公开(公告)号：CN101025579A

公开(公告)日：2007-08-29

申请号：CN200710000701.5

申请日：2007-01-10

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 尹锡壹 ,  金圣培 ,  郑宗铉 ,  许舜范 ,  金柄郁

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及一种抗蚀剂剥离剂组合物，尤其涉及一种包含选自具有双氧键的环状化合物、乙二醇类化合物及碳酸类化合物中的化合物的抗蚀剂剥离剂组合物。本发明的抗蚀剂剥离剂组合物可进一步包含内酯类化合物、胺或有机酸、氧化剂或其混合物。本发明的抗蚀剂剥离剂组合物，可用于去除在电路或显示元件金属布线的图形化中所使用的抗蚀剂，其对图形化金属膜上所残留的抗蚀剂具有优秀的剥离效果，并在高温下，其因挥发而引起的成分变化及药液疲劳度极小，且能将对图形化金属膜的腐蚀降到最低。

公开(公告)号：CN1950755A

公开(公告)日：2007-04-18

申请号：CN200580014564.X

申请日：2005-05-06

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 金柄郁 ,  尹锡壹 ,  金圣培 ,  金玮溶 ,  张锡唱 ,  郑宗铉

IPC: G03F7/32

CPC classification number: G03F7/425 ,  G03F7/426

Abstract: 本发明涉及一种在制作电路或显示器件图形中使用的光刻胶去除剂组合物，更具体地说，涉及一种含有胺、溶剂和防腐剂的光刻胶去除剂组合物，所述防腐剂为选自包括三唑化合物、巯基化合物、含有羟基的有机酚化合物及其混合物的组的至少一种化合物。本发明的光刻胶去除剂组合物能够容易快速地去除光刻胶膜，并且能够使图形化的金属电路的腐蚀降低至最小。

公开(公告)号：CN1904734A

公开(公告)日：2007-01-31

申请号：CN200610072635.8

申请日：2006-04-05

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 吕泰勳 ,  金柄郁 ,  尹赫敏 ,  丘冀赫 ,  尹柱豹 ,  郑义澈 ,  金东明 ,  崔相角 ,  李浩真 ,  申洪大 ,  李东赫

IPC: G03F7/008 ,  G03F7/027 ,  G03F7/004 ,  G02F1/133 ,  G02F1/1333

Abstract: 本发明提供感光性树脂组合物，该感光性树脂组合物不仅灵敏度、耐热性、解像度等性能优异，还显著提高了常温保存稳定性和透过性，适于形成LCD制造工序中的层间绝缘膜。本发明的感光性树脂组合物的特征在于，其含有a)丙烯酸类共聚物、b)1，2－二叠氮醌化合物、c)以化学式1～6中的任意一个来表示的环氧类化合物、和d)溶剂，其中所述a)丙烯酸类共聚物是通过使下述i)～iii)共聚后，除去未反应的单体而得到的：i)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐、或不饱和羧酸和不饱和羧酸酐的混合物；ii)含有羟基的烯烃类不饱和化合物；iii)烯烃类不饱和化合物。

公开(公告)号：CN1891862A

公开(公告)日：2007-01-10

申请号：CN200610092226.4

申请日：2006-06-15

Applicant: LG.菲利浦LCD株式会社 ,  东进世美肯株式会社

Inventor： 宋桂灿 ,  金钟一 ,  李坰默 ,  曺三永 ,  申贤哲 ,  金南绪

IPC: C23F1/16 ,  H01L21/302

CPC classification number: C23F1/16 ,  C09K13/06 ,  C23F1/20 ,  C23F1/26 ,  G02F1/13439 ,  G02F2001/136295

Abstract: 一种用于去除导电材料的组合物以及一种使用该组合物制造阵列基板的方法，其中该组合物可以包括大约3wt％至 15wt％的硝酸、大约40wt％至70wt％的磷酸、大约5wt％至35wt％的醋酸。该组合物还可以包括大约0.05wt％至5wt％的氯化物、大约0.01wt％至5wt％的氯稳定剂、大约0.01wt％至5wt％的pH稳定剂、以及剩余量的水。

公开(公告)号：CN1873054A

公开(公告)日：2006-12-06

申请号：CN200610084694.7

申请日：2006-05-29

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 李骐范 ,  曺三永 ,  申贤哲 ,  金南绪

IPC: C23F1/16

Abstract: 本发明提供蚀刻组合物，采用所述组合物可以以下部膜Al－Nd或Mo不产生底切现象的方式通过单一工序对构成薄膜晶体管液晶显示装置的TFT的栅极配线材料Al－Nd/Mo双层膜或Mo/Al－Nd/Mo三层膜进行湿式蚀刻，并可以获得优异的锥度，同时源极/漏极配线材料Mo单层膜也可以形成优异的轮廓。本发明的薄膜晶体管液晶显示装置的蚀刻组合物含有磷酸、硝酸、乙酸、磷酸盐阴离子表面活性剂和水。

