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公开(公告)号：CN111366087B
公开(公告)日：2022-03-08
申请号：CN202010275953.4
申请日：2020-04-09
Applicant: 武汉颐光科技有限公司 , 华中科技大学
IPC: G01B11/06
Abstract: 本发明涉及光学薄膜测量技术领域，特别涉及一种可局部测量的显微成像膜厚测量装置，包括：光路组件、载物组件及机架组件，载物组件设置在机架组件上；光路组件连接在机架组件上；光路组件用于对载物组件上的薄膜进行光学测量。本发明提供的可局部测量的显微成像膜厚测量装置，光源可同时作为测量光源和照明光源，不仅能发出测量光束，同时能提供对测量区域标记的光束，不需要另外设置照明光源，可避免对测量光源带来杂散光，提高了测量结果的准确性。
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公开(公告)号：CN111426275B
公开(公告)日：2021-12-28
申请号：CN202010276441.X
申请日：2020-04-09
Applicant: 武汉颐光科技有限公司 , 华中科技大学
IPC: G01B11/06
Abstract: 本发明涉及光学测量技术领域，特别涉及一种薄膜的测量方法，通过将黑样件放在样品台上，测量反射率谱为0的黑样件反射光强谱；将厚度已知的测量样件放在样品台上进行测量，利用光谱仪获取标准样件的反射光强谱；测量标准样件时对应的黑样光强；找到局部测量区域后关闭照明光源，利用光谱仪获取待测样件的反射光强谱；计算待测样件的实际测量反射率谱；假定待测样件的膜厚序列，通过计算获取相对应的反射率谱序列；通过表达拟合程度，拟合程度最佳时所对应的厚度d为待测样件膜厚。本发明提供的薄膜的测量方法，可实现对样品的局部区域精确测量。
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公开(公告)号：CN113267130A
公开(公告)日：2021-08-17
申请号：CN202110658140.8
申请日：2021-06-11
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01B11/06
Abstract: 本发明公开了一种线扫描膜厚测量系统，包括：照射模块、光谱成像模块和数据处理模块；所述照射模块采用离散分布的光纤，用于产生离散的线性平行光束，垂直照射待测样品；所述光谱成像模块，用于采集待测样品被照射后表面形成的干涉光，生成具有位置维度和光谱维度的二维图像；所述数据处理模块，用于对二维图像进行功率谱分析得到待测样品膜厚。本发明照射模块采用离散分布的光纤，产生离散的线性平行光束，离散测量可以测得远多于单点测量所获得的膜厚，所得到的膜厚分布更接近真实分布。同时产生离散的线性平行光束，减少了膜厚叠加情况，进而可以提高测量精度。能够满足卷对卷加工工艺中大幅宽半导体薄膜的实时在线检测需求。
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公开(公告)号：CN108061709B
公开(公告)日：2019-09-24
申请号：CN201711323981.3
申请日：2017-12-13
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01N21/21
Abstract: 本发明属于材料冲击动力学参数测量领域，并公开了一种透明材料冲击动力学参数获取方法。该方法包括：(a)建立了平稳冲击波加载下透明薄膜样品的双层薄膜分层模型(b)利用第一性原理，证明了P偏振光以布儒斯特角入射样品时，反射光相位对时间导数的波形呈周期性震荡特性，推导出了震荡特性与冲击动力学参数之间的表达式；(c)采用泵浦探测测试系统测量待测样品的实际震荡周期、实际幅值、和实际震荡偏离值；(d)将获得的测量实际值带入获得的表达式中进而获得实际冲击动力学参数。通过本发明，实现了双层薄膜模型中，使用公式直接提取透明材料冲击动力学参数，该方法使用的测量光路简单，易于实施，数据易于处理。
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公开(公告)号：CN103424797B
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201310321074.0
申请日：2013-07-26
Applicant: 华中科技大学
IPC: G02B5/30
Abstract: 本发明公开了一种四分之一双波片相位延迟器，可在紫外、可见及近红外的波段范围内实现消色差，其特征在于，该双波片相位延迟器由两个同种材料或者不同材料的四分之一零级波片构成，该两零级波片沿光轴平行布置，且两光轴夹角为45°，其中，所述两个四分之一零级波片的中心波长在波段范围内，且满足使得两零级波片组成的双波片在该波段范围内各波长点对应的相位延迟量δe(λ)与理想相位延迟量值π/2之间差值的最大值取得最小值。与现有的双波片相比，该相位延迟器将两个零级波片光轴按45°组合，而不是90°，得到的双波片相位延迟器在全波段内有更好的消色差等特性，能够满足光谱椭偏测量等宽光谱光学系统的使用要求。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103411890B
