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公开(公告)号：CN109476535B
公开(公告)日：2022-01-11
申请号：CN201780022706.X
申请日：2017-03-13
IPC分类号： C03C23/00
摘要： 本发明涉及一种用于通过离子注入制造中性色减反射玻璃基板的方法，所述方法包括电离化N2源气体以便形成N的单电荷和多电荷离子的混合物，通过用包括在20kV与25kV之间的加速电压A加速并且将离子剂量设定为包括在6×1016个离子/cm2与‑5.00×1015×A/kV+2.00×1017个离子/cm2之间的值来形成N的单电荷和多电荷离子束。本发明进一步涉及中性色减反射玻璃基板，所述玻璃基板包括根据此方法通过用单电荷和多电荷离子的混合物进行离子注入而处理的区域。
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公开(公告)号：CN109689586B
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN201780022712.5
申请日：2017-03-13
IPC分类号： C03C23/00
摘要： 本发明涉及一种用于通过离子注入制造减反射玻璃基板的方法，所述方法包括选择N2或O2的源气体，电离化所述源气体以便形成N或O的单电荷和多电荷离子的混合物，通过用包括在13kV与40kV之间的加速电压A加速并且将离子剂量设定为包括在5.56×1014×A/kV+4.78×1016个离子/cm2与‑2.22×1016×A/kV+1.09×1018个离子/cm2之间的值来形成N或O的单电荷和多电荷离子束。本发明进一步涉及减反射玻璃基板，所述玻璃基板包括根据此方法通过用单电荷和多电荷离子的混合物进行离子注入而处理的区域。
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公开(公告)号：CN109963821A
公开(公告)日：2019-07-02
申请号：CN201780022685.1
申请日：2017-03-13
摘要： 本发明涉及一种用于通过离子注入制造蓝色反射玻璃基板的方法，所述方法包括电离化N2源气体以便形成N的单电荷和多电荷离子的混合物，通过用包括在15kV与35kV之间的加速电压A加速以及包括在‑9.33×1015×A/kV+3.87×1017个离子/cm2与7.50×1017个离子/cm2之间的剂量D来形成N的单电荷和多电荷离子束。本发明进一步涉及蓝色反射玻璃基板，所述玻璃基板包括根据此方法通过用单电荷和多电荷离子的混合物进行离子注入而处理的区域。
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公开(公告)号：CN109689586A
公开(公告)日：2019-04-26
申请号：CN201780022712.5
申请日：2017-03-13
IPC分类号： C03C23/00
摘要： 本发明涉及一种用于通过离子注入制造减反射玻璃基板的方法，所述方法包括选择N2或O2的源气体，电离化所述源气体以便形成N或O的单电荷和多电荷离子的混合物，通过用包括在13kV与40kV之间的加速电压A加速并且将离子剂量设定为包括在5.56×1014×A/kV+4.78×1016个离子/cm2与-2.22×1016×A/kV+1.09×1018个离子/cm2之间的值来形成N或O的单电荷和多电荷离子束。本发明进一步涉及减反射玻璃基板，所述玻璃基板包括根据此方法通过用单电荷和多电荷离子的混合物进行离子注入而处理的区域。
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公开(公告)号：CN109803939B
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN201780022716.3
申请日：2017-03-13
IPC分类号： C03C23/00
摘要： 本发明涉及一种用于通过离子注入制造耐划伤、减反射玻璃基板的方法，所述方法包括电离化N2的源气体以便形成N的单电荷和多电荷离子的混合物，通过用包括在20kV与30kV之间的加速电压加速和包括在5×1016个离子/cm2与1017个离子/cm2之间的离子剂量来形成N的单电荷和多电荷离子束。本发明进一步涉及耐划伤、减反射玻璃基板，所述玻璃基板包括根据此方法通过用单电荷和多电荷离子的混合物进行离子注入而处理的区域。
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公开(公告)号：CN109476535A
