一种PET二次水镀加厚用镀铜添加剂和应用其二次水镀加厚的方法

    公开(公告)号:CN117265605A

    公开(公告)日:2023-12-22

    申请号:CN202311256787.3

    申请日:2023-09-27

    IPC分类号: C25D3/38 C25D5/54

    摘要: 本申请涉及PET镀铜领域,尤其是涉及一种PET二次水镀加厚用镀铜添加剂和应用其二次水镀加厚的方法。一种PET二次水镀加厚用镀铜添加剂,其特征在于,包括以下重量份的物质:65~85份光亮剂;65~80份整平剂;75~110份润湿剂;所述光亮剂包括以下重量份物质:25~50份聚二硫二丙烷磺酸钠;15~30份N,N‑二甲基‑二硫甲酰胺丙磺酸钠;15~25份3‑巯基丙烷磺酸钠。本申请通过对镀铜添加剂进行优化,将镀铜添加剂拆分为相互独立的三组组分,每组选用的原料在实际使用过程中分次添加,相互补充并做到有效地平衡,从而有效解决了镀铜层外观不均匀的问题,提高了PET表面镀铜的效率和质量。

    一种电镀中间体及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN115260121A

    公开(公告)日:2022-11-01

    申请号:CN202210932793.5

    申请日:2022-08-04

    IPC分类号: C07D277/74 C25D3/02

    摘要: 本发明涉及一种电镀中间体及其制备方法和应用,属于电镀添加剂制备技术领域。以酸溶液为溶剂,2‑巯基苯并噻唑和顺酐进行加成反应,其反应生成的化合物经过滤、碱溶解、酸化等提纯后,生成水溶性羧基巯基苯并噻唑化合物,其具有两个羧基团及一个有机杂环基团,从而提供对于金属离子优异的螯合性。前述化合物的制备过程中不易产生有毒气体,因此操作上的安全风险较低,也不会有危害环境的风险。此外,本发明的化合物的结构稳定,因此含有前述化合物的电镀添加剂即便重复使用,也不容易产生变质。

    聚二硫二丙烷磺酸钠生产过程中的除盐纯化装置及其方法

    公开(公告)号:CN106748934B

    公开(公告)日:2019-08-27

    申请号:CN201710106739.4

    申请日:2017-02-27

    IPC分类号: C07C323/66 C07C319/28

    摘要: 本发明涉及的是聚二硫二丙烷磺酸钠的技术领域,尤其是聚二硫二丙烷磺酸钠生产过程中的除盐纯化装置及其方法。其装置包括原液槽、高压泵、纳滤膜、透过液槽和离心泵,所述原液槽两侧分别通过钢管连接高压泵和离心泵,所述高压泵另一端通过钢管连接纳滤膜,所述纳滤膜一侧通过钢管连接透过液槽,所述纳滤膜相邻一侧通过钢管连接原液槽。采用该除盐纯化装置进行除盐的方法,装置简单,工艺流程短,节约成本,对环境污染污染小,氯化钠去除率可以达到98%以上。

    卧式双向驱动抛光装置
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106363518B

    公开(公告)日:2018-06-19

    申请号:CN201611040169.5

    申请日:2016-11-21

    发明人: 杭冬良

    摘要: 本发明涉及的是一种卧式双向驱动抛光装置。其包括基座、支柱、筒体、进料口、出料口、控制电箱和水平对称设置在筒体内的抛光组件,支柱垂直设置在基座上,筒体水平设置在支柱之间,筒体上端设置进料口,筒体下端设置出料口,控制电箱设置在支柱的一侧;抛光组件包括驱动电机、皮带轮、驱动轴、斜截圆柱和抛光条,驱动电机固定在基座上,驱动电机位于支柱一侧,驱动电机通过皮带轮连接驱动轴,驱动轴水平插入式设置在筒体两端,驱动轴端部固定斜截圆柱,斜截圆柱上固定抛光条。该卧式双向驱动抛光装置,结构简单,采用筒体密封抛光,桶内对称设置抛光组件进行抛光,节约人力和物力,抛光效率高,适用范围广,保护环境的同时也提高了抛光的质量。

    一种高压釜泄压口降温降噪装置

    公开(公告)号:CN106422980A

    公开(公告)日:2017-02-22

    申请号:CN201611020911.6

    申请日:2016-11-15

    发明人: 杭冬良

    IPC分类号: B01J3/04 B01J3/02 C25D3/02

    摘要: 本发明涉及一种高压釜泄压口降温降噪装置,主要包括壳体、水循环系统、降压板、吸音板、折流板;所述壳体为空心圆柱体状,与泄压口连接端设置有进气口、另一端设置有出气口,所述壳体侧壁自内而外依次包括导热层、导流层以及隔热层,所述隔热层靠近泄压口端开设有进水口、另一端开设有出水口,所述进水口与出水口均与导流层连通;所述水循环系统包括储水箱、水泵及冷却水,所述水泵将储水箱中的冷却水不断从进水口泵入导流层;所述降压板、吸音板、折流板依次设置于自进气口向出气口延伸的方向上。本发明能够对高压釜中排出的高温高压气体进行冷却降压,同时能够大大降低排气泄压时的噪音。