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201310302367.4
申请日：2013-07-18
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01N21/21
Abstract: 本发明公开了一种旋转补偿器型椭偏仪系统误差评估及消除方法该方法，包括首先建立待优化椭偏仪的系统模型，并求的待测样品穆勒矩阵解析表达式；然后通过对泰勒展开，获得n阶旋转补偿器型椭偏仪椭偏仪系统误差与元件误差之间的关系。最后改变旋转补偿器型椭偏仪起检器与检偏器方位角，经过四次测量，并求得四次测量结果的均值，这个均值就是已消除了椭偏仪系统误差的待测样品的穆勒矩阵。本发明方法可以获得旋转补偿器型椭偏仪由元件误差导致的系统误差的解析表达式，计算过程明确，系统误差的消除方法操作简单可行，可以适用于现有不同结构类型旋转补偿器型椭偏仪。
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公开(公告)号：CN103134592B
公开(公告)日：2015-11-04
申请号：CN201310040729.7
申请日：2013-01-31
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01J3/447
Abstract: 本发明公开了一种透射式全穆勒矩阵光谱椭偏仪及其测量方法，方法是将起偏臂产生的调制光线投射到待测样件表面，检偏臂将待测样件反射(或透射)的光线解调并接收，通过对测量光谱进行谐波分析，计算获得待测样件的全穆勒矩阵信息，并通过非线性回归，库匹配等算法拟合提取待测样件的光学常数，特征形貌尺寸等信息。椭偏仪包括起偏臂(包括光源，透镜组，起偏器和伺服电机驱动的补偿器)，待测样件和检偏臂(包括伺服电机驱动的补偿器，检偏器，透镜组和光谱仪)。本发明可实现各种信息光电子功能材料和器件，以及纳米制造中各种纳米结构的在线测量，具有非破坏性，快速和低成本的特点。
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公开(公告)号：CN103217988B
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201310089535.6
申请日：2013-03-20
Applicant: 华中科技大学
IPC: G05D3/12
Abstract: 本发明属于广义椭偏仪的控制技术，具体为一种广义椭偏仪的同步控制系统。该同步控制系统至少包括：第一、第二中空伺服电机及其内置的增量式编码器、伺服电机控制器、两个补偿器、光谱仪、计算机和单片机。其中伺服电机控制器、光谱仪分别与计算机通过USB端口连接，单片机通过串口与计算机相连，同时单片机对应引脚又分别与两中空伺服电机编码器Z向信号线和光谱仪I/O口连接。光谱仪识别到高电平并在高电平持续时间内完成光谱数据采集；根据计时器返回时间就可以计算出光谱仪开始采集时刻两补偿器光轴的位置。该方法可以精确控制并计算出光谱仪开始采集时刻两中空伺服电机中补偿器光轴的位置，装置简易，操作简单。
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公开(公告)号：CN102508346B
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：CN201110349669.8
申请日：2011-11-08
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了提供的一种用于复合波片光轴对准的装夹装置，该装置包括电控旋转台、固定波片卡盘和旋转波片卡盘；波片支架安装在电控旋转台，固定波片卡盘与电控旋转台基座连在一起，旋转波片卡盘与电控旋转台转盘连在一起，使用时，将安装有晶片的波片支架安装在固定波片卡盘和旋转波片卡盘上。本发明提供的装夹装置可以实现在对复合波片光轴进行高精度对准时，对组成复合波片的各晶片进行夹持，并保证不同晶片间能产生高精度高分辨率的相对转动。与现有波片夹具相比，本发明所提供的装夹装置不仅能够实现对两片晶片的夹持和精确定位，而且能够使两片晶片间产生高精度高分辨率地相对转动，更适合用于复合波片光轴的对准过程。
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公开(公告)号：CN103163077A
公开(公告)日：2013-06-19
申请号：CN201310040730.X
申请日：2013-01-31
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种用于旋转器件型光谱椭偏仪系统参数的校准方法，该方法可以在一次测量中获取旋转器件型光谱椭偏仪中全光谱范围的系统参数，其方法是将任意厚度的标准样件作为待测样件，使用待校准光谱椭偏仪进行测量，对测量获得的光强谐波信号进行傅里叶分析，通过傅里叶系数序列计算获取第一个波长点的系统参数，以其作为初值，采用非线性回归算法，通过理论光谱拟合测量光谱，获得第一个波长点的系统参数。并依次以校准获得的第i个波长点的系统参数作为初值，拟合获得第i+1个波长点的系统参数，进而获得全光谱范围的系统参数。该方法具有计算速度快，校准精度高的特点，并且可以在校准系统参数后用于其它待测样件的测量而不必重复校准。
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