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公开(公告)号:CN102112303A
公开(公告)日:2011-06-29
申请号:CN201080002238.8
申请日:2010-07-23
申请人: 多贺康训
发明人: 多贺康训
CPC分类号: B32B37/00 , B32B17/064 , B32B27/06 , B32B27/08 , B32B27/30 , B32B27/32 , B32B27/36 , B32B2037/0092 , B32B2307/40 , B32B2310/0806 , B32B2457/12 , B32B2457/20 , G02B1/105 , G02B1/14 , G02B5/3033 , Y10T428/31504
摘要: 本发明为通过接合两种接合材料所形成的接合结构体的制造方法。所述方法包括接合中间层形成步骤和接合步骤。在接合中间层步骤中,在所述两种接合材料的至少一种的接合面上形成接合中间层。所述接合中间层包含选自氢气、过热蒸汽、酒精气体、过氧化氢气体、有机金属化合物和硅烷偶联剂中的一种或多种成分。在接合步骤中,将通过接合中间层使一种在另一种之上排列的所述两种接合材料加热和/或照射电磁波。
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公开(公告)号:CN102112303B
公开(公告)日:2015-07-08
申请号:CN201080002238.8
申请日:2010-07-23
申请人: 多贺康训
发明人: 多贺康训
CPC分类号: B32B37/00 , B32B17/064 , B32B27/06 , B32B27/08 , B32B27/30 , B32B27/32 , B32B27/36 , B32B2037/0092 , B32B2307/40 , B32B2310/0806 , B32B2457/12 , B32B2457/20 , G02B1/105 , G02B1/14 , G02B5/3033 , Y10T428/31504
摘要: 本发明为通过接合两种接合材料所形成的接合结构体的制造方法。所述方法包括接合中间层形成步骤和接合步骤。在接合中间层步骤中,在所述两种接合材料的至少一种的接合面上形成接合中间层。所述接合中间层包含选自氢气、过热蒸汽、酒精气体、过氧化氢气体、有机金属化合物和硅烷偶联剂中的一种或多种成分。在接合步骤中,将通过接合中间层使一种在另一种之上排列的所述两种接合材料加热和/或照射电磁波。
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公开(公告)号:CN118742829A
公开(公告)日:2024-10-01
申请号:CN202380012409.2
申请日:2023-09-13
摘要: 一种防反射膜(2),该防反射膜(2)为了在具有防反射性和耐擦伤性的基础上抑制针对拉伸应力的裂纹产生,在基材(1)的表面具有折射率低于上述基材(1)的折射率的低折射率层(21)作为最外层,其中,上述低折射率层(21)含有硅、碳、氟和氧作为必要成分,还含有铟、锡或铋中的至少任一种作为必要成分,以氧化硅为主要成分,包含有机氟化合物。
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