人造大理石成型用聚乙烯醇脱模膜、和使用其的人造大理石的制造方法

    公开(公告)号:CN112996642A

    公开(公告)日:2021-06-18

    申请号:CN201980073474.X

    申请日:2019-09-06

    Abstract: 人造大理石成型用聚乙烯醇脱模膜,其为将成为人造大理石的原料的原液供给至赋形装置而固化成型时配置于原液与赋形装置之间的脱模膜,其特征在于,该脱模膜为聚乙烯醇膜,且满足下述式(1)。由此,提供在宽泛的人造大理石的制造中,也能够抑制在两个端部处产生的褶皱、卷曲等,防止所得人造大理石的表面形状的不良,能够简化将人造大理石研削·研磨的步骤的人造大理石成型用聚乙烯醇脱模膜、和使用其的人造大理石的制造方法。4.6×10‑3≥Δn(MD)0‑1.4×10‑3≥Δn(TD)0≥1.0×10‑3(1) [式(1)中,Δn(MD)0表示在聚乙烯醇脱模膜的宽度方向中心区域、将机械运动方向的双折射率沿该膜的厚度方向上平均化而得到的值,Δn(TD)0表示在聚乙烯醇脱模膜的宽度方向中心区域、将宽度方向的双折射率沿该膜的厚度方向上平均化而得到的值]。

    聚乙烯醇系聚合物膜
    52.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112505818A

    公开(公告)日:2021-03-16

    申请号:CN202011492727.8

    申请日:2013-03-19

    Abstract: 本发明涉及聚乙烯醇系聚合物膜。提供能够收率良好地制造缺陷少的偏光膜以及偏光板的PVA系聚合物膜,和提供能够制造从PVA系聚合物膜的卷绕开始部分直至卷绕结束部分的表面特性的差异小且品质稳定的偏光膜以及偏光板的膜卷。本发明提供PVA系聚合物膜,其中,自膜表面凹陷并且面积为400μm2以上且深度为0.3μm以上的缺点的数目为0.25个/m2以下;和提供膜卷,其是长条的PVA系聚合物膜连续卷绕而成的膜卷,其中,对于自膜表面凹陷并且面积为400μm2以上且深度为0.3μm以上的缺点,PVA系聚合物膜的卷绕结束部分的该缺点的数目相对于PVA系聚合物膜的卷绕开始部分的该缺点的数目为1.4倍以下。

    聚乙烯醇膜
    53.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105723259B

    公开(公告)日:2019-05-10

    申请号:CN201480063715.X

    申请日:2014-11-13

    Abstract: [课题]提供可容易地制造偏振光膜的PVA膜,所述偏振光膜自身的色相优异,即使不使用透射率低的光学膜也能够制造色相优异的LCD,且能够制造画面明亮的LCD。[解决方案]以下斜率的最小值为‑0.84~‑0.783N/mm2·秒的PVA膜:将从PVA膜切出的宽度方向为3cm的样品以卡盘间距离为1.5cm且沿着长度方向拉伸的方式置于自动绘图仪,在30℃的水中浸渍1分钟后,在该水中以240%/分钟的速度沿着长度方向拉伸,在应力达到11.1N/mm2的时刻固定卡盘间距离,针对其后的应力的经时变化,以时间作为横轴且以应力作为纵轴进行绘图时的该图上的各点的斜率最小值。

    偏光膜
    54.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105518497B

    公开(公告)日:2018-11-16

    申请号:CN201480050164.3

    申请日:2014-09-08

    CPC classification number: G02B5/3033

    Abstract: 本发明提供了一种在正交尼克尔状态下蓝色光泄露少的薄型偏光膜。所述偏光膜是在含有PVA的基材中吸附了碘系色素,厚度为25微米以下,正交尼克尔状态下波长480nm处吸光度(A)与波长700nm处吸光度(B)的比例(A/B)为1.42以上的偏光膜,或者是设拉曼光谱法测量所述偏光膜截面而获得的膜厚度方向中央位置处的310cm‑1处信号强度(Int310)与210cm‑1处信号强度(Int210)的比例(Int310/Int210)为L,从一侧表面开始沿厚度方向向内部相对于厚度进入10%的位置处的该比例为M,从另一侧表面开始沿厚度方向向内部相对于厚度进入10%的位置处的该比例为N时(其中M≤N),2×L/(M+N)是0.91以下的偏光膜。