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201780022706.X
申请日：2017-03-13
IPC分类号： C03C23/00
摘要： 本发明涉及一种用于通过离子注入制造中性色减反射玻璃基板的方法，所述方法包括电离化N2源气体以便形成N的单电荷和多电荷离子的混合物，通过用包括在20kV与25kV之间的加速电压A加速并且将离子剂量设定为包括在6×1016个离子/cm2与-5.00×1015×A/kV+2.00×1017个离子/cm2之间的值来形成N的单电荷和多电荷离子束。本发明进一步涉及中性色减反射玻璃基板，所述玻璃基板包括根据此方法通过用单电荷和多电荷离子的混合物进行离子注入而处理的区域。
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公开(公告)号：CN103003340A
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN201180035146.4
申请日：2011-07-01
申请人： 奎尔技术工程公司
发明人： D·比萨尔多
CPC分类号： B05D3/068 , B32B15/04 , C08J7/123 , C23C14/48 , Y10T428/273
摘要： 通过离子束(X)在有机材料中进行单体(M)的深层(1)接枝的方法，其中：在1012离子/cm2至1018离子/cm2范围内选择每单位面积的离子剂量，以在0至3000nm的大厚度中形成自由基库(1)；在该自由基库(1)中接枝亲水和/或疏水和/或抗菌的单体(M)。由此有利地获得长期有效的具有防水和、亲水和/或抗菌性能的有机材料。
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公开(公告)号：CN107074641B
公开(公告)日：2020-08-07
申请号：CN201580056898.7
申请日：2015-10-21
IPC分类号： C03C23/00
摘要： 本发明涉及一种用于通过注入简单电荷和多电荷离子增加玻璃基板的耐划伤性的方法，所述方法包括将被处理的玻璃基板的区域的温度维持在小于或等于所述玻璃基板的玻璃化转变温度的温度下，在Ar、He、和N的离子之中选择有待被注入的离子，将用于提取所述离子的加速电压设置为包括在5kV与200kV之间的值并且将离子剂量设置为包括在1014离子/cm2与2.5×1017离子/cm2之间的值。本发明进一步涉及包括通过根据此方法注入简单电荷和多电荷离子处理的区域的玻璃基板以及其用于降低在机械接触时所述玻璃基板上划伤的可能性的用途。
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公开(公告)号：CN109790069A
公开(公告)日：2019-05-21
申请号：CN201780022718.2
申请日：2017-03-13
IPC分类号： C03C23/00
摘要： 本发明涉及一种用于通过离子注入制造可热处理的减反射玻璃基板的方法，所述方法包括选择N2、O2、或Ar的源气体，电离化所述源气体以便形成Ar、N、或O的单电荷和多电荷离子的混合物，通过用包括在15kV与60kV之间的加速电压加速并且将离子剂量设定为包括在7.5×1016与7.5×1017个离子/cm2之间的值来形成Ar、N、或O的单电荷和多电荷离子束。本发明进一步涉及可热处理的以及经热处理的减反射玻璃基板，所述玻璃基板包括根据此方法通过用单电荷和多电荷离子的混合物进行离子注入而处理的区域。
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公开(公告)号：CN107074641A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201580056898.7
申请日：2015-10-21
IPC分类号： C03C23/00
摘要： 本发明涉及一种用于通过注入简单电荷和多电荷离子增加玻璃基板的耐划伤性的方法，所述方法包括将被处理的玻璃基板的区域的温度维持在小于或等于所述玻璃基板的玻璃化转变温度的温度下，在Ar、He、和N的离子之中选择有待被注入的离子，将用于提取所述离子的加速电压设置为包括在5kV与200kV之间的值并且将离子剂量设置为包括在1014离子/cm2与2.5×1017离子/cm2之间的值。本发明进一步涉及包括通过根据此方法注入简单电荷和多电荷离子处理的区域的玻璃基板以及其用于降低在机械接触时所述玻璃基板上划伤的可能性的用途。
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