公开(公告)号：CN103424983A

公开(公告)日：2013-12-04

申请号：CN201310182144.9

申请日：2013-05-16

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 深谷创一 ,  中川秀夫 ,  笹本纮平

IPC: G03F1/38 ,  G03F1/80

CPC classification number: G03F1/50 ,  G03F1/26 ,  G03F1/32 ,  G03F1/54 ,  G03F1/80

Abstract: 本发明涉及光掩模坯料及光掩模的制造方法。本发明在确保由铬系材料构成的膜的化学特性等各种特性的同时减轻对该铬系材料膜进行蚀刻时对光致抗蚀剂的负荷。在透明衬底(1)上形成有遮光膜(2)，在该遮光膜(2)上设置有硬掩模膜(3)。硬掩模膜(3)整体由含有锡的铬系材料构成。由含有锡的铬系材料构成的膜能够显著提高氯类干蚀刻时的蚀刻速度。并且，与由将铬的一部分置换成轻元素的铬系材料构成的膜相比，对氟类干蚀刻具有同等以上的蚀刻耐性。因此，对用于加工硬掩模膜的光致抗蚀剂的蚀刻负荷得到减轻，即使在使抗蚀剂膜减薄的情况下也能够进行高精度的图案转印。

公开(公告)号：CN103424980A

公开(公告)日：2013-12-04

申请号：CN201310182376.4

申请日：2013-05-16

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 深谷创一 ,  中川秀夫 ,  笹本纮平

IPC: G03F1/32

CPC classification number: G03F1/26 ,  G03F1/30 ,  G03F1/54 ,  G03F1/80

Abstract: 本发明涉及光掩模坯料、光掩模的制造方法以及相移掩模的制造方法。本发明提供能够在确保由铬系材料构成的遮光膜所要求的光学特性和化学特性等各种特性的同时提高该遮光膜的干蚀刻速度的新技术。设置在透明衬底(1)上的遮光膜(2)具有单层结构或多层结构，至少一层由含有锡的铬系材料形成。另外，该遮光膜(2)的光学浓度为2以上且4以下并且具有防反射功能。构成遮光膜(2)的由含有锡的铬系材料构成的层能够在不使遮光性降低的情况下显著提高含氧的氯类干蚀刻时的蚀刻速度。因此，将图案转印到该遮光膜上时对抗蚀剂图案和硬掩模图案的负荷得到减轻，能够以高精度进行图案转印。