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公开(公告)号：CN113399120A
公开(公告)日：2021-09-17
申请号：CN202110264871.4
申请日：2021-03-11
申请人： 株式会社迪思科
发明人： 杉山聪
摘要： 本发明提供废液处理装置和加工粉末回收装置，从附着板去除加工屑时不使附着板破损。将切削被加工物时所排出的包含加工屑的废液积存在水槽中，使附着板浸入废液内，将附着了加工屑的附着板取出，从废液去除加工屑，废液处理装置包含：保持部，其保持附着板；上下移动机构，其使保持部上下移动；和剥取机构，其从附着板剥取包含水分的加工屑，剥取机构具有：两个空气喷嘴，它们在水平方向上平行地隔开间隙而延伸，具有喷射口；阀，其配设在将两个空气喷嘴与空气源连通的配管上；和控制单元，在使附着板进入两个空气喷嘴之间的间隙中之后，当使附着板上升时打开阀，利用从喷射口对附着板的一个面和另一个面喷射的空气的风压以非接触的方式剥取加工屑。
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公开(公告)号：CN113370042A
公开(公告)日：2021-09-10
申请号：CN202110553387.3
申请日：2021-05-20
申请人： 广州特大实业有限公司
发明人： 詹巧英
摘要： 本发明涉及立式加工中心技术领域，且公开了一种立式加工中心用加工型腔时自动去除切屑的辅助设备，包括安装座，所述安装座内部活动连接有输出轴，所述输出轴底部固定连接有传动转杆，所述传动转杆底部固定连接有连接座，所述连接座底部活动连接有切削刀头，所述传动转杆左右两侧均活动连接有传动转轮，通过输出轴转动带动传动转轮转动，传动转轮转动从而拉动往复块向上运动，此时往复块会压缩缓冲弹簧带动抽吸活塞运动，此时负压腔内部的压强减小形成一个负压，这个负压经单向隔板作用在外部因磨削产生的切屑上，从而将这些切屑经单向隔板吸附至负压腔内，从而达到了自动清理加工型腔时产生的切屑提高加工质量的效果。
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公开(公告)号：CN113352220A
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202110669296.6
申请日：2021-06-17
申请人： 黄山市恒连电子科技有限公司
发明人： 丁小兵
摘要： 本发明提供用于光纤连接器的排针成型设备及其成型方法，涉及排针成型设备领域，本发明包括支撑框架和抛光主件；所述抛光主件上方设有支撑框架，支撑框架同抛光主件相连接，用于支撑抛光主件；所述抛光主件包括冲压组件，冲压组件下方设有隔离底座，隔离底座同冲压组件相插拔连接，用于泵入气流至隔离底座内，所述冲压组件至支撑框架的上顶相固定连接；所述隔离底座顶部设有料台，冲压组件不仅限于夹持功能，其在不断下移过程中，通过向隔离底座内压入气流，以在研磨组件同隔离底座的相接入下，将气流鼓入研磨组件内，使得研磨介质在气流的冲吹中，至研磨组件内高频运动，对插入研磨组件内的排针进行断面抛光处理。
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公开(公告)号：CN110434681B
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN201910671137.2
申请日：2019-07-24
申请人： 中国科学院上海光学精密机械研究所 , 上海恒益光学精密机械有限公司
摘要： 一种大口径蓝宝石窗口元件的双面高精度抛光方法，本发明不仅可以满足大口径蓝宝石窗口元件的双面反射面形优于1/3λ，表面粗糙度优于0.3nm，平行度优于0.009，表面光洁度优于Ⅲ级的加工要求，而且工艺简单，可直接在单轴抛光机上应用，对设备要求低，可加工口径范围广，生产效率高，生产成本低。
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公开(公告)号：CN113334207A
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN202110673689.4
申请日：2021-06-17
申请人： 合肥中通抛光机械有限公司
IPC分类号： B24B21/02 , B24B21/18 , B24B21/20 , B24B41/02 , B24B57/00 , B24B57/02 , B24B41/06 , B24B47/00
摘要： 本发明涉及一种双磨头钢管内壁自动修磨机，包括左磨头机构、右磨头机构和工件旋转机构，左磨头机构和右磨头机构相对于工件旋转机构中心对称设置，左磨头机构和右磨头机构上均安装有位于框架上的行走电机，行走电机传动连接有循环带，循环带底端设有与底板相连接的导轨，框架上固定安装磨头升降电机，磨头升降电机通过传动轴固定连接有蜗杆，蜗杆一端啮合传动有涡轮并通过涡轮一体成型连接有丝杠，丝杠外壁通过滚珠设有与导向套相连接的托板。有益效果：本发明能够对打磨机构的距离和夹紧面积进行适应性调节、对物体内壁进行均匀打磨、并能够精确调整砂带和接触轮的打磨角度以及提高打磨精度和产品质量。
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公开(公告)号：CN111702646B
