一种用于磁控溅射镀膜的粉体分散方法

    公开(公告)号:CN107955937A

    公开(公告)日:2018-04-24

    申请号:CN201610899672.X

    申请日:2016-10-17

    IPC分类号: C23C14/35

    CPC分类号: C23C14/35 C23C14/223

    摘要: 本发明涉及一种用于磁控溅射镀膜的粉体分散方法,在用于磁控溅射镀膜的粒径小、比表面积大的粉体基材中掺入一定比例粒径大、比表面积小的大颗粒粉体,在传统的机械振动分散条件下,该方法可以有效降低整个体系的表面能,减少粉体基材的团聚倾向,并可以通过大颗粒粉体与团聚粉体基材的撞击提高粉体基材的分散效果,实现均匀镀膜。镀膜完成后通过筛分将大颗粒粉体去除,即可获得镀膜产品。所述粉体基材粒径为0.1-150μm,所述大颗粒粉体的粒径为200μm-2mm,二者的质量比为5~20:1。

    一种异氰酸酯的制备方法
    53.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104447412A

    公开(公告)日:2015-03-25

    申请号:CN201410665636.8

    申请日:2014-11-12

    IPC分类号: C07C265/14 C07C263/10

    摘要: 本发明涉及一种二异氰酸酯的制备方法,包括以下步骤:碱溶液中,胺类化合物与二(三氯甲基)碳酸酯在惰性液体介质中发生反应,反应温度为-20~30℃,得到异氰酸酯化合物。本发明在反应过程中使用碱性溶液,一方面吸收反应产出的盐酸等酸性气体,促进反应的进行,减少了设备的腐蚀,另一方面降低了BTC使用的风险,减少了有毒气体光气的产生,是一种安全环保的制备异氰酸酯的方法。

    一种微纳米粉体清除设备
    58.
    实用新型

    公开(公告)号:CN204866536U

    公开(公告)日:2015-12-16

    申请号:CN201520498114.3

    申请日:2015-07-05

    IPC分类号: B07B9/00 B07B1/28 B07B1/55

    摘要: 本实用新型涉及一种微纳米粉体清除设备,包括用于导入粉体的加料口(1)、用于导出粉体的出料收集器(2)、用于筛分粉体的超声波换能振动设备(3)、筛网(4)、弹簧(5)、振动装置(6)和用于分离超细粉体的离子风装置(7),离子风装置设置于每层筛网上方。本实用新型在分离不同粒径精细粉体的同时除去精细粉体表面的超微细粉,在保证粒径大于800目的精细粉体分离的基础上,进一步实现精细粉体表面超微细粉的分离。

    一种用于微纳米粉体的磁控溅射连续镀膜设备

    公开(公告)号:CN205347566U

    公开(公告)日:2016-06-29

    申请号:CN201620101795.X

    申请日:2016-02-01

    IPC分类号: C23C14/35 C23C14/56

    摘要: 本实用新型涉及一种用于微纳米粉体的磁控溅射连续镀膜设备,包括真空腔体(1)、输送带(2)、旋转振动装置(3)、连续下料装置(10)、磁控溅射装置(11)、收料仓(12)和储料仓(13),其中旋转振动装置包括旋转振动杆(4)、传动杆(5)、联轴器(6)、密封件(7)、法兰(8)和转动电机(9)。该设备可将转动电机(9)放置于真空腔体(1)外部,避免磁场、电场、温度对电机的影响,增加设备的工艺稳定性及使用寿命,同时利用转动电机(9)和旋转振动杆(4)带动输送带(2)振动,实现输送带上表面粉体抖动,保证粉体镀膜均一性。

    透明导电膜及含其的光电器件

    公开(公告)号:CN210110362U

    公开(公告)日:2020-02-21

    申请号:CN201921244898.1

    申请日:2019-08-02

    摘要: 本实用新型公开了一种透明导电膜及含其的光电器件。该透明导电膜依次包括相互叠置的一第一导电膜层、一透明基板层和一第二导电膜层,所述透明基板上设有若干贯穿的通孔,所述通孔的孔径为0.5~100μm;当所述透明基板上设有两个或两个以上贯穿的通孔时,任意两个相邻通孔中心点之间的间距为0.1~100mm,所述通孔占所述透明基板的体积比为0.001~25‰,所述通孔中填充有导电介质。本实用新型中的透明导电膜能够在不影响材料透光性的基础上实现体相导电,导电性能均一,可以产生更多的信号,实现了光电产品的多元化,能够控制导电液晶板的可擦写范围。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利