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公开(公告)号：CN109990736A
公开(公告)日：2019-07-09
申请号：CN201910240923.7
申请日：2019-03-28
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01B11/26
Abstract: 本发明属于光电检测与测量领域，并具体公开了一种基于斯托克斯矢量的滚转角测量方法及装置，其由线偏振光产生模块产生线偏振光，利用与待测物体固连的波片将入射的线偏振光调制为椭圆偏振光，且椭圆偏振光的偏振态由待测物体的滚转角决定，通过完全斯托克斯偏振仪测量椭圆偏振光的偏振态，从斯托克斯偏振仪测得的斯托克斯参量得到旋转物体的滚转角。与现有的滚转角测量方法和装置相比，该滚转角测量实现了滚转角的超大量程绝对式测量，能够满足精密加工与测量、工业机器人、航天器自动对接等对滚转角测量要求量程大、精度高和绝对式测量的应用场合，并具备简洁、紧凑、高速和低成本等优点。
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公开(公告)号：CN103424839B
公开(公告)日：2015-05-06
申请号：CN201310320167.1
申请日：2013-07-26
Applicant: 华中科技大学
CPC classification number: G01B11/272 , G02B5/3083 , G02B27/62
Abstract: 本发明公开了一种复合波片光轴对准方法，首先，将待对准的复合波片中的一个单波片固定不动，将另外一个单波片与旋转装置相连，使两个单波片之间产生相对转动；然后将偏振光垂直投射在待对准复合波片上，并用探测器探测从待对准复合波片上出射的光强信号，分析得到复合波片的等效光谱参数，与设计的理想值进行比较，得到其差值的波动曲线；最后转动旋转装置，使两个单波片产生相对转动，检测等效光谱参数与理想值之间差值的波动幅度变化，直至波动消失或者波动幅值小于限定值，则可认为完成了复合波片光轴对准。该方法可以实现对复合波片光轴进行高精度对准，原理简单，容易操作，并且对准精度可控。
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公开(公告)号：CN103559329A
公开(公告)日：2014-02-05
申请号：CN201310452328.2
申请日：2013-09-27
Applicant: 华中科技大学
IPC: G06F17/50
Abstract: 本发明公开了一种光学散射测量中粗糙纳米结构特性参数的测量方法，可以对IC制造中所涉及纳米结构的结构参数和粗糙度特征参数进行非接触、非破坏的测量。首先，通过仿真分析的手段，选出最优测量配置与最优等效介质模型；其次，将上述仿真结果运用于实际纳米结构的测量，包括：在最优测量配置下，对实际纳米结构进行光学散射测量，获得测量光谱；运用基于最优等效介质模型的参数提取算法，对测量光谱进行分析，获得提取参数的数值；通过提取参数与待测参数间稳定性最佳的映射关系式对提取参数进行映射，获得待测参数的数值。
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公开(公告)号：CN103424881A
公开(公告)日：2013-12-04
申请号：CN201310320411.4
申请日：2013-07-26
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种菲涅尔棱镜相位延迟器，其由两斜方棱镜各以其一端的倾斜底面相互贴合形成对称结构而构成，通过选择相应折射率的棱镜材料以及确定斜方棱镜斜角，入射光束经其中一个斜方棱镜另一端的倾斜底面垂直入射到该斜方棱镜，经其相对的两侧面依次进行两次全反射后通过两斜方棱镜的贴合面入射到另一斜方棱镜，并同样经该斜方棱镜的相对的两侧面依次进行两次全反射后出射，即可得到该双旋转补偿器穆勒矩阵椭偏仪所需求的相位延迟量。该相位延迟器能够在包括紫外、可见以及红外的波段内实现良好的消色差性能，并且对光束入射角不敏感，同时便于加工，可用作双旋转补偿器穆勒矩阵椭偏仪的旋转补偿器，能够适应双旋转补偿器穆勒矩阵椭偏仪对宽光谱波段及127°相位延迟量的要求。
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公开(公告)号：CN103424839A
公开(公告)日：2013-12-04
申请号：CN201310320167.1
申请日：2013-07-26
Applicant: 华中科技大学
CPC classification number: G01B11/272 , G02B5/3083 , G02B27/62
Abstract: 本发明公开了一种复合波片光轴对准方法，首先，将待对准的复合波片中的一个单波片固定不动，将另外一个单波片与旋转装置相连，使两个单波片之间产生相对转动；然后将偏振光垂直投射在待对准复合波片上，并用探测器探测从待对准复合波片上出射的光强信号，分析得到复合波片的等效光谱参数，与设计的理想值进行比较，得到其差值的波动曲线；最后转动旋转装置，使两个单波片产生相对转动，检测等效光谱参数与理想值之间差值的波动幅度变化，直至波动消失或者波动幅值小于限定值，则可认为完成了复合波片光轴对准。该方法可以实现对复合波片光轴进行高精度对准，原理简单，容易操作，并且对准精度可控。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103134592A
