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公开(公告)号：CN118773593A
公开(公告)日：2024-10-15
申请号：CN202410868499.1
申请日：2024-07-01
申请人： 安徽应友光电科技有限公司
IPC分类号： C23C22/10
摘要： 本发明公开了一种高稳定性金属处理剂及金属件表面加工装置，涉及金属表面处理技术领域，一种高稳定性金属处理剂，包括硫酸铜、亚硒酸、磷酸、有机酸、十二烷基硫酸钠、复合添加剂，各组分所占质量百分比如下，硫酸铜5‑10％、亚硒酸10‑20％、磷酸20‑40％、有机酸10‑15％、十二烷基硫酸钠1‑1.5％、复合添加剂30‑50％。在上述技术方案中，通过硫酸铜氧化成膜剂，并配合亚硒酸、磷酸、有机酸来调节pH值，使得硫酸铜离子会与十二烷基硫酸钠在金属表面发生氧化还原反应，进而在工件的表面形成品质较好的黑色氧化膜，氧化膜具有良好的耐磨损性能，可减少摩擦，表面裂纹，进而起到延长工件的使用寿命。
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公开(公告)号：CN113234543A
公开(公告)日：2021-08-10
申请号：CN202110494236.5
申请日：2021-05-07
申请人： 安徽应友光电科技有限公司
IPC分类号： C11D1/52 , C11D3/06 , C11D3/08 , C11D3/10 , C11D3/20 , C11D3/34 , C11D3/37 , C11D3/38 , C11D3/60
摘要： 本发明涉及一种TOKI设备坩埚清洗再生剂及其制备方法，解决在洗净再生过程中存在有机物无法清除干净而影响产品品质的技术难题。TOKI设备坩埚清洗再生剂由15~25份表面活性剂、30~50份水、4~6份洗涤助剂、7~9份络合剂、4~6份缓冲剂、5~7份分散剂、5~7份阻燃剂组成；将摩尔比为2~5的正十二醇和溴化亚砜溶于石油醚，再催化剂条件下边加热，边用真空泵将废气抽入碱水中，得到正十二烷基溴；将正十二烷基溴和三甲胺在有机溶剂封闭条件下加热反应，得到正十二烷基三甲基溴化铵；然后将正十二烷基三甲基溴化铵加入醋酸，在30~40℃条件下搅拌得到十二烷基三甲基乙酰胺粗制品，将该粗制品洗涤甩干干燥，得到十二烷基三甲基乙酰胺。
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公开(公告)号：CN113231944A
公开(公告)日：2021-08-10
申请号：CN202110494225.7
申请日：2021-05-07
申请人： 安徽应友光电科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种用于大尺寸CVD腔体背板表面处理的等离子抛光设备及方法，包括平台、抛光槽、清洗槽及控制柜，所述平台顶面固接两个导轨，两个导轨上方放置有移动平台，所述移动平台底面转动连接四个导轮。本发明挂具组件内设置了两个上卡勾及两个下卡勾的间距，便于应对不同大小的工件，无需更换挂具，实用价值高，本发明中抛光槽内设置了循环系统，通过循环泵使得其内的抛光液处于流动状态，进而使得抛光液整体上下浓度均匀，不会产生浓度差，避免了因为抛光液浓度差异导致抛光表面光泽度不均匀的现象，本发明中清洗槽内采用喷头喷洗，喷洗后的水可以对工件进行浸洗，浸洗过程中，水在搅拌叶的作用下持续流动，提高了清洗质量。
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公开(公告)号：CN113201285A
公开(公告)日：2021-08-03
申请号：CN202110470629.2
申请日：2021-04-29
申请人： 安徽应友光电科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种CVD设备背板精密研磨液、制备工艺及加工方法，包括0.1‑3%的有机酸、0.1‑10%金属氧化物、0.1‑5%的PH缓冲剂、0.1‑1%的缓蚀剂、1‑10%的胶体二氧化硅、去离子水，研磨液PH值为4‑4.5。具体步骤是：将20份的电子级胶体二氧化硅加入到去离子水中，其中电子级胶体二氧化硅平均粒径为120um，缓慢加入胶体二氧化硅磨料，充分搅拌30min，再加入1份酒石酸，3份过氧化氢，0.1份改性咪唑啉衍生物，分散其中后，加入PH缓冲剂三乙醇胺进行酸碱平衡，调节PH至4.2，制作成精密研磨液。通过精细研磨的方法，去除附着在背板表面的污染物，同时将部件的损耗降低到最小水平，保证背板表面再生后粗糙度与光亮度，降低设备复机颗粒污染风险。
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公开(公告)号：CN118875976A
公开(公告)日：2024-11-01
申请号：CN202411256137.3
申请日：2024-09-09
申请人： 安徽应友光电科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种Diffuser喷砂后表面处理GSP工艺，包括Diffuser本体和常规白刚玉砂材，且包括如下工艺步骤：将Diffuser本体与喷砂枪嘴固定并处于水平垂直状态；装入白刚玉启动喷砂机进行第一次喷砂；将Diffuser本体翻转进行第二次喷砂；将白刚玉更换为球状砂材，进行第三次喷砂；再次翻转Diffuser本体进行第四次喷砂；清理Diffuser本体表面并进行测试；通过在Diffuser本体的正反面第一次白刚玉喷砂后对喷砂材料的更换，再次对正反面进行一次喷砂；使得第一次白刚玉喷砂对Diffuser本体表面进行冲击后表面产生的大量不稳定尖端颗粒以及深谷区域的残膜得以大量清除。
