一种乙炔选择性加氢催化剂的制备方法

    公开(公告)号:CN105536851A

    公开(公告)日:2016-05-04

    申请号:CN201610096491.3

    申请日:2016-02-22

    摘要: 本发明公开了一种乙炔选择性加氢催化剂的制备方法,主要是解决现有技术存在的Pd颗粒尺寸分布宽、分布均匀性不佳、作为基底的金属氧化物缺乏可控的纳米结构等缺点。首先通过介孔材料提供三维纳米结构,在其上沉积金属氧化物,得到具有与介孔材料相同三维纳米结构的金属氧化物基底,然后使用原子层沉积技术沉积在金属氧化物基底表面担载纳米Pd金属颗粒,可通过不同的沉积周期数调节Pd和金属氧化物的担载量。采用本发明制备的催化剂具有三维纳米结构,比表面积大,且Pd金属粒子分散度高、分布均匀、尺度均一,在乙炔选择性加氢催化反应中显示出优良的活性、选择性和稳定性。该方法避免了浸渍法和化学镀法制备过程中存在的金属粒子尺寸分布宽、分布不均匀的特点。

    一种单质W包覆负载氧化物的硼燃料及制备方法

    公开(公告)号:CN118496046A

    公开(公告)日:2024-08-16

    申请号:CN202410476184.2

    申请日:2024-04-19

    IPC分类号: C06B33/00

    摘要: 本发明提供了一种单质W包覆负载氧化物的硼燃料及制备方法,所述的负载氧化物的硼燃料为Bi2O3/B或V2O5/B,所述的单质W包覆负载氧化物的硼燃料的表层为单质W膜,所述的内层为B,W膜与B的中间为Bi2O3颗粒或V2O5颗粒。本发明采用原子层沉积法在Bi2O3/B和V2O5/B表面沉积一层单质金属W膜以起到锚定Bi2O3和V2O5颗粒的作用,同时起到防止高温下Bi2O3和V2O5颗粒团聚长大的作用。本发明中W的沉积使复合燃料的点火更容易,并且能够增加复合燃料的放热量。本发明所采用的制备方法控制精度高,易于实现工业化,在高能固体燃料改性领域展现出良好的应用前景。

    一种B@Nb2O5复合燃料及隔绝空气水解的制备方法

    公开(公告)号:CN118325652A

    公开(公告)日:2024-07-12

    申请号:CN202410476190.8

    申请日:2024-04-19

    IPC分类号: C10L5/40 C01G33/00

    摘要: 本发明提供了一种B@Nb2O5复合燃料及制备方法,该方法以硼颗粒为载体,在隔绝空气的条件下,采用水解法在硼颗粒表面负载Nb2O5薄膜,制得B@Nb2O5复合燃料;所述的水解法是以乙醇铌和水为原料,乙醇铌与水发生水解反应生成Nb(OH)5,Nb(OH)5经高温焙烧得到Nb2O5。水解反应的反应温度为40~60℃。焙烧的温度为90~110℃。Nb2O5薄膜的厚度为0.5~6nm。Nb2O5的质量含量为1wt%~15wt%。本发明的制备方法简单、高效、重复性好,成本低。本发明制备的B@Nb2O5复合燃料具有优异的点火和燃烧性能,具有较低的起始氧化反应温度和较短的激光点火延迟时间。

    一种纳米薄膜包覆改性的轻金属氢化物及其制备方法

    公开(公告)号:CN118145601A

    公开(公告)日:2024-06-07

    申请号:CN202410131917.9

    申请日:2024-01-30

    摘要: 本发明提供了一种纳米薄膜包覆改性的轻金属氢化物及其制备方法,改性的轻金属氢化物以轻金属氢化物为核,以纳米薄膜为表面修饰层。轻金属氢化物为氢化锂、氢化铝、氢化镁或氢化锆。纳米薄膜为有机薄膜或无机‑有机杂化薄膜。纳米薄膜采用分子层沉积技术沉积在轻金属氢化物表面。纳米薄膜的质量占改性的轻金属氢化物总质量的0.1%~5%。纳米薄膜的厚度为0.01~200nm。本发明的纳米薄膜能够完整、均匀地覆盖在轻金属氢化物颗粒的全部外表面,厚度在纳米范围内精确可调,对轻金属氢化物的能量影响较小。本发明制备的纳米薄膜具有良好保型性,包覆后不会改变轻金属氢化物样品的原始形貌。