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201310040729.7
申请日：2013-01-31
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01J3/447
Abstract: 本发明公开了一种透射式全穆勒矩阵光谱椭偏仪及其测量方法，方法是将起偏臂产生的调制光线投射到待测样件表面，检偏臂将待测样件反射(或透射)的光线解调并接收，通过对测量光谱进行谐波分析，计算获得待测样件的全穆勒矩阵信息，并通过非线性回归，库匹配等算法拟合提取待测样件的光学常数，特征形貌尺寸等信息。椭偏仪包括起偏臂(包括光源，透镜组，起偏器和伺服电机驱动的补偿器)，待测样件和检偏臂(包括伺服电机驱动的补偿器，检偏器，透镜组和光谱仪)。本发明可实现各种信息光电子功能材料和器件，以及纳米制造中各种纳米结构的在线测量，具有非破坏性，快速和低成本的特点。
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公开(公告)号：CN102508346A
公开(公告)日：2012-06-20
申请号：CN201110349669.8
申请日：2011-11-08
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了提供的一种用于复合波片光轴对准的装夹装置，该装置包括电控旋转台、固定波片卡盘和旋转波片卡盘；波片支架安装在电控旋转台，固定波片卡盘与电控旋转台基座连在一起，旋转波片卡盘与电控旋转台转盘连在一起，使用时，将安装有晶片的波片支架安装在固定波片卡盘和旋转波片卡盘上。本发明提供的装夹装置可以实现在对复合波片光轴进行高精度对准时，对组成复合波片的各晶片进行夹持，并保证不同晶片间能产生高精度高分辨率的相对转动。与现有波片夹具相比，本发明所提供的装夹装置不仅能够实现对两片晶片的夹持和精确定位，而且能够使两片晶片间产生高精度高分辨率地相对转动，更适合用于复合波片光轴的对准过程。
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公开(公告)号：CN101881599A
公开(公告)日：2010-11-10
申请号：CN201010223106.X
申请日：2010-07-12
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种纳米结构三维形貌测量方法及其装置，可以同时测量纳米结构线宽、深度、侧墙角、线缘粗糙度、线宽粗糙度等三维形貌参数的方法及装置。本发明方法步骤如下：将波长为紫外到近红外波段的光束经分光、起偏、前后相位补偿得到的椭圆偏振光投射到待测；采集待测结构表面反射零级衍射信号，计算得到纳米结构测量穆勒矩阵；将测量穆勒矩阵与理论穆勒矩阵进行匹配，提取得到待测纳米尺寸结构的三维形貌参数值。本发明所提供的纳米结构三维形貌参数测量装置，能为基于图形转移的批量制造方法如光刻和纳米压印等工艺中所涉及的一维和二维亚波长周期性结构，提供一种非接触、非破坏性、低成本、快速测量手段。
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公开(公告)号：CN118010680A
公开(公告)日：2024-05-10
申请号：CN202311804425.3
申请日：2023-12-26
Applicant: 华中科技大学 , 上海精测半导体技术有限公司
Abstract: 本发明属于半导体掺杂相关技术领域，其公开了一种半导体高斯掺杂轮廓重构方法、系统及电子设备，方法包括：建立光调制反射技术量测模型；将激发光功率从最大功率开始按照间隔步长依次递减调节；每次激发光功率下，获取半导体样品的基底过剩载流子浓度，根据掺杂层拐点处掺杂浓度与基底过剩载流子浓度之间的预设比例值，获取拐点处掺杂浓度；以每次激发光功率下的拐点处掺杂浓度构造单箱体轮廓，计算获取单箱体轮廓的结深，根据多次激发光功率下的拐点处掺杂浓度以及结深，获取半导体样品的高斯掺杂轮廓。本发明将不同激发光功率下获得的拐点处掺杂浓度构造为单箱体轮廓，能够实现高斯掺杂轮廓的非接触非破坏重构，便于进行实际掺杂轮廓的测量。
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公开(公告)号：CN116879181A
公开(公告)日：2023-10-13
申请号：CN202310784054.0
申请日：2023-06-28
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种薄膜材料的光学特性及几何特性测量方法，属于椭偏测量领域，该方法包括：利用样条模型和正向光学特性模型生成训练集；训练神经网络模型；将测量光学表征量输入至神经网络获得的材料的几何参数和样条参数的初步结果依次输入样条模型和正向光学特性模型得到理论光学表征量，利用理论与测量光学表征量之间的偏差对神经网络模型进行优化后，其输出的预测值即为该材料最终的几何及光学特性参数。本发明不依赖操作人员的经验，可实现智能化表征；具有较强泛化能力，可解决训练数据不充分造成的预测不准确的问题，实现对不同于训练集中的测量配置的样品测试；适用于多种几何结构的测量；提取结果准确，且对噪声的鲁棒性好。
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