公开(公告)号：CN303612693S

公开(公告)日：2016-03-09

申请号：CN201530333246.6

申请日：2015-08-31

申请人： 中国电子科技集团公司第四十八研究所

设计人： 袁卫华 ,  易文杰 ,  彭立波 ,  舒勇东 ,  孙雪平

摘要： 1、本外观设计产品的名称：SiC离子注入机。2、本外观设计产品的用途：本外观设计产品主要用于SiC晶片离子注入。3、本外观设计的设计要点：本外观设计的设计要点在于产品的形状。4、最能表明设计要点的图片或者照片：立体图。5、后视面为非常见面，故省略后视图。

公开(公告)号：CN304461819S

公开(公告)日：2018-01-16

申请号：CN201730319829.2

申请日：2017-07-19

申请人： 中国电子科技集团公司第四十八研究所

设计人： 袁卫华 ,  魏唯 ,  王慧勇

摘要： 1．本外观设计产品的名称：激光消融机。
2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于高效背钝化PREC电池的镀膜后印刷前开槽工艺。
3．本外观设计产品的设计要点：本外观设计的设计要点在于产品的形状。
4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：立体图。