察对象物(B)照射调制光(L2)；对来自观察对象物(B)的被观察光(L3)进行摄像的摄像光学系统(15)；使摄像光学系统(15)在被观察光(L3)的光轴方向上移动的光学系统移动机构(16)；和控制部(19)，其以使摄像光学系统(15)的焦点位置与菲涅尔型开诺全息照片所引起的调制光(L2)的聚光位置的变化对应地变化的方式控制光学系统移动机构(16)。由此，即使在使调制光的聚光位置在光轴方向上发生变化的情况下，也能够实现能够容易地获得照射部位的观察光像的光观察装置。
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公开(公告)号：CN101861228B
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN200880116064.0
申请日：2008-08-26
Applicant: 浜松光子学株式会社
IPC: B23K26/067 , B23K26/06
CPC classification number: B23K26/00 , B23K26/06 , B23K26/0624 , B23K26/064 , B23K26/0661 , B23K26/067 , B23K26/355 , G03H1/2294 , G03H2001/0094 , G03H2225/32
Abstract: 本发明涉及一种激光加工装置(1)，其具备激光光源(10)、空间光调制器(20)、控制部(22)、聚光光学系统(30)以及遮挡部件(40)。相位调制型的空间光调制器(20)输入从激光光源(10)输出的激光，呈现用于在二维排列的多个像素的每一个上调制激光的相位的全息图，并输出该相位调制后的激光。控制部(22)依次在空间光调制器(20)中呈现多个全息图，利用聚光光学系统(30)使从空间光调制器(20)输出的激光聚光于一定个数M个的聚光位置，并选择性地将该M个聚光位置中的N个聚光位置配置于加工区域(91)，从而对加工对象物(90)进行加工。
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公开(公告)号：CN119173804A
公开(公告)日：2024-12-20
申请号：CN202380039641.5
申请日：2023-03-28
Applicant: 浜松光子学株式会社
Abstract: 本发明的光源装置具备：光源，其输出光；反射部，其具有控制信号的输入部，并且构成为能够基于该控制信号控制入射的光反射的角度的分布；以及衍射格子，其将从光源输出的光分光并入射于反射部，并且使在反射部反射的光的至少一部分返回光源，由光源和反射部形成光谐振器，通过基于控制信号控制在反射部反射的光的角度的分布，而控制从衍射格子返回光源的光的带宽。
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公开(公告)号：CN110546564B
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN201880026748.5
申请日：2018-06-13
Applicant: 浜松光子学株式会社
Abstract: 本实施方式涉及能够降低半导体发光元件对从空间光调制元件输出的调制后的光产生的衰减或衍射作用的发光装置，该发光装置包括从光输出面输出光的半导体发光元件，和对该光进行调制的反射型的空间光调制元件。空间光调制元件包括面积比半导体发光元件的光输入面大的光入射出射面，对经由光输入输出面中的与半导体发光元件的光输出面相对的区域取入的光进行调制，将调制后的光从该光输入输出面中的其他的区域输出到半导体发光元件的光输入面以外的空间。
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公开(公告)号：CN111448725B
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN201880078807.3
申请日：2018-11-28
Applicant: 浜松光子学株式会社
IPC: H01S5/18
Abstract: 本实施方式涉及一种分别关联的不同折射率区域的重心位置与晶格点的位置关系与现有的发光装置不同的发光装置及其制造方法。在该发光装置中，在基板上设置有包含发光部和与该发光部光学耦合的相位调制层的层叠体。相位调制层包含基本层和设置于该基本层内的多个不同折射率区域。各不同折射率区域的重心位置配置于通过设定于基本层的设计面上的假想的正方晶格的晶格点中的对应的基准晶格点的假想直线上。另外，基准晶格点与不同折射率区域的重心的沿该假想直线的距离以从该发光装置输出形成光学图像的光的方式对多个不同折射率区域的各个个别地设定。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111771150B
