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公开(公告)号：CN304800849S
公开(公告)日：2018-09-04
申请号：CN201730367011.8
申请日：2017-08-11
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 1．本外观设计产品的名称：真空成膜装置用基板导向件。
2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于真空膜沉积系统中的成膜工艺。
尤其是，本产品用于抑制或减小在薄的玻璃基板或树脂基板等被固定于基板承载件时、从承载件取出时或者在系统中形成膜中时对该基板的一部分造成的任何损伤或偏斜。
3．本外观设计产品的设计要点：在于如图所示的形状。
4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：设计1立体图。
5．指定基本设计：设计1。
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