公开(公告)日：2021-07-13
申请号：CN202010570861.9
申请日：2020-06-22
申请人： 徐玉芝
发明人： 徐玉芝
IPC分类号： B24B29/02 , B24B41/06 , B24B47/14 , B24B47/12 , B24B57/02 , B24B57/00 , B24B47/22 , B24B41/02 , B24B41/04
摘要： 本发明涉及抛光技术领域，且公开了一种用于机械配件加工的低磨损抛光装置，包括底座，所述底座的顶部设有安装框架，所述安装框架的底部中心位置处设有液压伸缩装置，所述液压伸缩装置底部通过转动装置连接有底板，所述底板的底面对称设有两个竖杆，所述电机箱内部固定连接有驱动电机，所述电机箱的顶部一侧设有第一U型座，所述底板的底面对应位置处设有第二U型座，所述第二U型座上通过第二连接块转动连接有电动伸缩杆，所述驱动电机的输出端同轴设有打磨轮，所述底座的顶部滑动连接有圆形座，所述圆形座内滑动连接有夹持装置；本发明实现了打磨轮放置角度的调节，有效的降低了抛光的磨损，延长了装置的使用寿命。
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公开(公告)号：CN110962040B
公开(公告)日：2021-06-29
申请号：CN201910925854.3
申请日：2019-09-27
申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司
摘要： 本公开实施例提供一种研磨方法以及研磨系统，研磨系统以控制化学机械研磨浆料流入腔室以在腔室内形成浆料储存池。一旦在腔室内形成浆料储存池，所述研磨系统就将研磨头移动到位置并迫使附接到研磨头的晶片的表面与附接到腔室内的平台的研磨垫接触。晶片/垫的界面形成在被迫与研磨垫接触的晶片表面上，并且晶片/垫的界面设置在浆料储存池的上表面下方。在CMP工艺期间，所述研磨系统控制压板的水平和力和旋转以及抛光头的位置和力和旋转中的一或多者，以在晶片/垫的界面处进行晶片表面的CMP工艺。
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公开(公告)号：CN112975707A
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN202110360281.1
申请日：2021-04-02
申请人： 嘉兴宝刳机械科技有限公司
发明人： 丁路勇
IPC分类号： B24B27/033 , B24B41/04 , B24B47/04 , B24B47/20 , B24B57/00
摘要： 本发明涉及五金加工技术领域，且公开了一种圆柱状五金件加工用自动去除表面锈迹的辅助设备，包括转动轮，所述转动轮右侧固定连接有安装座，所述安装座外部活动连接有随动座，所述随动座底部活动连接有啮合板，所述啮合板底部固定连接有连接座，所述连接座内部活动连接有支撑弹簧，所述支撑弹簧底部固定连接有清洁杆，通过转动轮转动从而带动随动座转动，而由于随动座与啮合板啮合，故而随动座在转动时会施加给啮合板一个横向的推力，从而推动连接座在限位槽上滑动，而连接座在限位槽上滑动的过程中打磨盘会不断的与五金件的表面相接触，并去除其表面的锈迹，如此便达到了自动多角度对五金件进行除锈的效果。
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公开(公告)号：CN112658963A
公开(公告)日：2021-04-16
申请号：CN202011411375.9
申请日：2020-12-05
申请人： 湖州师范学院
摘要： 本发明涉及抛光设备技术领域，具体为一种电镀前预处理抛光工艺，其包括以下步骤：步骤一，进料工序，将工件与三角形磨粒同时放入研磨筒；步骤二，抛光工序，启动电机，驱动研磨筒转动；步骤三，筛选切割工序；步骤四，除废料工序，与步骤三同步进行；本发明通过磨粒在抛光工件的过程中对于磨损的磨粒进入到抛光机构中，由切割组件对磨损的磨粒进行切割后，使得三角形的磨粒重新具备棱角，在切割的同时，由除废料组件对研磨筒内的磨损废料进行收集排出，提高了磨粒抛光的抛光效果，同时减少了研磨筒内废料对工件抛光的影响。
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公开(公告)号：CN112548866A
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：CN201910915317.0
申请日：2019-09-26
申请人： 常州市大杰智能装备有限公司
发明人： 李西兵
摘要： 本发明公开一种凸轮数控打磨机床，属于数控机床技术领域，一种凸轮数控打磨机床，包括机床本体，所述机床本体顶部的中间位置处开设有油槽，且油槽的顶部设置有滤网，所述机床本体顶部的外侧安装有玻璃护壳，所述玻璃护壳的内顶部设置有喷油管，所述玻璃护壳的顶部设置有风机，且玻璃护壳的内顶部均匀安装有喷头，所述风机的输出端通过管道与喷头导通。本发明通过玻璃护壳顶部的风机配合多组喷头，使得装置在使用的过程中，利用风机进行吹气并通过喷头排出，确保玻璃护壳内表面空气能够流动，防止飞溅的油污粘连在玻璃护壳的内侧，确保了玻璃护壳的清洁，无需进行清理，同时方便对机床的工作状态进行观测。
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