    聚乙烯醇系聚合物膜及其制造方法

    公开(公告)号:CN105339150B

    公开(公告)日:2018-09-07

    申请号:CN201480037068.5

    申请日:2014-06-24

    Abstract: [课题]提供在拉伸时难以断裂且薄型的PVA膜。[解决手段]厚度为50μm以下,如下的翘曲角度为200°以下的聚乙烯醇系聚合物膜。翘曲角度:针对从聚乙烯醇系聚合物膜切出的长度方向为42cm×宽度方向为4cm的矩形膜片,以从长度方向的一端(a0)向内侧进入1cm且宽度方向为4cm的直线部分(a1)被固定的方式,在从直线部分(a1)至端(a0)的部分安装压铁,以从长度方向的另一端(b0)向内侧进入1cm且宽度方向为4cm的直线部分(b1)被固定的方式,把持从直线部分(b1)至端(b0)的部分,在该状态下,以端(a0)相对于端(b0)成为下侧、长度方向成为铅直方向的方式在30℃的水中浸渍30秒钟时的、长度方向中央部的宽度方向为4cm的直线部分(c)处的翘曲角度。

    偏振膜的制造方法
    56.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105745563A

    公开(公告)日:2016-07-06

    申请号:CN201480064596.X

    申请日:2014-11-13

    Abstract: 本发明提供即使使用薄的聚乙烯醇膜的情况下,在拉伸时、干燥时等也不易发生膜的断裂,可以容易地制造偏振性能优异的偏振膜的偏振膜的制造方法。一种制造方法,其为具有将聚乙烯醇膜拉伸的拉伸工序的偏振膜的制造方法,其具有对表面附着有水的聚乙烯醇膜的宽度方向两端部喷吹气体的工序和/或使得薄状体与该表面附着有水的聚乙烯醇膜的宽度方向两端部接触的工序。优选的是,具有将聚乙烯醇膜浸渍于水的水浸渍工序,表面附着有水的聚乙烯醇膜是将通过水浸渍工序而被水浸渍的聚乙烯醇膜由水取出后得到的。

    偏光膜
    57.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105518497A

    公开(公告)日:2016-04-20

    申请号:CN201480050164.3

    申请日:2014-09-08

    CPC classification number: G02B5/3033

    Abstract: 本发明提供了一种在正交尼克尔状态下蓝色光泄露少的薄型偏光膜。所述偏光膜是在含有PVA的基材中吸附了碘系色素,厚度为25微米以下,正交尼克尔状态下波长480nm处吸光度(A)与波长700nm处吸光度(B)的比例(A/B)为1.42以上的偏光膜,或者是设拉曼光谱法测量所述偏光膜截面而获得的膜厚度方向中央位置处的310cm-1处信号强度(Int310)与210cm-1处信号强度(Int210)的比例(Int310/Int210)为L,从一侧表面开始沿厚度方向向内部相对于厚度进入10%的位置处的该比例为M,从另一侧表面开始沿厚度方向向内部相对于厚度进入10%的位置处的该比例为N时(其中M≤N),2×L/(M+N)是0.91以下的偏光膜。

    聚乙烯醇系聚合物膜及其制造方法

    公开(公告)号:CN104185652A

    公开(公告)日:2014-12-03

    申请号:CN201380015929.5

    申请日:2013-03-21

    CPC classification number: C08J5/18 C08J2329/04

    Abstract: 本发明为含有聚乙烯醇系聚合物(A)的聚乙烯醇系聚合物膜,该聚乙烯醇系聚合物膜含有选自过渡金属和铝中的至少1种金属元素(B),上述金属元素(B)的含量相对于聚乙烯醇系聚合物(A)为0.2ppm以上且50ppm以下。上述金属元素(B)优选为选自铬、铁、钴、锰、镍、钛、锌、铜以及铝中的至少1种金属元素。上述金属元素(B)优选包含铁。上述金属元素(B)优选以金属化合物的形式被含有。

    聚乙烯醇膜和聚乙烯醇膜的制造方法

    公开(公告)号:CN118829665A

    公开(公告)日:2024-10-22

    申请号:CN202380026076.9

    申请日:2023-03-08

    Inventor: 风藤修 冈本稔

    Abstract: 聚乙烯醇膜,其特征在于,其包含皂化度为98摩尔%以上、聚合度为1500~8000的聚乙烯醇,利用具备光散射检测器和粘度检测器的凝胶浸透色谱仪,在40℃的测定温度下,使用包含20mM三氟乙酸钠的六氟异丙醇作为流动相溶剂而测得的前述聚乙烯醇的绝对分子量为1×106时的特性粘度为7.5~11dl/g。这种聚乙烯醇膜的膜宽稳定,端部的厚度变动小,拉伸性优异,因此,如果使用该PVA膜,则能够高效地制造宽幅且光学性能优异的偏振膜。

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