一种兼具自动调平功能的自动对焦方法及装置

    公开(公告)号:CN112684572A

    公开(公告)日:2021-04-20

    申请号:CN202110081498.9

    申请日:2021-01-21

    Abstract: 本发明提出一种兼具自动调平功能的自动对焦方法及装置,该装置包括:激光光源,用于产生对焦光束;分束装置,用于通过两块沃拉斯顿棱镜将单束对焦光束分束为四束对焦光束;合束聚焦系统,用于将对焦光束与光学系统工作光束合束,并将对焦光束聚焦为在物镜后焦面的四个呈菱形分布的对焦光斑;镜面角锥棱镜,用于将四束对焦光束分开;共焦强度探测装置,用于将对焦光斑共焦成像,并探测像点位置的光强变化;反馈运动机构,用于将探测到的光强变化转化为相应的反馈控制信号,并根据信号驱动运动机构,带动对焦对象旋转或平移,完成自动调平和自动对焦。本发明与现有对焦装置相比,增加了自动调平功能,极大的扩展了该装置的应用范围。

    基于干涉点阵和DMD的边缘光抑制阵列并行直写装置

    公开(公告)号:CN112666804A

    公开(公告)日:2021-04-16

    申请号:CN202110049599.8

    申请日:2021-01-14

    Abstract: 本发明公开了一种基于干涉点阵和DMD的边缘光抑制阵列并行直写装置,该装置主要包含两路光:一路光通过偏振分束器产生偏振方向两两相同的四光束,四光束在物镜焦平面重叠,进行振幅和强度叠加后产生干涉点阵,点阵暗斑用作抑制涡旋光阵列;另一路光通过数字微镜器件DMD产生激发光点阵,并投影到物镜焦平面上和抑制涡旋光阵列重合,在大视场中可得到万束量级以上边缘光抑制阵列,可用于高通量超分辨的双光子直写。

    一种用于激光直写的共轴超分辨焦斑阵列产生装置

    公开(公告)号:CN112363322A

    公开(公告)日:2021-02-12

    申请号:CN202011082627.8

    申请日:2020-10-12

    Abstract: 本发明公开了一种用于激光直写的共轴超分辨焦斑阵列产生装置,属于半导体微纳加工领域,由光源模块阵列通过出射光纤输出共轴的抑制光和激发光,最后将出射光纤接口输出的光束阵列导入聚焦系统进行聚焦;每个光源模块包含抑制光激光器和激发光激光器,生成的抑制光和激发光被耦合进入同一出射光纤;该出射光纤只对抑制光波长产生特定的模式,使其聚焦后产生空心光斑,激发光束产生实心光斑,通过空心光斑对实心光斑作用区域的抑制,实现超分辨焦斑。本发明既可以实现超分辨焦斑的快速独立调控,通过出射光纤输出,即不需要额外的调制器件,又可保证两束光的绝对共轴,结构紧凑;可实现快速超衍射极限分辨率的半导体激光直写加工或成像。

    一种基于柱状矢量偏振光的超分辨激光打印装置

    公开(公告)号:CN112286014A

    公开(公告)日:2021-01-29

    申请号:CN202011378485.X

    申请日:2020-12-01

    Abstract: 本发明公开了一种基于柱状矢量偏振光的超分辨激光打印装置,属于超分辨激光微纳加工领域。直写激光器输出的光束经过声光调制器强度调制后被准直器准直为平行光束,再经过起偏器、1/2波片和涡旋半波片被转化为切向偏振光;抑制激光器输出的光束经过声光调制器强度调制后被准直器准直为平行光束,再经过起偏器、1/2波片和涡旋半波片被转化为径向向偏振光;两个柱状矢量偏振光分别依次经过两个圆锥透镜整形为环形平行光束;之后两束光进行合束变为一路光被高数值孔径物镜聚焦;环形径向偏振光聚焦成为实心光斑,环形切向偏振光聚焦成为空心暗斑;两种光斑的半高全宽都小于同等聚焦条件下的圆偏光形成的光斑,因此可以获得更高的打印分辨率。

    一种智能飞秒激光光刻胶组合物及图案化方法

    公开(公告)号:CN111999981A

    公开(公告)日:2020-11-27

    申请号:CN202010909760.X

    申请日:2020-09-02

    Abstract: 本发明公开了一种智能飞秒激光光刻胶组合物及图案化方法,该智能飞秒激光光刻胶由智能活性单体、活性稀释剂、双光子引发剂及溶剂组成;其中,智能活性单体为特殊可光聚合的N-取代丙烯酰胺类化合物;活性稀释剂为可光聚合的(甲基)丙烯酸酯类化合物;双光子引发剂为对飞秒激光具有非线性双光子吸收和引发能力的化合物。本发明智能飞秒激光光刻胶组合物可以被飞秒激光引发聚合,并对温度产生智能响应;当升高温度时,智能飞秒激光光刻胶发生均匀、稳定、可控的体积收缩,从而获得更高的分辨率和更小的特征尺寸,可以提高光刻胶的分辨率;通过控制智能活性单体的添加量可以控制光刻胶的收缩率,具有稳定可控的图案化制造能力。