公开(公告)日：2022-12-02
申请号：CN201880090339.1
申请日：2018-12-26
Applicant: 浜松光子学株式会社
Abstract: 光片显微镜包括照射光学系统、检测光学系统和光检测器。照射光学系统具有：作为激发光输出波长随时间变化的光的波长扫描光源；分光元件，其入射从波长扫描光源输出的激发光，并且以与激发光的波长对应的出射角出射激发光；包含柱面透镜的中继光学系统，其中，从分光元件出射的激发光以与出射角对应的入射角入射于柱面透镜；和第一物镜，其使由中继光学系统引导来的激发光会聚，并使片状的激发光照射于试样。
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公开(公告)号：CN108351503B
公开(公告)日：2021-09-21
申请号：CN201680063250.7
申请日：2016-09-20
Applicant: 浜松光子学株式会社
Inventor： 泷口优
Abstract: 图像取得装置(1)具备：光源(11)，输出光(L1)；空间光调制器(13)，具有被排列成二维的多个像素并且对多个像素的每个调制从光源(11)输出的光(L1)的相位；物镜(16)，将由空间光调制器(13)调制的光(L1)照射于观察对象物(S)；光检测器(18)，对来自观察对象物(S)的光(L1)进行摄像；控制部(19)，按照分别对应于多个像素的相位值二维地分布的相位图案(P)控制多个像素的每个的相位调制量。相位图案(P)是基于规定的基本相位图案(31)而被生成的相位图案(P)。基本相位图案(31)具有相位值沿着规定的方向(D1)连续增加的第1区域(32)、在规定的方向(D1)上与第1区域(32)相对并且相位值沿着规定的方向(D1)连续减少的第2区域(33)。
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公开(公告)号：CN110494795B
公开(公告)日：2021-07-27
申请号：CN201880023641.5
申请日：2018-03-26
Applicant: 浜松光子学株式会社
Abstract: 伪散斑图案生成装置(1A)包括光源(11)、扩束器(12)和空间光调制器(13)。空间光调制器(13)具有基于从伪随机数图案和相关函数计算的伪散斑图案的强度的调制分布，输入从光源(11)输出而由扩束器(12)放大了光束直径的光，根据调制分布对其输入的光空间地进行调制，输出其调制后的光。由此，实现生成的散斑图案的空间构造或光强度统计分布的设定的自由度高的伪散斑图案生成装置等。
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公开(公告)号：CN112262508A
公开(公告)日：2021-01-22
申请号：CN201980038651.0
申请日：2019-06-04
Applicant: 浜松光子学株式会社
IPC: H01S5/18
Abstract: 本发明一个实施方式涉及的发光装置降低S‑iPM激光器的输出中包含的0次光。该发光装置具备发光部和相位调制层，相位调制层具有基本层和分别包含多个异折射率要素的多个异折射率区域。以设定于相位调制层上的假想的正方晶格的晶格点为中心的各单位构成区域中，从对应的晶格点至异折射率要素的各重心的距离大于晶格间隔的0.30倍且为0.50倍以下。此外，从对应的晶格点至异折射率要素整体的重心的距离大于0且为晶格间隔的0.30倍以下。
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公开(公告)号：CN110546564A
公开(公告)日：2019-12-06
申请号：CN201880026748.5
申请日：2018-06-13
Applicant: 浜松光子学株式会社
Abstract: 本实施方式涉及能够降低半导体发光元件对从空间光调制元件输出的调制后的光产生的衰减或衍射作用的发光装置，该发光装置包括从光输出面输出光的半导体发光元件，和对该光进行调制的反射型的空间光调制元件。空间光调制元件包括面积比半导体发光元件的光输入面大的光入射出射面，对经由光输入输出面中的与半导体发光元件的光输出面相对的区域取入的光进行调制，将调制后的光从该光输入输出面中的其他的区域输出到半导体发光元件的光输入面以外的空间。
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