一种离子层润滑结构、挤出头、设备及润滑方法

    公开(公告)号:CN108569565B

    公开(公告)日:2024-01-23

    申请号:CN201810441504.5

    申请日:2018-05-10

    发明人: 李宗津 曹香鹏

    IPC分类号: B65G53/52

    摘要: 本发明公开了一种离子层润滑结构、挤出头、设备及润滑方法,其中,离子层润滑结构包括:电源、第一导联线、第二导联线及输送管组;所述输送管组用于输送内含离子的物料,包括第一输送管道及第二输送管道,所述第一输送管道通过第一导联线与电源相连接,所述第二输送管道通过第二导联线与电源相连接;所述电源用于启动后向第一输送管道及第二输送管道供电,以便在第一输送管道及第二输送管道的内壁,与所输送物料之间分别形成离子层。本发明公开的离子层润滑结构,使得如混凝土等内含离子的物料在进行输送时,只需启动电源进行通电,即可通过在物料与输送管道内壁之间形成的离子层进行润滑,解决了内含离子物料输送时润滑成本较高的问题。