利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

25 条记录 (耗时 0.013 秒)

    在衬底上形成期望的图案的方法
    5.
    发明公开
    在衬底上形成期望的图案的方法 无效

    公开(公告)号：CN105518528A

    公开(公告)日：2016-04-20

    申请号：CN201480049625.5

    申请日：2014-07-21

    申请人： 卑尔根技术交易股份公司

    发明人： B·霍尔斯特

    IPC分类号： G03F1/20 ,  G03F1/78 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/2037 ,  G03F1/20 ,  G03F7/2045 ,  G03H1/0891 ,  G03H5/00 ,  G03H2001/0094 ,  G03H2001/2234

    摘要： 本发明涉及在衬底上形成期望的图案的方法，所述方法包括步骤：a)产生原子束或分子束，尤其是He原子束；b)提供具有期望图案，例如在所述衬底上期望的图案的傅里叶变换的掩模；c)引导所述原子束或分子束通过所述图案化的掩模至衬底，据此通过与穿透掩模的部分所述原子束或分子束相互作用，在所述衬底上形成图案，所述图案基于掩模的图案，其中所述图案化的掩模由包含以下步骤的方法制备：d)提供多孔起始掩模材料，所述材料具有允许所述原子束或分子束穿透的尺寸的开口；e)通过填充所述掩模的部分开口从而对所述原子束或分子束变得不透明来在所述掩模上生成期望的图案。本发明的方法对于制备导电电路结构(微芯片)或微机电系统(MEMS)或微米/纳米射流结构或一般纳米结构的表面(即，疏水或亲水的表面或反射/抗反射表面)是有用的。

    光观察装置
    6.
    发明公开
    光观察装置 有权

    公开(公告)号：CN104871064A

    公开(公告)日：2015-08-26

    申请号：CN201380067052.4

    申请日：2013-12-13

    申请人： 浜松光子学株式会社

    发明人： 泷口优

    IPC分类号： G02B21/00 ,  G02B3/08 ,  G02B5/18

    CPC分类号： G02B5/32 ,  G02B3/08 ,  G02B5/18 ,  G02B5/1814 ,  G02B21/00 ,  G02B21/0032 ,  G02B21/365 ,  G03H1/0005 ,  G03H1/0841 ,  G03H2001/005 ,  G03H2001/0094 ,  G03H2001/085

    摘要： 光观察装置(1A)包括：空间光调制器(20)，其在相位调制面(20a)显示菲涅尔型开诺全息照片，对光(L1)的相位进行调制而向观察对象物(B)照射调制光(L2)；对来自观察对象物(B)的被观察光(L3)进行摄像的摄像光学系统(15)；使摄像光学系统(15)在被观察光(L3)的光轴方向上移动的光学系统移动机构(16)；和控制部(19)，其以使摄像光学系统(15)的焦点位置与菲涅尔型开诺全息照片所引起的调制光(L2)的聚光位置的变化对应地变化的方式控制光学系统移动机构(16)。由此，即使在使调制光的聚光位置在光轴方向上发生变化的情况下，也能够实现能够容易地获得照射部位的观察光像的光观察装置。