    一种滤芯式滚镀槽装置
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106367798A

    公开(公告)日:2017-02-01

    申请号:CN201611026881.X

    申请日:2016-11-19

    发明人: 杭冬良

    IPC分类号: C25D17/02

    CPC分类号: C25D17/02

    摘要: 本发明涉及的是一种滤芯式滚镀槽装置。其包括箱体、电镀液、连接端板组件、滤芯式滚筒、通孔、盖板和第一驱动电机,箱体内充满电镀液,滤芯式滚筒水平设置在箱体中,所述滤芯式滚筒外侧壁上均匀设置多个通孔,滤芯式滚筒上设置盖板,滤芯式滚筒的两端均插设连接端组件,连接端组件包括传动轴、固定盘和插孔,固定盘的一端面上设置有插孔,固定盘的另一端面中部连接传动轴;第一驱动电机固定设置在箱体的侧壁上,第一驱动电机的输出端通过皮带轮连接传动轴。该滤芯式滚镀槽装置,结构简单,滚镀槽采用滤芯式的中空结构,配合滚镀槽中部设置的搅拌组件,提高滚镀槽内产品与电镀液的接触面积,缩短加工时间,提高生产效率,保证电镀产品的质量。

    一种高水解离效率双极膜和应用其连续制备3-羟基丙烷磺酸的方法

    公开(公告)号:CN117328103A

    公开(公告)日:2024-01-02

    申请号:CN202311256585.9

    申请日:2023-09-27

    摘要: 本申请涉及3‑羟基丙烷磺酸制备领域,尤其是涉及一种高水解离效率双极膜和应用其连续制备3‑羟基丙烷磺酸的方法。一种高水解离效率双极膜,包括阳离子交换膜、阴离子交换膜和中间界面改性层,所述中间界面改性层设于所述阳离子交换膜和所述阴离子交换膜之间,所述中间界面改性层包括以下重量份物质:氧化石墨烯3~8份;钛酸四丁酯80~150份;壳聚糖100~150份。本申请对双极膜结构进行优化,通过选用氧化石墨烯、钛酸四丁酯和壳聚糖为主要材料,三者之间极易形成氢键,从而减小了双极膜中间界面层的接触角,降低了双极膜的工作电压,提高中间界面层的水解离效率。

    一种高抗拉添加剂及其制备方法
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115787000A

    公开(公告)日:2023-03-14

    申请号:CN202211588687.6

    申请日:2022-12-12

    IPC分类号: C25D1/04

    摘要: 本申请涉及电镀铜箔技术领域,尤其是涉及一种高抗拉添加剂及其制备方法。一种高抗拉添加剂,包括如下重量份物质:整平剂25~60份;润湿剂6~15份;晶粒细化剂15~30份;所述整平剂包括胶原蛋白或聚乙烯吡咯烷酮中的一种或两种。本申请通过优化了高抗拉添加剂组分,选用胶原蛋白和聚乙烯吡咯烷酮作为整平剂的主要材料,能电极表面的活性位点形成吸附层,吸附层对初始成核的阻碍作用使该处沉积受到抑制,而凹处的沉积正常进行,从而降低铜箔表面的峰高并提升谷底,从而使铜箔轮廓起伏减小,表面粗糙度降低的同时,保持良好的抗拉强度。

    一种高延伸高抗拉添加剂及其制备方法和使用方法

    公开(公告)号:CN115478306A

    公开(公告)日:2022-12-16

    申请号:CN202211209526.1

    申请日:2022-09-30

    IPC分类号: C25D1/04 C25D3/38

    摘要: 本发明涉及一种高延伸高抗拉添加剂及其制备方法和使用方法,属于电解锂电铜箔技术领域。本发明以含硫基团的化合物作为光亮剂,它能够形成亚铜配合物并吸附在铜沉积位点上,起催化促进沉积,从而在一定浓度内降低铜箔粗糙度,增大抗拉强度和延伸率;高抗剂中胺类有机物的存在可以促进阳离子在活性位点吸附,不饱和键增强吸附,增大阴极极化,从而使得在有对流的情况下,减小表面微观轮廓起伏,降低表面粗糙度,增大抗拉强度和延伸率;硫脲类衍生物也具有促进沉积的效果,降低铜箔表面粗糙度,增大抗拉强度和延伸率。