    一种模块化的ALD反应气体分布器、系统及制备涂层的方法

    公开(公告)号:CN114959651B

    公开(公告)日:2023-10-20

    申请号:CN202210561465.9

    申请日:2022-05-23

    IPC分类号: C23C16/455

    摘要: 本发明提供了一种模块化的ALD反应气体分布器、系统及制备涂层的方法,包括相对的第一气体分布单元和第二气体分布单元,第一气体分布单元和第二气体分布单元相互独立地进行气体分布;其中,多个第一布气管与多个第二布气管之间相互交替嵌入式排布,形成一个布气平面层。ALD反应系统包括带有真空泵的ALD反应腔室,ALD反应腔室内设置有沉积基底,沉积基底上方设置有气体分布器,还包括第一供气单元和第二供气单元,本发明的气体分布器有助于实现气态前驱体在基底材料表面的均匀分布,缩短反应气体扩散时间,提高沉积薄膜的质量。本发明的气体分布器用于在大尺寸基底材料表面进行原子层沉积薄膜的制备。

    一种氮化钛基电阻层的制备方法
    77.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116716593A

    公开(公告)日:2023-09-08

    申请号:CN202310431296.1

    申请日:2023-04-20

    摘要: 本发明提供了一种氮化钛基电阻层的制备方法,该方法采用原子层沉积法循环多个周期,每个周期内包括氮化钛沉积循环工艺和金属氧化物沉积循环工艺;或每个周期内包括氮化钛沉积循环工艺和金属氮化物沉积循环工艺。氮化钛基电阻层的厚度为20nm~80nm,氮化钛基电阻层的电阻值在0.01MΩ~500MΩ范围内能够调节。本发明的制备方法首次将金属氧化物或金属氮化物掺杂制备电阻值可控的电阻层薄膜。本发明的制备方法通过调节氮化钛及金属氮化物或氧化物掺杂比例,可获得厚度精确可控、电阻值大小精确可调的致密且均匀薄膜。

    一种高导热晶态氮化铝薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN116607208A

    公开(公告)日:2023-08-18

    申请号:CN202310476815.6

    申请日:2023-04-27

    IPC分类号: C30B25/00 C30B29/40

    摘要: 本发明提供了一种高导热晶态氮化铝薄膜的制备方法,该方法采用原子层沉积法进行制备,铝源为三甲基铝或三乙基铝;含氮前驱体为氨气;所述的原子层沉积反应腔的温度为300~350℃;进行多个原子层沉积的循环周期制备高导热晶态氮化铝薄膜。本发明的方法在较温和条件下,不依托于等离子体产生设备,无衬底生长、前、后处理步骤等,即实现了高导热、高质量晶态氮化铝薄膜的可控制备。本发明的方法中含氮前驱体的分解及吸附过程是氮化铝原子层沉积过程速控步骤,也是氮化铝薄膜结晶质量的决定步骤。

    一种高燃烧性能硼粉复合物及其制备方法

    公开(公告)号:CN114736086B

    公开(公告)日:2023-03-17

    申请号:CN202110023313.9

    申请日:2021-01-08

    摘要: 本发明公开了一种高燃烧性能硼粉复合物及其制备方法,包括以硼颗粒为内核,以纳米金属氧化物为中间过渡层包覆在所述硼颗粒表面,以纳米氧化铁薄膜为表层包覆在所述纳米金属氧化物表面;所述的纳米金属氧化物为氧化铝、氧化锌、氧化钛、氧化镁中的一种或多种。本发明中的纳米氧化铁薄膜和中间过渡层金属氧化物薄膜均匀的包覆于硼粉表面,通过调控原子层沉积循环次数可以实现氧化物组分和含量的精确可控。基于双金属氧化物的协同催化作用,经过原子层沉积金属氧化物和氧化铁包覆的硼粉复合物,氧化铁与硼粉的反应温度较硼粉与氧气的反应温度提前了约180℃,并且能量释放效率显著提高。