    一种产生并行超分辨焦斑的方法和装置

    公开(公告)号:CN110632045A

    公开(公告)日:2019-12-31

    申请号:CN201910855174.9

    申请日:2019-09-10

    Abstract: 本发明公开了一种产生并行超分辨焦斑的方法,具体为:使用空间光调制器将激光器发出的激发光调制为多焦点的高斯光斑;激光器发出的耗尽光经过偏振分束器和方向垂直的两个光栅分成四束耗尽光,并在物镜后焦面干涉生成多焦点的空心光斑;多焦点空心耗尽光抑制多焦点高斯激发光外圈激发的荧光分子发出荧光,从而并行地获得远小于衍射极限的有效荧光信号进行显微成像和激光直写光刻。本发明还公开一种产生并行超分辨焦斑的装置。本发明能够实现超高速和超高分辨率的受激发射损耗显微成像和激光直写光刻加工。

    单晶光纤封装装置及单晶光纤传感探头

    公开(公告)号:CN118464211B

    公开(公告)日:2024-12-13

    申请号:CN202410937904.0

    申请日:2024-07-12

    Abstract: 本申请公开单晶光纤封装装置及单晶光纤传感探头。所述单晶光纤封装装置包括用于容纳单晶光纤的保护套管、截止阀和充气装置。保护套管的材质不会与单晶光纤的材质发生化学反应。充气装置通过截止阀与保护套管连通,对保护套管抽真空或向保护套管内充入保护气体。由此,利用本申请的单晶光纤封装装置可以实现充气,一定程度上增加了装置的复用性,装置内充入的气体种类和压力可根据实验需求灵活选择,还有利于保持保护套管内的气压恒定;再者,利用保护套管作为封装主体对单晶光纤封装后,单晶光纤位于封闭环境中,避免单晶光纤受外界复杂恶劣环境的污染,也能避免单晶光纤可能产生的化学反应,提高光纤的稳定性。

    聚合物光波导器件及其制备方法
    78.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117631150A

    公开(公告)日:2024-03-01

    申请号:CN202210957827.6

    申请日:2022-08-10

    Abstract: 本发明提供了光纤通信技术领域一种聚合物光波导器件及其制备方法,包括聚合物包层和纤芯,纤芯设置在聚合物包层内,纤芯两端分别连接多芯光纤,纤芯包括波导输入端、波导输出端以及波导纤芯间距变换结构,波导纤芯间距变换结构两端分别连接设置直波导,波导输入端和波导输出端分别设置在两端直波导的端部,波导纤芯间距变换结构为三维交叉结构波导;纤芯设有多根,多根纤芯通过波导纤芯间距的三维交叉结构实现间距转换本发明采用直写法工艺制备,流程简单,制备灵活,便于加工空间三维的波导结构,实现了不同规格的多芯光纤之间的耦合对接,可对多芯光纤进行间距转换和通道交织,加工效率高,器件体积小,可有效降低芯间的串扰水平。

    基于光栅光阀角色散补偿的飞秒激光扫描刻写装置及方法

    公开(公告)号:CN117590703A

    公开(公告)日:2024-02-23

    申请号:CN202311555302.0

    申请日:2023-11-21

    Abstract: 本发明公开了一种基于光栅光阀角色散补偿的飞秒激光扫描刻写装置及方法,该装置按光前进方向依次包括飞秒激光光源、第一柱面透镜、第二柱面透镜、偏振分束棱镜、光栅光阀、透镜、四分之一波片、反射镜、套筒透镜、物镜和位移台,将飞秒激光一维扩束成线光场进行激光扫描直写,并通过光栅光阀对飞秒线形光斑各子区域强度独立调控,产生任意强度分布的飞秒激光线光场,结合位移台的扫描,进行快速的线光场扫描刻写;由于光栅光阀具有衍射光栅属性,飞秒激光入射后会产生角色散,通过引入角色散补偿模块使出射光栅光阀后发散的飞秒激光不同波长原光路返回,实现角色散补偿。本发明的响应速度极快,可实现高效、灵活的灰度刻写和高均匀结构加工。

    基于微透镜阵列和DMD的高通量超分辨激光直写系统

    公开(公告)号:CN114326322B

    公开(公告)日:2024-02-13

    申请号:CN202111528094.6

    申请日:2021-12-14

    Abstract: 本发明公开了一种基于微透镜阵列和DMD的高通量超分辨激光直写系统。该系统使用一片包括m×m个镜元的微透镜阵列产生m×m束并行光束,结合紫外飞秒激光器、四光束分束器、DMD、合束器、平板光束位移元件、透镜、物镜搭建而成的光路在物镜焦平面上形成2m×2m个焦点点阵分布,将基于微透镜阵列和DMD的激光直写通量提高到原来的4倍,大幅提高直写速度,且每个焦点可由DMD独立调节光强,从而结合直写算法实现任意图形的并行超分辨激光直写。本发明可应用于微透镜阵列、衍射光学元件、光刻掩模板等的快速加工制造。

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