公开(公告)号：CN1811596A

公开(公告)日：2006-08-02

申请号：CN200610002253.8

申请日：2006-01-27

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 郑义澈 ,  金柄郁 ,  金东敏 ,  尹赫敏 ,  吕泰勳 ,  金东明 ,  李浩真 ,  丘冀赫 ,  尹柱豹 ,  崔相角

IPC: G03F7/008

Abstract: 本发明提供感光性树脂组合物，该感光性树脂组合物不仅灵敏度、透过率、绝缘性、耐化学性、平滑性、涂布性等性能优异，而且特别地，其与无机质材料的粘着性也显著升高，适于形成LCD制造工序的层间绝缘膜。本发明的感光性树脂组合物含有a)丙烯酸类共聚物、b)1，2－二叠氮醌化合物、和c)溶剂，所述a)丙烯酸类共聚物是通过使下述i)～iv)进行共聚来得到的：i)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或不饱和羧酸和不饱和羧酸酐的混合物；ii)含环氧基的不饱和化合物；iii)烯烃类不饱和化合物；和iv)硅烷类单体。

公开(公告)号：CN1734351A

公开(公告)日：2006-02-15

申请号：CN200510090024.1

申请日：2005-08-09

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 郑泽晟 ,  赵显一 ,  李仁喆 ,  朴京夏 ,  白圣勇 ,  朴赞硕

IPC: G03F7/027 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1335

Abstract: 本发明提供一种隔离物用感光性树脂组合物，所述组合物不仅可以减少由于液晶滴加量不足而产生未填充区域的不良现象、可以防止由压力在滤色镜上产生的损伤、且可以克服工艺上产生的厚度偏差，而且因离子、杂质不会溶出到液晶中因而不会降低电压保持率、在液晶取向时不会产生影响，与此同时可以形成耐摩擦性优越、具有充分的电压保持率及液晶取向性、且显像性、高敏感性、热稳定性、尺寸稳定性及压缩强度优越的隔离物。本发明的隔离物用感光性树脂组合物中含有：a)选自由i)碱溶性丙烯酸酯树脂、ii)感光性树脂及iii)它们的混合物组成的组中的树脂；b)尿烷树脂；c)具有至少2个乙烯类双键的交联性单体；d)光聚合引发剂；以及e)溶剂。

公开(公告)号：CN1713077A

公开(公告)日：2005-12-28

申请号：CN200510077285.X

申请日：2005-06-21

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 金柄郁 ,  金圣培 ,  尹锡壹 ,  张锡唱

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及一种组合物，该组合物用于去除电路或显示设备的金属布线构图所用的抗蚀剂。本发明组合物含有一种碳酸亚烃酯、并可任选地含有一种叔胺或一种氧化剂。本发明组合物可以高效去除残留在已构图的金属膜上的抗蚀剂，在高温下由蒸发引起的组成变化和化学疲劳小，并且能将已构图的金属膜的腐蚀降到最低。

公开(公告)号：CN1693322A

公开(公告)日：2005-11-09

申请号：CN200510071269.X

申请日：2005-05-08

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 尹赫敏 ,  吕泰勳 ,  金东敏 ,  金柄郁 ,  丘冀赫 ,  尹柱豹 ,  郑义澈 ,  金东明

IPC: C08F220/04 ,  C08F212/08 ,  H01B3/44 ,  G02F1/136

Abstract: 本发明涉及TFT－LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法，特别是涉及包括对在溶剂下聚合i)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或者它们的混合物、ii)苯乙烯类单体、iii)环氧类单体、iv)异冰片基类单体和v)二聚环戊二烯类单体而制造的共聚物溶液进行精制的步骤的TFT－LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法、用上述方法制造的TFT－LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂及适用了上述丙烯酸类共聚物树脂的TFT－LCD用层间有机绝缘膜。如果将通过本发明制造的丙烯酸类共聚物树脂应用于TFT－LCD用正电型层间有机绝缘膜，可以提高膜的显像性和耐热性，还具有可提高透过率的效果。

公开(公告)号：CN1196032C

公开(公告)日：2005-04-06

申请号：CN99119693.7

申请日：1999-08-11

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 朴祯文 ,  吴昌一 ,  白志钦 ,  赵俊衍 ,  李相大

IPC: G03F7/42 ,  H01L21/027

Abstract: 公开了一种剥离剂，包括有机胺化合物、质子二醇醚化合物、非质子多极性化合物和烷基吡咯烷酮化合物，其中有机胺化合物的含量为10～35wt%，质子二醇醚化合物和非质子多极性化合物的总含量为60～85wt%，烷基吡咯烷酮化合物的含量为0.1～5wt%，每个都以剥离剂的总重量为基础，其中烷基吡咯烷酮化合物是选自N-环己基-2-吡咯烷酮、N-辛基-2-吡咯烷酮、N-十二烷基-2-吡咯烷酮中的至少一种。还公开了使用剥离剂的剥离方法。