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公开(公告)号：CN117802485A
公开(公告)日：2024-04-02
申请号：CN202410035122.8
申请日：2024-01-10
申请人： 安徽应友光电科技有限公司
摘要： 本发明公开了金属表面处理剂及金属表面处理系统，涉及金属表面处理技术领域，金属表面处理剂包括硫酸根化合物所组成的混合物A、亚硒酸、钼酸钠、乳化剂、络合剂各组分所占质量百分比如下以及以下组分所形成的处理剂，混合物A 20‑30％、亚硒酸6‑12％、钼酸钠5‑10％、乳化剂12‑20％、络合剂20‑30％。所述混合物A是硫酸铜、硫酸镍、硫代硫酸钠一种或者多种。金属表面处理剂的pH 1.5～2.5。在上述技术方案中，在强酸作用下，钼酸钠的钼酸根缩合,在还原剂混合物A的作用下能迅速参与成膜反应，反应结束后ph值上升，就会开始进行Cu‑S系成膜反应，通过反应产物将钼酸钠系黑色成膜物质稳定地结合在一起,提高了表面硬度和耐磨性以及附着力。
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公开(公告)号：CN116496851A
公开(公告)日：2023-07-28
申请号：CN202310446881.9
申请日：2023-04-23
申请人： 安徽应友光电科技有限公司
IPC分类号： C11D1/831 , C11D3/20 , C11D3/30 , C11D3/60 , C07C303/32 , C07C309/10 , C11D1/14 , C11D1/72 , C11D1/74
摘要： 本发明公开了一种半导体芯片清洗剂及其制备方法，涉及半导体技术领域，由以下质量百分含量的原料组成：磺酸型含氟表面活性剂3～6％、非离子表面活性剂6～10％、络合剂0.2～1％、乙醇0～3％、二乙二醇单丁醚3～8％，余量为去离子水；其制备是将磺酸型含氟表面活性剂、非离子表面活性剂加入到去离子水中，搅拌，向其中加入乙醇和二乙二醇单丁醚，搅拌，再加入络合剂，搅拌，即得。本发明清洗剂有着卓越的清洗效果，能够有效去除半导体芯片上的锡膏、焊锡膏、助焊剂残留等，清洗后芯片表面残留物少，从而有效改善水性清洗剂对狭缝清洗不到位的现象，避免芯片表面变色，该清洗剂可适用于超声波清洗工艺或喷淋清洗工艺。
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公开(公告)号：CN115058761A
公开(公告)日：2022-09-16
申请号：CN202210500411.1
申请日：2022-05-10
申请人： 安徽应友光电科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种去除电镀镍槽液中铁离子的除铁粉的制备方法，包括以下步骤：步骤一取原料：以还原剂A及还原剂B为原料，称取定量份额的还原剂A及还原剂B备用，步骤二制备：将定量的还原剂A加入至搅拌设备内，之后再加入定量的还原剂B至搅拌设备内，充分搅拌三十分钟后，待还原剂A及还原剂B分散均匀后，即可制得除铁粉成品，步骤三成品测试：取三百毫升含有三阶铁离子的镀镍溶液。本发明先将三价铁离子还原成二价，再将二价铁离子螯合后沉淀过滤，此种粉剂配比简单，成本低廉，对槽液和待镀产品无损害，仅需在一次性加入粉剂后空气搅拌及循环过滤2小时即可，能显著提高生产效率，有效降低成本，可广泛应用于实际生产。
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公开(公告)号：CN113001027A
公开(公告)日：2021-06-22
申请号：CN202110494260.9
申请日：2021-05-07
申请人： 安徽应友光电科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种面向大尺寸CVD设备背板的精密激光抛光装置，包括底座，底座的顶部活动安装有升降式工作台，升降式工作台的顶部一侧固定安装有载物台，载物台的一侧转动安装有激光操作手臂，激光操作手臂远离载物台的一侧固定安装有电机，电机远离激光操作手臂的一侧固定安装有工作台控制器；底座和升降式工作台之间分别设有若干智能红外感应器，底座的一侧固定安装有激光控制台；载物台的顶部滑动安装有限位组件、底部滑动卡接有收集箱。
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公开(公告)号：CN111250453B
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：CN202010231908.9
申请日：2020-03-27
申请人： 安徽应友光电科技有限公司
发明人： 余妙琴
摘要： 本发明公开了一种可防止静电吸灰的显示屏擦拭装置，包括主机体，所述主机体的左侧面固设有两个固定块，所述固定块内开设有插槽，所述壳体的底面和顶面能够插入安装在所述插槽内，两个所述固定块的左侧面固设有重力块，所述主机体紧贴所述壳体的右侧面，所述主机体内设有开口向左的存放腔，所述固定块内设有开口朝显示屏的移动腔，所述存放腔的上下壁间左右滑动设有移动体，所述移动体与所述移动腔的内壁滑动连接，本发明采用自动擦拭清洗的方式，对电脑显示屏进行清洁擦拭，不仅能够减少人工清洁的复杂工序，还能有效防止显示屏静电吸附灰尘。
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